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硅掺杂对不同衬底的氮化铝薄膜的影响研究
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作者 王绪 杨发顺 +2 位作者 熊倩 周柳含 马奎 《原子与分子物理学报》 CAS 北大核心 2025年第5期50-56,共7页
选择硅作为N型杂质源,采用高温热扩散的方式进行实验研究.采用磁控溅射法在硅/蓝宝石衬底上外延的AlN薄膜上沉积纯硅.硅的溅射时间决定了硅层的厚度,从而决定了硅的掺杂剂量.在氮气气氛下高温(1150℃)热扩散4小时后,AlN薄膜表面的硅原... 选择硅作为N型杂质源,采用高温热扩散的方式进行实验研究.采用磁控溅射法在硅/蓝宝石衬底上外延的AlN薄膜上沉积纯硅.硅的溅射时间决定了硅层的厚度,从而决定了硅的掺杂剂量.在氮气气氛下高温(1150℃)热扩散4小时后,AlN薄膜表面的硅原子扩散进入AlN晶格,取代铝原子的位置,形成掺杂硅的AlN薄膜.有效的硅掺杂导致AlN(002)衍射峰向一个较大的角度偏移,且偏移的角度随掺杂的浓度升高而增大.且硅衬底上的样品,使用能量色散光谱仪测试结果表明,衬底硅将作为固定的扩散源扩散到薄膜中,增加非故意掺杂浓度,因此可以在整个薄膜截面内测量到硅元素.蓝宝石的衬底的样品在热扩散后出现裂纹. 展开更多
关键词 N型氮化铝 硅掺杂 磁控溅射 热扩散 衬底反扩散
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硅掺杂对AlN材料的影响研究
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作者 郭丰杰 王绪 +1 位作者 杨发顺 马奎 《贵州大学学报(自然科学版)》 2024年第6期14-18,共5页
近年来,对AlN材料的研究热度居高不下,对AlN材料的制备日益成熟,但是对掺杂的研究大多数是理论方面,而有效地掺杂是制备器件的前提之一。本文采用高温热扩散的方式对超宽禁带材料AlN进行N型掺杂实验研究。首先使用磁控溅射仪在AlN薄膜... 近年来,对AlN材料的研究热度居高不下,对AlN材料的制备日益成熟,但是对掺杂的研究大多数是理论方面,而有效地掺杂是制备器件的前提之一。本文采用高温热扩散的方式对超宽禁带材料AlN进行N型掺杂实验研究。首先使用磁控溅射仪在AlN薄膜上溅射一层Si,然后进行高温热扩散,热扩散后测试霍尔发现其电导率没有明显规律,分析原因可能是薄膜表面沉积的Si没有完全进入AlN中,表面残余的Si影响了测试结果,进一步使用ICP刻蚀设备刻蚀掉表面残留的Si。SEM测试热扩散前后的薄膜截面厚度,发现热扩散后的厚度小于热扩散前。EDS线扫模式测试其截面发现Si含量从薄膜顶部到底部呈递减趋势,符合扩散规律。XRD测试后发现掺杂后除了衬底峰其余的峰都向大角度偏移,且霍尔测试发现高温热扩散后的样品电导率从10^(-8)Ω^(-1)·cm^(-1)到10^(-5)Ω^(-1)·cm^(-1),这些都说明了AlN材料形成有效的N型掺杂。 展开更多
关键词 ALN N型掺杂 ICP刻蚀 磁控溅射 高温热扩散 电导率
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低压应用的毫米波AlN/GaN MIS-HEMT器件研制
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作者 陈晓娟 张一川 +5 位作者 袁静 高润华 殷海波 李艳奎 刘新宇 魏珂 《微电子学》 CAS 北大核心 2023年第5期904-909,共6页
