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磁控溅射工艺参数对NdFeB薄膜表面形貌及相结构的影响 被引量:6
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作者 傅宇东 闫牧夫 +2 位作者 郭在在 王刚 刘勇 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第B08期66-69,共4页
本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅... 本文对直流磁控溅射法制备NdFeB薄膜工艺进行了研究。采用单晶硅为基体材料,在不同的溅射功率、溅射气压、溅射时间等条件下制备薄膜。之后对薄膜进行了SEM、AFM、XRD分析结果表明,NdFeB薄膜沉积速率、表面形貌及相结构与溅射功率、溅射气压、溅射时间密切相关。并根据实验结果给出优化的NdFeB薄膜制备工艺。 展开更多
关键词 磁控溅射 ndfeb薄膜 工艺参数 表面形貌
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溅射NdFeB薄膜合金的磁各向异性
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作者 顾本喜 翟宏如 +1 位作者 H.HOMBURG S.METHFESSEL 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1991年第5期B336-B339,共4页
用RF溅射方法在不同的基片温度下制备了非晶态和晶态NdFeB溥膜合金。研究了薄膜合金的磁各向异性。在600℃溅射得到的晶态样品具有强的垂直各向异性和高的矫顽力。由非晶态晶化得到的晶态合金也呈现了较强的垂直各向异性。
关键词 ndfeb薄膜 永磁合金 各向异性
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沉积膜厚度对NdFeB薄膜形貌和磁性能的影响
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作者 张凯 张敏刚 +1 位作者 刘文峰 杨利斌 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第10期46-48,69,共4页
采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同。... 采用直流磁控溅射法,以P型单晶硅为基体材料,通过调整溅射时间制备出不同厚度的NdFeB薄膜。然后对不同厚度的薄膜运用相关仪器进行表征,结果表明,NdFeB薄膜厚度随着溅射时间的延长呈现近似线性增加,不同溅射时间段的沉积速率近似相同。矫顽力随着薄膜的厚度和Nd含量的增加而增加,薄膜中F的含量由84.01%降至81.65%,Nd含量由10.73%升至13.10%,B含量在5.25%~5.38%范围内浮动。 展开更多
关键词 磁控溅射 ndfeb薄膜 表面形貌 磁性能
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溅射功率对NdFeB薄膜形貌的影响
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作者 赵毅朝 张敏刚 +1 位作者 张凯 张佳 《山西冶金》 CAS 2011年第2期7-8,29,共3页
采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400 nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制... 采用直流磁控溅射方法在玻璃基片上制备出厚度约400 nm的NdFeB薄膜,使用不同的溅射功率,利用扫描电镜分析不同溅射功率对薄膜微观组织的影响,并采用真空退火使之晶化,使用XRD衍射仪、扫描电镜分析晶化情况及组织变化,以期得到最佳的制备工艺。通过对30,50,100 W三组样品进行对比,得出以下结论:在30 W功率下溅射,得到的样品具有最为均匀平整的组织形貌;随着溅射功率的加大,在试样非晶基体上,会出现弥散分布的富Fe相;而且随功率的增大,组织变得疏松,使得退火后仍难以得到较为良好的晶态组织。通过对100 W溅射样品退火后组织的观察,发现大功率溅射态试样的晶化会变得困难,同在550℃和15 min保温的退火条件下,100 W试样仍然存在非晶态的絮状组织,且组织不均,性能较差。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 ndfeb薄膜 组织形貌
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热处理温度对NdFeB稀土永磁薄膜磁性能的影响 被引量:1
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作者 张勤勇 蒋洪川 张万里 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2004年第4期18-20,共3页
采用直流磁控溅射法制备NdFeB稀土永磁薄膜,并对其进行了退火热处理,主要考察了热处理温度对薄膜磁性能的影响。结果表明,热处理后的薄膜磁性能显著提高,随热处理温度的升高,薄膜的磁性能逐渐升高,但当温度上升到700℃时,薄膜的磁性能... 采用直流磁控溅射法制备NdFeB稀土永磁薄膜,并对其进行了退火热处理,主要考察了热处理温度对薄膜磁性能的影响。结果表明,热处理后的薄膜磁性能显著提高,随热处理温度的升高,薄膜的磁性能逐渐升高,但当温度上升到700℃时,薄膜的磁性能迅速下降。在热处理温度为650℃时,薄膜的最佳磁性能为,矫顽力Hc=650kA/m,剩余磁感应强度Br=0.72T,最大磁能积(BH)max=74kJ/m3。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 ndfeb永磁薄膜 退火 磁性能
