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分子束外延n-GaAs/SI-GaAs薄膜材料的拉曼光谱研究
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作者 王斌 徐晓轩 +2 位作者 秦哲 宋宁 张存洲 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期2103-2106,共4页
用分子束外延(MBE)技术,在GaAs(100)衬底上生长了不同Si掺杂浓度(从1016cm-3到1018cm-3)的n-GaAs薄膜。通过在室温下拉曼光谱的测量对n-GaAs薄膜的谱形进行了分析,拉曼位移出现了明显的移动,光学横模TO峰相对的增强,光学纵模LO峰相对的... 用分子束外延(MBE)技术,在GaAs(100)衬底上生长了不同Si掺杂浓度(从1016cm-3到1018cm-3)的n-GaAs薄膜。通过在室温下拉曼光谱的测量对n-GaAs薄膜的谱形进行了分析,拉曼位移出现了明显的移动,光学横模TO峰相对的增强,光学纵模LO峰相对的减弱。文章分析了原因这是由于Si掺杂浓度不断的提高,致使界面失配位错不断地提高造成的,内部应力也在不断的增大,原来的晶格振动平衡被破坏,四价Si替代了三价Ga致使谱线移动。并且由于横声子模具有Raman活性,横声子模被相对的增强了。实验结果与理论是互相吻合的。 展开更多
关键词 分子束外延 n-gaas/SI-GaAs 掺杂浓度 拉曼光谱
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掩膜层生长导致n-GaAs表面化学组分的变化对微波器件性能的影响
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作者 陈克铭 王森 +1 位作者 陈维德 方浦明 《Journal of Semiconductors》 EI CAS 1983年第4期334-339,共6页
利用AES和ESCA能谱仪和离子剥离相结合的方法,研究了不同温度下在n型GaAs上淀积SiO_2掩膜层的n-GaAs(100)表面化学组分的变化对形成肖特基结和欧姆接触的影响.在这基础上提出,通常淀积SiO_2过程是以淀积SiO_2为主,并伴随着GaAs本体氧化... 利用AES和ESCA能谱仪和离子剥离相结合的方法,研究了不同温度下在n型GaAs上淀积SiO_2掩膜层的n-GaAs(100)表面化学组分的变化对形成肖特基结和欧姆接触的影响.在这基础上提出,通常淀积SiO_2过程是以淀积SiO_2为主,并伴随着GaAs本体氧化和As-O 键中的As挥发和氧转移到Ga上来形成附加的Ga_2O_3的两个物理过程所组成.解释了400℃淀积SiO_2掩膜层的3mm混频器各项性能优于700℃淀积SiO_2掩膜层的4mm混频器,而后者性能不够理想的原因是由于金属/n-GaAs界面处仍有β-Ga_2O_3而引起较多的界面缺陷所致.在An-Ge-Ni/GaAs界面处很薄的 β-Ga_2O_3对 An-Ce-Ni欧姆接触性能影响不大.但长期存放后在Au-Ge-Ni表面上形成的Ga_2O_3对欧姆接触就有影响. 展开更多
关键词 掩膜 n-gaas 混频器 微波器件 电子器件 淀积 肖特基结 化学组分 化学成分
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Pt/n-GaAs内场致发射电极的电化学特性研究
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作者 陈晓波 《吉林林学院学报》 1997年第2期119-121,共3页
利用化学镀方法制备Pt/nGaAs肖特基势垒内场致发射电极,并研究了氢在碱溶液中时这种电极上的电化学行为.实验结果表明,这种电极由于内场电子参加了电极反应,该电极能在水的理论分解电压为1.23V以下时分解水。
关键词 Pt/n-gaas 内场致发射电极 电化学特性
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化学沉积法制备Pt/n-GaAs肖特基结 被引量:1
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作者 张遴绍 夏永姚 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第1期15-16,14,共3页
本文报导了一种化学镀铂液在n型(N_D=10^(16))单晶GaAs上沉积金属铂制备Pt/n-GaAs肖特基结的方法,由I-V曲线和热电子发射方程,测得其势垒高度和理想因子分别为0.82eV和1.53,文中还讨论了化学沉积机理。
关键词 肖特基结 制备 化学沈积 Pt/n-gaas
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高Al组分p-Ga_(1-x)Al_xAs/p-GaAs/n-GaAs太阳电池收集效率和短路电流的理论计算 被引量:1
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作者 季良赳 《太阳能学报》 EI CAS 1983年第1期37-46,共10页
本文对p-Ga_(1-x)Al+xAs/p-GaAs/n-GaAs太阳电池收集效率的光谱响应和短路电流进行了计算,表明窗口层和窗口层漂移电场能有效地减小表面复合的影响,提高短波区的光谱响应。本文还讨论了窗口层厚度、Al组分、p-n结结深、表面复合速度和... 本文对p-Ga_(1-x)Al+xAs/p-GaAs/n-GaAs太阳电池收集效率的光谱响应和短路电流进行了计算,表明窗口层和窗口层漂移电场能有效地减小表面复合的影响,提高短波区的光谱响应。本文还讨论了窗口层厚度、Al组分、p-n结结深、表面复合速度和扩散长度对电池性能的影响。指出要得到大的短路电流,窗口层的电子扩散长度应大于窗口层厚度,p-GaAs区的电子扩散长度应大于三倍结深。在p-GaAs电子扩散长度一定的条件下,有一最佳结深,短路电流有极大值。 展开更多
关键词 太阳电池 收集效率 短路电流 p-Ga x)Al_xAs/p-GaAs/n-gaas 窗口层 AL 理论计算
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Spin Noise Spectroscopy in N-GaAs:Spin Relaxation of Localized Electrons
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作者 马健 史平 +2 位作者 钱轩 尚雅轩 姬扬 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2017年第7期215-218,共4页
