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N型MOSFET器件总剂量效应通用测试系统设计
1
作者
郭荣
梁润成
+6 位作者
李国栋
郑智睿
孙丹
韩毅
郝焕锋
陈法国
闫学文
《核电子学与探测技术》
CAS
北大核心
2024年第4期622-630,共9页
抗辐照电机驱动器研发需要准确获取电桥电路金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)器件的总剂量效应失效阈值,电流-电压、电容-电压等离线测试方法,无法真实反映器件开关性能随累...
抗辐照电机驱动器研发需要准确获取电桥电路金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)器件的总剂量效应失效阈值,电流-电压、电容-电压等离线测试方法,无法真实反映器件开关性能随累积剂量增加的连续变化过程。因此,针对MOSFET器件总剂量效应的在线测试需求,设计了基于高速信号采集及存储的通用化测试系统,具备被测样品驱动、高频信号采集、高速数据存储、数据模块管理等功能。利用典型商用MOSFET器件开展了总剂量效应测试,结果显示,当吸收剂量达598.08±41.54 Gy(Si)时,样品采集方波波形开始出现异常,低电平电压升高至0.82 V,高电平电压始终正常;随着累积剂量的增大,低电平电压持续性升高至1.08 V,并进一步升高至1.24 V,但器件开关功能保持正常;当累积剂量达1775.41±219.68 Gy(Si)时,采集波形跳变为2.93 V的直线,无方波信号输出,经判断MOSFET开关功能完全受损。
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关键词
n型mosfet
总剂量效应
失效阈值
测试系统
下载PDF
职称材料
6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式的电流特性分析
2
作者
王玉青
申君君
孙燕斌
《山西电子技术》
2008年第4期72-74,共3页
在考虑杂质不完全离化的作用下,建立了6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式下的电流解析模型。并通过模型,仿真分析了器件电流随温度的变化情况。在温度达到600k以上时,杂质的不完全离化作用对器件的影响不明显。常温下电流特性模型的仿真结果与...
在考虑杂质不完全离化的作用下,建立了6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式下的电流解析模型。并通过模型,仿真分析了器件电流随温度的变化情况。在温度达到600k以上时,杂质的不完全离化作用对器件的影响不明显。常温下电流特性模型的仿真结果与实验结果的一致性,说明了本模型的准确性。
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关键词
SIC
埋沟
n型mosfet
耗尽模式
不完全离化
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职称材料
题名
N型MOSFET器件总剂量效应通用测试系统设计
1
作者
郭荣
梁润成
李国栋
郑智睿
孙丹
韩毅
郝焕锋
陈法国
闫学文
机构
中国辐射防护研究院
核药研发转化及精准防护山西省重点实验室
出处
《核电子学与探测技术》
CAS
北大核心
2024年第4期622-630,共9页
基金
山西省基础研究计划项目(202203021222407)
山西省应用基础研究计划(20210302124486)。
文摘
抗辐照电机驱动器研发需要准确获取电桥电路金属-氧化物半导体场效应晶体管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)器件的总剂量效应失效阈值,电流-电压、电容-电压等离线测试方法,无法真实反映器件开关性能随累积剂量增加的连续变化过程。因此,针对MOSFET器件总剂量效应的在线测试需求,设计了基于高速信号采集及存储的通用化测试系统,具备被测样品驱动、高频信号采集、高速数据存储、数据模块管理等功能。利用典型商用MOSFET器件开展了总剂量效应测试,结果显示,当吸收剂量达598.08±41.54 Gy(Si)时,样品采集方波波形开始出现异常,低电平电压升高至0.82 V,高电平电压始终正常;随着累积剂量的增大,低电平电压持续性升高至1.08 V,并进一步升高至1.24 V,但器件开关功能保持正常;当累积剂量达1775.41±219.68 Gy(Si)时,采集波形跳变为2.93 V的直线,无方波信号输出,经判断MOSFET开关功能完全受损。
关键词
n型mosfet
总剂量效应
失效阈值
测试系统
Keywords
n
-type
mosfet
total io
n
izi
n
g dose effect
failure threshold
testi
n
g system
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式的电流特性分析
2
作者
王玉青
申君君
孙燕斌
机构
重庆邮电大学光电工程学院
出处
《山西电子技术》
2008年第4期72-74,共3页
文摘
在考虑杂质不完全离化的作用下,建立了6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式下的电流解析模型。并通过模型,仿真分析了器件电流随温度的变化情况。在温度达到600k以上时,杂质的不完全离化作用对器件的影响不明显。常温下电流特性模型的仿真结果与实验结果的一致性,说明了本模型的准确性。
关键词
SIC
埋沟
n型mosfet
耗尽模式
不完全离化
Keywords
silico
n
carbide
buried cha
n
n
el
n
mosfet
depletio
n
mode
i
n
complete io
n
izatio
n
of dopa
n
t
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
N型MOSFET器件总剂量效应通用测试系统设计
郭荣
梁润成
李国栋
郑智睿
孙丹
韩毅
郝焕锋
陈法国
闫学文
《核电子学与探测技术》
CAS
北大核心
2024
0
下载PDF
职称材料
2
6H-SiC埋沟NMOSFET耗尽模式的电流特性分析
王玉青
申君君
孙燕斌
《山西电子技术》
2008
0
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职称材料
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