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Nb/Al-AlO_(x)/Nb约瑟夫森结薄膜沉积研究 被引量:1
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作者 高鹤 王仕建 +3 位作者 徐达 李劲劲 王雪深 钟青 《计量学报》 CSCD 北大核心 2023年第5期765-770,共6页
Nb/Al-AlO x/Nb约瑟夫森结构成的低温超导器件有着广泛应用,高质量的S-I-S约瑟夫森结制备的关键之一在于制备高质量的三层膜。三层膜的质量可由许多属性参数影响,比如剩余电阻比R.R.R、超导转变温度T c、表面粗糙度、应力、铝膜厚度等... Nb/Al-AlO x/Nb约瑟夫森结构成的低温超导器件有着广泛应用,高质量的S-I-S约瑟夫森结制备的关键之一在于制备高质量的三层膜。三层膜的质量可由许多属性参数影响,比如剩余电阻比R.R.R、超导转变温度T c、表面粗糙度、应力、铝膜厚度等等。通过对薄膜的溅射沉积条件与上述参数进行分析研究,确定最佳的生长条件。调节不同的氧化工艺条件,可以获得约瑟夫森结的不同临界电流密度。 展开更多
关键词 计量学 约瑟夫森结 nb/al-alo_(x)/nb薄膜沉积 直流磁控溅射 氧化工艺
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