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一种新型的193nm光致抗蚀剂用光产酸剂的性质分析
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作者 王文君 王力元 《黑龙江大学自然科学学报》 CAS 北大核心 2007年第1期136-140,共5页
合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯... 合成了几种N-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯,它们在常用的溶剂中有良好的溶解性,且具有良好的热稳定性。以聚乙二醇做成膜树脂,测定了这些化合物在膜层中的紫外吸收强度,表明它们在193nm处具有适当的吸收和良好的透明性。以254nm低压汞灯作曝光光源,研究了这些化合物的光解性质和成像性质。 展开更多
关键词 193 nm光致抗蚀剂 光产 n-羟基马来海松酸酰亚胺磺酸酯 紫外吸收
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