提出了一种适用于低电压工作的毫米波AlN/GaN MIS-HEMT器件,开展了材料外延结构的设计,在SiC衬底上生长了AlN/GaN外延材料。基于此材料开展了器件制作,优化了高温快速退火工艺,获得良好的欧姆接触电阻。对所制备的器件进行直流测试,结... 提出了一种适用于低电压工作的毫米波AlN/GaN MIS-HEMT器件,开展了材料外延结构的设计,在SiC衬底上生长了AlN/GaN外延材料。基于此材料开展了器件制作,优化了高温快速退火工艺,获得良好的欧姆接触电阻。对所制备的器件进行直流测试,结果显示,电流输出能力为2.4 A/mm,跨导极值为518 mS/mm,小信号f_(t)达到85 GHz,f_(max)大于141 GHz。在5G毫米波段28 GHz频率点测试了大信号特性,当V_(DS)=3 V时,输出功率密度为0.55 W/mm,功率附加效率(PAE)为40.1%;当V_(DS)=6 V时,输出功率密度为1.6 W/mm,PAE达到47.8%。该器件具有低压毫米波应用的潜力。 展开更多
关键词 氮化铝/氮化硅 外延材料 低工作电压 毫米波 MIS-HEMT 氮化铝势垒
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笼状氮化铝团簇的结构特征 被引量:7
4
作者 武海顺 张富强 +1 位作者 许小红 张聪杰 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第8期1361-1367,共7页
建立了一种设计笼状氮化铝团簇的原则与方法 ,以此设计了 (AlN) n (n =2~ 4 1)团簇的几何结构 .采用量子化学AM1,HF STO 3G和HF LANL2DZ方法 ,对设计的所有分子的同分异构体进行了优化 ,筛选出最低能量构型 .完成了对最低能量构型结合... 建立了一种设计笼状氮化铝团簇的原则与方法 ,以此设计了 (AlN) n (n =2~ 4 1)团簇的几何结构 .采用量子化学AM1,HF STO 3G和HF LANL2DZ方法 ,对设计的所有分子的同分异构体进行了优化 ,筛选出最低能量构型 .完成了对最低能量构型结合能和能量二次差分值的计算 ,找到了 (AlN) n 团簇的稳定性规律 .用密度泛函理论 (DFT)的B3LYP 6 31G 方法 ,对 (AlN) n (n =8~ 15 )等 8种团簇进行了验证性的计算 ,所得结果与HF LANL2DZ方法一致 .为下一步在实验上合成较大尺寸 (AlN) n 团簇提供了理论依据 . 展开更多
关键词 笼状氮化铝团簇 量子化学 分子设计 结构 稳定性 氮化铝陶瓷
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(GaN)_n/(AlN)_n应变层超晶格的电子结构 被引量:1
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作者 王新华 王玲玲 +2 位作者 王怀玉 邓辉球 黄维清 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1934-1938,共5页
以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中... 以FreeStanding条件生长的超晶格原胞为计算模型,运用LCAORecursion方法研究了(GaN)n/(AlN)n(001)应变层超晶格的电子结构.由计算结果分析了GaN/AlN应变层超晶格中Ga,Al和N之间的成键情况及其带隙Eg随超晶格层数n的变化趋势;当超晶格中存在空位时,带隙中将形成缺陷能级.最后分析了在超晶格中引入Mg掺杂后对超晶格电子结构的影响. 展开更多
关键词 Recursion方法 (GaN)n/(AlN)n 应变层超晶格 电子结构 缺陷能级
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添加AIN对Ti(C,N)基金属陶瓷力学性能和显微组织的影响 被引量:3
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作者 刘宁 崔昆 胡镇华 《理化检验(物理分册)》 CAS 1997年第1期15-17,共3页
试验研究结果表明,适量加入AlN能够提高Ti(C,N)基金属陶瓷的抗弯强度和硬度.原因是烧结中AlN发生了分解,在粘结相中形成强化相γ’,从而强化了粘结相.