Spin noise spectroscopy (SNS) of electrons in n-doped bulk GaAs is studied as functions of temperature and the probe-laser energy. Experimental results show that the SNS signal comes from localized electrons in the ... Spin noise spectroscopy (SNS) of electrons in n-doped bulk GaAs is studied as functions of temperature and the probe-laser energy. Experimental results show that the SNS signal comes from localized electrons in the donor band. The spin relaxation time of electrons~ which is retrieved from the SNS measurement, depends on the probe light energy and temperature, and it can be ascribed to the variation of electron localization degree. 展开更多
关键词 Spin Noise Spectroscopy in n-gaas:Spin Relaxation of Localized Electrons SNS SRT
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半导体/液体结太阳能转换和贮存研究进展 被引量:3
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作者 史永基 高雅利 《传感器世界》 2008年第8期6-10,30,共6页
本文综述了半导体/液体结太阳能转换器件的技术状况,介绍了其基本原理和主要测量技术,并给出了目前的研究成果:n-GaAs/KOH/Se2-Se2-2系统的太阳能-电能转换效率为12%,而其它最佳化稳定的半导体-水溶液系统的转换效率为6~10%。
关键词 半导体一液体结 光电效应 太阳能转换和贮存 无水溶剂 n-gaas/KOH/Se^2- Se^2-2 半导体系统
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窄禁带半导体n-InAs THz辐射机理的Monte Carlo研究
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作者 刘东峰 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第8期1458-1461,共4页
本文采用系综Monte Carlo方法模拟了窄禁带n-InAs和宽禁带n-GaAs的THz时域波形,从理论上证实了n-InAs的THz辐射机制是光丹培场的作用.通过定量给出表面电场和光丹培场在半导体中的空间分布,我们发现导致n-InAs的THz辐射效率比n-GaAs高... 本文采用系综Monte Carlo方法模拟了窄禁带n-InAs和宽禁带n-GaAs的THz时域波形,从理论上证实了n-InAs的THz辐射机制是光丹培场的作用.通过定量给出表面电场和光丹培场在半导体中的空间分布,我们发现导致n-InAs的THz辐射效率比n-GaAs高的一个重要原因是:在被大多数光生载流子占居的非耗尽层区域,n-InAs的电场比n-GaAs的大得多.而以前的研究工作都没有认识到这一点. 展开更多
关键词 n-InAs n-gaas THZ辐射 MONTECARLO模拟
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High quality non-rectifying contact of ITO with both Ni and n-type GaAs 被引量:1
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作者 王青松 Masao Ikeda +4 位作者 谭明 代盼 吴渊渊 陆书龙 杨辉 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2015年第5期14-18,共5页
We report the specific contact resistance for ITO with both metal and a semiconductor. Good quality ITO was deposited by electron beam evaporation with the resistivity of 2.32×10^-4 Ω.cm and an averaged transmit... We report the specific contact resistance for ITO with both metal and a semiconductor. Good quality ITO was deposited by electron beam evaporation with the resistivity of 2.32×10^-4 Ω.cm and an averaged transmittance of 92.8% in the visible light region. The circular transmission line model (c-TLM) method was used to evaluate and compare the properties of the ITO/metal and ITO/semiconductor ohmic contacts. The lowest specific contact resistance of the ITO/Ni is 2.81×10^-6 Ω.cm^2, while that oflTO/n-GaAs is 7×10^-5Ω.cm^2. This is the best ohmic contact between ITO and n-GaAs ever reported. These results suggest that good quality ITO has strong potential to be used to realize highly efficient solar cells. 展开更多
关键词 ITO electron beam evaporation ITO/n-gaas specific contact resistance
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