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NO在Cs/Ru(1010)表面上吸附的ARUPS研究
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作者 李海洋 鲍世宁 +5 位作者 张训生 范朝阳 鲍德松 魏赛珍 毛祖遂 徐亚伯 《Chinese Journal of Chemical Physics》 SCIE CAS CSCD 1997年第3期217-220,共4页
在150K的低温下,NO在清洁的Ru(1010)表面上的吸附,HeI-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru(1010)表面上是分子吸附。NO在Cs/Ru(1... 在150K的低温下,NO在清洁的Ru(1010)表面上的吸附,HeI-ARUPS显示在Ef以下9.3eV(5σ+1π)和14.6eV(4σ)处有两个峰,表明NO在Ru(1010)表面上是分子吸附。NO在Cs/Ru(1010)表面上的吸附,ARUPS测得在Ef以下6.2、9.2、11.1、12.4和14.9eV处有5个峰,和N2O气相的UPS谱比较认定它们是N2O和NO共存的结果,表明NO在Cs/Ru(1010)表面上分解后可形成N2O分子的吸附。 展开更多
关键词 一氧化氮吸附 AruPS 吸附 表面
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