关键词 ALN粉末 金属陶瓷 力学性能 显微组织
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AlN的添加对Ti(C,N)基金属陶瓷自配副摩擦性能的影响 被引量:1
7
作者 刘俊波 熊计 +3 位作者 郭智兴 黄悦 苏志伟 夏玉琪 《四川大学学报(工程科学版)》 CSCD 北大核心 2017年第S1期189-194,共6页
Ti(C,N)基金属陶瓷材料具有优良的耐磨耐蚀性能,被广泛应用于制造刀具、模具、轴承等各种耐磨零件,但Ti(C,N)基金属陶瓷做成的滑动轴承自配副在干式摩擦工况中却受到严重的摩擦磨损。为进一步提高Ti(C,N)基金属陶瓷材料的耐磨耐蚀性,采... Ti(C,N)基金属陶瓷材料具有优良的耐磨耐蚀性能,被广泛应用于制造刀具、模具、轴承等各种耐磨零件,但Ti(C,N)基金属陶瓷做成的滑动轴承自配副在干式摩擦工况中却受到严重的摩擦磨损。为进一步提高Ti(C,N)基金属陶瓷材料的耐磨耐蚀性,采用粉末冶金的方法,制备不同AlN含量的Ti(C,N)基金属陶瓷,并对其抗弯强度、硬度、相对密度、磨损性能等力学性能进行测试,使用光学显微镜、扫描电镜、能谱仪对AlN加入后的试样显微组织进行观察,结果表明:当AlN加入时,Ti(C,N)基金属陶瓷形成典型的芯-环结构,随着AlN含量的增加,内环逐渐变得模糊,外环厚度逐渐变薄,晶粒的平均尺寸减小,孔隙度增加。在0~1.0%范围内,随着AlN的增加,Ti(C,N)基金属陶瓷的相对密度降低,硬度、抗弯强度略微升高,Ti(C,N)基金属陶瓷自配副干摩擦磨损性能先增加后减小,当AlN添加量为0.5%得到最优值。AlN的加入造成了晶粒细化强化,且其中固溶于粘结相中的Al元素对粘结相也有一定的强化作用,但AlN的添加使得Ti(C,N)基金属陶瓷的脱氮倾向增加,孔隙度增加,相对密度减小;当AlN加入量为0.5%,Ti(C,N)基金属陶瓷基体中包覆相的厚度适中,脱氮倾向不严重,基体的孔隙率较小;AlN的加入造成的晶粒细化强化与Al元素加入粘结相的强化作用占绝对主导,表现出了最优的摩擦性能。 展开更多
关键词 TI(C N)基金属陶瓷 AL N 自配副 干摩擦
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AlN含量对Ti(C,N)基金属陶瓷组织和性能的影响 被引量:3
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作者 王超锋 陈义坤 +2 位作者 刘华臣 杜学铭 姚振华 《机械工程材料》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期6-10,共5页
研究了AlN添加量(0,1%,2%,3%,质量分数)对Ti(C,N)基金属陶瓷硬度、抗弯强度以及抗氧化性能的影响。结果表明:不同AlN添加量下的金属陶瓷主要由Ti(C,N)、Ni3Al和镍相组成;随着AlN添加量增加,金属陶瓷的硬度增大,抗弯强度先增大后减小,Al... 研究了AlN添加量(0,1%,2%,3%,质量分数)对Ti(C,N)基金属陶瓷硬度、抗弯强度以及抗氧化性能的影响。结果表明:不同AlN添加量下的金属陶瓷主要由Ti(C,N)、Ni3Al和镍相组成;随着AlN添加量增加,金属陶瓷的硬度增大,抗弯强度先增大后减小,AlN添加量为2%时达到峰值;与未添加AlN相比,添加2%AlN金属陶瓷的氧化质量增加较慢,氧化膜结构更致密,抗氧化性能更好。 展开更多
