期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
NTD CZ-Si708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带特性
被引量:
1
1
作者
何秀坤
王琴
李光平
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第1期58-61,共4页
本文报道了NTD CZ-Si 708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带退火特性和温度特性的研究结果.三个带产生的退火温度为350℃-550℃,500℃退火效应最明显,峰强达到最大值;10-95K变温测量峰位频移为零.10-60K时,峰强随温度...
本文报道了NTD CZ-Si 708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带退火特性和温度特性的研究结果.三个带产生的退火温度为350℃-550℃,500℃退火效应最明显,峰强达到最大值;10-95K变温测量峰位频移为零.10-60K时,峰强随温度升高而平缓增加,60K时达到最大值.在60-95K温区,峰强随温度升高而迅速下降,至100K时已全部消失.
展开更多
关键词
硅
红外吸收带
缺陷
中照
退火
下载PDF
职称材料
NTDCZSi中辐照施主的研究
2
作者
任丙彦
李伟
《电子科学学刊》
CSCD
1991年第3期332-336,共5页
本文对中子嬗变掺杂直拉硅(NTDCZSi)中辐照施主(ID)的退火行为和性质进行了研究,并探讨了不同中子辐照剂量和氧、碳含量对辐照施主形成的影响。首次报道了低于750℃热处理所产生的“施主平台”现象,并分别利用低温Hall测量和透射电镜对...
本文对中子嬗变掺杂直拉硅(NTDCZSi)中辐照施主(ID)的退火行为和性质进行了研究,并探讨了不同中子辐照剂量和氧、碳含量对辐照施主形成的影响。首次报道了低于750℃热处理所产生的“施主平台”现象,并分别利用低温Hall测量和透射电镜对其进行了研究。结果表明,ID在禁带中产生~20meV的浅施主能级,其电活性起源于硅和二氧化硅沉淀的界面态。
展开更多
关键词
直拉硅
辐照施主
中子辐照
硅
下载PDF
职称材料
题名
NTD CZ-Si708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带特性
被引量:
1
1
作者
何秀坤
王琴
李光平
机构
天津电子材料研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991年第1期58-61,共4页
文摘
本文报道了NTD CZ-Si 708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带退火特性和温度特性的研究结果.三个带产生的退火温度为350℃-550℃,500℃退火效应最明显,峰强达到最大值;10-95K变温测量峰位频移为零.10-60K时,峰强随温度升高而平缓增加,60K时达到最大值.在60-95K温区,峰强随温度升高而迅速下降,至100K时已全部消失.
关键词
硅
红外吸收带
缺陷
中照
退火
Keywords
ntd
cz
-
si
Defect
Infrared absorption band
Annealing characteristic
Temperature characteristic
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
NTDCZSi中辐照施主的研究
2
作者
任丙彦
李伟
机构
河北工学院材料研究中心
出处
《电子科学学刊》
CSCD
1991年第3期332-336,共5页
基金
国家自然科学基金
文摘
本文对中子嬗变掺杂直拉硅(NTDCZSi)中辐照施主(ID)的退火行为和性质进行了研究,并探讨了不同中子辐照剂量和氧、碳含量对辐照施主形成的影响。首次报道了低于750℃热处理所产生的“施主平台”现象,并分别利用低温Hall测量和透射电镜对其进行了研究。结果表明,ID在禁带中产生~20meV的浅施主能级,其电活性起源于硅和二氧化硅沉淀的界面态。
关键词
直拉硅
辐照施主
中子辐照
硅
Keywords
ntd cz si
Irradiation donor
Donor plateau
分类号
TN304.12 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
NTD CZ-Si708cm^(-1)、742cm^(-1)、776cm^(-1)中照缺陷红外吸收带特性
何秀坤
王琴
李光平
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1991
1
下载PDF
职称材料
2
NTDCZSi中辐照施主的研究
任丙彦
李伟
《电子科学学刊》
CSCD
1991
0
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部