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一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
1
作者
王文君
王力元
《黑龙江大学自然科学学报》
CAS
北大核心
2007年第1期136-140,共5页
合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯...
合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯作曝光光源,研究了这些化合物的光解性质和成像性质。
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关键词
193
nm光致抗蚀剂
光产
酸
剂
n-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯
紫外吸收
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职称材料
题名
一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
1
作者
王文君
王力元
机构
中国环境管理干部学院环境科学系
北京师范大学化学系
出处
《黑龙江大学自然科学学报》
CAS
北大核心
2007年第1期136-140,共5页
基金
国家"十五""863"专项子课题(2002AA3Z13302)
文摘
合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯作曝光光源,研究了这些化合物的光解性质和成像性质。
关键词
193
nm光致抗蚀剂
光产
酸
剂
n-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯
紫外吸收
Keywords
193 nm photoresist
PAG
sulfonate N - hydroxy maleopimarimide
UV absorption
分类号
TQ57 [化学工程—精细化工]
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题名
作者
出处
发文年
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1
一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
王文君
王力元
《黑龙江大学自然科学学报》
CAS
北大核心
2007
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