关键词 AlN添加 Ti(C N)基金属陶瓷 硬度 抗弯强度 抗氧化性能
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正晶向SiC衬底上表面光滑的N极性GaN薄膜材料的生长
9
作者 沈睿 李传皓 +4 位作者 李忠辉 彭大青 张东国 杨乾坤 罗伟科 《固体电子学研究与进展》 CAS 北大核心 2022年第2期150-156,共7页
采用MOCVD技术在101.6 mm(4英寸)正晶向半绝缘C面SiC衬底上生长了厚度为1μm的GaN缓冲层。通过深入研究不同AlN成核层上生长的GaN缓冲层的性质,揭示了正晶向SiC衬底上氮极性GaN的生长机制,发现成核层表面AlN岛的密度是决定缓冲层表面形... 采用MOCVD技术在101.6 mm(4英寸)正晶向半绝缘C面SiC衬底上生长了厚度为1μm的GaN缓冲层。通过深入研究不同AlN成核层上生长的GaN缓冲层的性质,揭示了正晶向SiC衬底上氮极性GaN的生长机制,发现成核层表面AlN岛的密度是决定缓冲层表面形貌的重要参数,对后续GaN的成核以及GaN岛间的合并具有显著影响。通过在AlN成核层外延期间引入N2作为载气并且以脉冲方式供应铝源,研制的成核层表面成核岛尺寸小且致密性高,有利于促进GaN成核岛之间的横向合并,并抑制GaN缓冲层的岛状生长模式,从而获得了表面光滑的N极性GaN薄膜材料,原子力显微镜20μm×20μm扫描范围下的均方根(rms)粗糙度值为1.5 nm。此外,在表面平滑的GaN薄膜上生长的GaN/AlGaN异质结的电子输运特性也同步得到提升,这有利于N极性GaN材料的微波应用。 展开更多
关键词 N极性GaN MOCVD AlN成核层 正晶向SiC衬底 微波应用
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高锰钢开裂原因分析及预防措施 被引量:3
10
作者 张俊凯 吴峰茂 +2 位作者 莫德敏 赵燕青 张晓华 《宽厚板》 2022年第3期30-33,共4页
针对高锰钢裂纹缺陷,通过对铸坯开裂处成分、微观和宏观组织等展开深入分析研究,确定了裂纹产生的主要原因。并结合生产实际,提出了调整合金加入频次、适当降低浇铸温度和浇铸速度、对铸坯加热温度的精准控制以及保证透烧等工艺改进措施... 针对高锰钢裂纹缺陷,通过对铸坯开裂处成分、微观和宏观组织等展开深入分析研究,确定了裂纹产生的主要原因。并结合生产实际,提出了调整合金加入频次、适当降低浇铸温度和浇铸速度、对铸坯加热温度的精准控制以及保证透烧等工艺改进措施,改善钢的内部质量,避免高锰钢铸坯裂纹的再次产生。 展开更多
关键词 高锰钢 裂纹 [%Al][%N]浓度积 AlN析出
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AlN/蓝宝石模板上生长的Al_(0.6)Ga_(0.4)N薄膜结构与光学性能研究
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作者 王君君 刘宁炀 +5 位作者 张康 张志清 赵维 范广涵 张娜 陈志涛 《材料研究与应用》 CAS 2014年第3期169-172,共4页
采用MOCVD方法在AlN/蓝宝石模板上生长高铝组分Al0.6Ga0.4N薄膜,并采用高分辨率XRD(HRXRD)及阴极荧光(CL)方法对其进行了表征.结果表明,AlGaN薄膜产生了相分离,其原因为厚膜中的应力弛豫及Al原子低的表面迁移率.
关键词 相分离 AlN/蓝宝石模板 AL 0.6Ga0.4N
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Effects of GaN cap layer thickness on an AlN/GaN heterostructure
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作者 赵景涛 林兆军 +3 位作者 栾崇彪 吕元杰 冯志宏 杨铭 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第12期404-407,共4页
In this study, we investigate the effects of Ga N cap layer thickness on the two-dimensional electron gas(2DEG)electron density and 2DEG electron mobility of Al N/Ga N heterostructures by using the temperature-depen... In this study, we investigate the effects of Ga N cap layer thickness on the two-dimensional electron gas(2DEG)electron density and 2DEG electron mobility of Al N/Ga N heterostructures by using the temperature-dependent Hall measurement and theoretical fitting method. The results of our analysis clearly indicate that the Ga N cap layer thickness of an Al N/Ga N heterostructure has influences on the 2DEG electron density and the electron mobility. For the Al N/Ga N heterostructures with a 3-nm Al N barrier layer, the optimized thickness of the Ga N cap layer is around 4 nm and the strained a-axis lattice constant of the Al N barrier layer is less than that of Ga N. 展开更多
关键词 AlN/Ga N heterostructure 2DEG Ga N cap layer a-axis lattice constant
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Parasitic source resistance at different temperatures for AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors
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作者 刘艳 林兆军 +5 位作者 吕元杰 崔鹏 付晨 韩瑞龙 霍宇 杨铭 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2017年第9期389-395,共7页
The parasitic source resistance(RS) of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors(HFETs) is studied in the temperature range 300–500 K. By using the measured RSand both capacitance–voltage(C–V) an... The parasitic source resistance(RS) of AlGaN/AlN/GaN heterostructure field-effect transistors(HFETs) is studied in the temperature range 300–500 K. By using the measured RSand both capacitance–voltage(C–V) and current–voltage(I–V) characteristics for the fabricated device at 300, 350, 400, 450, and 500 K, it is found that the polarization Coulomb field(PCF) scattering exhibits a significant impact on RSat the above-mentioned different temperatures. Furthermore, in the AlGaN/AlN/GaN HFETs, the interaction between the additional positive polarization charges underneath the gate contact and the additional negative polarization charges near the source Ohmic contact, which is related to the PCF scattering, is verified during the variable-temperature study of RS. 展开更多
关键词 AlGaN/AlN/Ga N heterostructure field-effect transistors(HFETs) parasitic source resistance polarization Coulomb field scattering
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Si_3N_4-AlN新型陶瓷薄膜及其特性
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作者 孙金坛 邱德润 《合肥工业大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 1993年第4期76-80,共5页
我们用直流反应溅射沉积Si_3N_4-ALN陶瓷薄膜,红外吸收光谱证明膜中含有Si-N键和Al-N键。x射线衍射证明在300℃低温下沉积的薄膜是非晶膜。此外,我们还测量了硬度、结合力、膜的应力、电阻率和光收率等,实验表明Si_SN_4-ALN膜具有高的... 我们用直流反应溅射沉积Si_3N_4-ALN陶瓷薄膜,红外吸收光谱证明膜中含有Si-N键和Al-N键。x射线衍射证明在300℃低温下沉积的薄膜是非晶膜。此外,我们还测量了硬度、结合力、膜的应力、电阻率和光收率等,实验表明Si_SN_4-ALN膜具有高的硬度和结合力,优良的机械、光、电特性。 展开更多
关键词 氮化硅 氮化铝 薄膜 结合力 陶瓷
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硅衬底GaN基LEDN极性n型欧姆接触研究 被引量:7
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作者 封飞飞 刘军林 +2 位作者 邱冲 王光绪 江风益 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期5706-5709,共4页
在Si衬底GaN基垂直结构LED的N极性n型面上,利用电子束蒸发的方法制作了Ti/Al电极,通过了I-V曲线研究了有无AlN缓冲层对这种芯片欧姆接触的影响.结果显示,去除AlN缓冲层后的N极性n型面与Ti/Al电极在500到600℃范围内退火才能形成欧姆接触... 在Si衬底GaN基垂直结构LED的N极性n型面上,利用电子束蒸发的方法制作了Ti/Al电极,通过了I-V曲线研究了有无AlN缓冲层对这种芯片欧姆接触的影响.结果显示,去除AlN缓冲层后的N极性n型面与Ti/Al电极在500到600℃范围内退火才能形成欧姆接触.而保留AlN缓冲层的N极性n型面与Ti/Al电极未退火时就表现为较好的欧姆接触,比接触电阻率为2×10-5Ω·cm2,即使退火温度升高至600℃,也始终保持着欧姆接触特性.因此,AlN缓冲层的存在是Si衬底GaN基垂直结构LED获得高热稳定性n型欧姆接触的关键. 展开更多
关键词 硅衬底 N极性 ALN缓冲层 欧姆接触
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Structure and stability of (AlN)_n clusters 被引量:2
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作者 武海顺 张聪杰 +2 位作者 许小红 郑兰荪 张乾二 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2000年第6期634-642,共9页
AIN and Al2N2 have been observed in the record of time-of-flight mass-spectra as positive ions. Associating with density functional theory(DFT) B3LYP method with 6-31G* basis set, we have carried out the optimizing ca... AIN and Al2N2 have been observed in the record of time-of-flight mass-spectra as positive ions. Associating with density functional theory(DFT) B3LYP method with 6-31G* basis set, we have carried out the optimizing calculations of the geometry, electronic state and vibrational frequency for (AIN)n (n = 1-15) clusters, moreover, discussed the character of the chemical bond and thermodynamical stability and explained the experimental mass spectra. The results show that there do not exist AI-AI and N-N bonds and only exists AI-N bond in the ground state structures of (AIN)n clusters; and the "magical number" regularity of (AIN)n is those whose atom number Is 4, 8, 12,16, 20, etc, all of which are times of four. 展开更多
关键词 (AlN)n CLUSTERS TOF MASS-SPECTRA density functional theory structure and stability VIBRATIONAL frequency.
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Structure and stability for (AlN)_n^+ and (AlN)_n^- (n=1-15) clusters
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作者 武海顺 张富强 +2 位作者 许小红 张乾二 张聪杰 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2002年第3期328-337,共10页
Using density functional theory (DFT) method with 6-31G* basis set, we have carried out the optimizing calculation of geometry, vibrational frequency and thermodynamical stability for(AIN)n+ and (AIN)n- (n =1-15) clus... Using density functional theory (DFT) method with 6-31G* basis set, we have carried out the optimizing calculation of geometry, vibrational frequency and thermodynamical stability for(AIN)n+ and (AIN)n- (n =1-15) clusters. Moreover, their ionic potential (IP) and electron affinity(EA) were discussed. The results show that the electrical charge condition of the cluster has a relatively great impact on the structure of the cluster and with the increase of n, this kind of impactis reduced gradually. There are no AI-AI and N-N bonds in the stable structure of (AIN)n+ or (AIN)n-, and the AI-N bond is the sole bond type. The magic number regularity of (AIN)n+, and (AIN)n- is consistent with that for (AIN)n, indicating that the structure with even n such as 2, 4,6, … is more stable. In addition, (AIN)10 has the maximal ionization power (9.14 eV) and the minimal electron affinity energy (0.19 eV), which manifests that (AIN)10 is more stable than other clusters. 展开更多
关键词 (AlN)n CLUSTER density functional theory structure and stability VIBRATIONAL frequency.
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Phase relationships and materials design in the Ln-Si-Al-O-N system
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作者 严东生 孙维莹 《Science China Chemistry》 SCIE EI CAS 2000年第3期225-232,共8页
Subsolidus phase relationships in the system Ln2O3-Si3N4-AIN-AI2O3, where Ln represents Nd, Sm and Dy, were summarized, with emphasis on the region involving α-sialon, β-sialon and AIN-polytypoid phases. This inform... Subsolidus phase relationships in the system Ln2O3-Si3N4-AIN-AI2O3, where Ln represents Nd, Sm and Dy, were summarized, with emphasis on the region involving α-sialon, β-sialon and AIN-polytypoid phases. This information is further used in designing the compatible matrix phases of sialon materials with desirable properties. Examples were provided to illustrate the advantage of such a basic approach to materials design. 展开更多
关键词 SI3N4 Α-SIALON Β-SIALON AIN-polytypoids Ln2O3 phase equilibrium composition design
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