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高矫顽力NdFeB永磁薄膜的研究进展 被引量:1
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作者 刘文峰 张敏刚 +1 位作者 张克维 柴跃生 《磁性材料及器件》 CAS 2018年第6期52-57,共6页
NdFeB永磁材料具有优异的性能而广泛应用于各种电子器件及系统中。电子器件及系统的微型化要求NdFeB永磁材料薄膜化,而绿色经济和低碳经济的发展又扩大了对高矫顽力NdFeB永磁薄膜的需求。综合介绍了NdFeB永磁薄膜的制备方法,着重论述了... NdFeB永磁材料具有优异的性能而广泛应用于各种电子器件及系统中。电子器件及系统的微型化要求NdFeB永磁材料薄膜化,而绿色经济和低碳经济的发展又扩大了对高矫顽力NdFeB永磁薄膜的需求。综合介绍了NdFeB永磁薄膜的制备方法,着重论述了磁控溅射法制备高矫顽力Nd FeB永磁薄膜的研究进展,最后展望了高矫顽力NdFeB薄膜研究未来的发展方向。 展开更多
关键词 ndfeb永磁薄膜 高矫顽力 制备方法 磁控溅射
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NdFeB永磁薄膜的制备方法及其研究进展 被引量:1
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作者 张海杰 张敏刚 +2 位作者 刘文峰 陈峰华 李敏杰 《山西冶金》 CAS 2013年第2期1-4,11,共5页
综述了NdFeB永磁薄膜的制备方法和原理;介绍了NdFeB永磁薄膜的研究进展;指出了NdFeB永磁薄膜存在的问题;并对NdFeB永磁薄膜未来的发展方向及应用前景进行了展望。
关键词 ndfeb永磁薄膜 制备 进展
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定向沉积法对Nd_2Fe_(14)B薄膜形态和磁性能的影响 被引量:3
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作者 傅明喜 宗华 +1 位作者 李岩 查燕清 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1109-1112,共4页
采用直流励磁磁控溅射法制备NdFeB稀土永磁薄膜。研究分析了衬底预热与定向沉积法对薄膜结构和磁性能的影响。实验结果表明:定向沉积技术制备出的NdFeB薄膜表面形成单一方向的柱状晶,该柱状晶生长方向垂直于薄膜表面,使薄膜具有良好的... 采用直流励磁磁控溅射法制备NdFeB稀土永磁薄膜。研究分析了衬底预热与定向沉积法对薄膜结构和磁性能的影响。实验结果表明:定向沉积技术制备出的NdFeB薄膜表面形成单一方向的柱状晶,该柱状晶生长方向垂直于薄膜表面,使薄膜具有良好的磁各向异性,薄膜矫顽力大大提高,H⊥/H∥比值改善。在预热温度200℃逐渐加热到500℃并保温10min时,薄膜磁性能最佳。 展开更多
关键词 ndfeb薄膜 定向沉积 动态加热 磁性能
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Electroplating mechanism of nanocrystalline NdFeB film 被引量:4
9
作者 杨仲年 王萃 +1 位作者 张岩 谢彦 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2015年第3期832-837,共6页
Nanocrystalline NdFeB film was fabricated onto the copper substrate through direct current electroplating method,and characterized by scanning electron microscope(SEM) coupled with energy dispersive X-ray spectroscope... Nanocrystalline NdFeB film was fabricated onto the copper substrate through direct current electroplating method,and characterized by scanning electron microscope(SEM) coupled with energy dispersive X-ray spectroscope(EDS),vibrating sample magnetometer and potentiodynamic polarization techniques.The initial electroplating behavior was investigated by cyclic voltammetry(CV) and electrochemical impedance spectroscopy(EIS) techniques.Results revealed that the corrosion resistance of the NdFeB film was better than that of the traditional sintered NdFeB magnet.The depositing process of the NdFeB film followed the three-dimensional nucleation and subsequent grain growth mechanism,and was controlled by charger transfer.With the increase of the negative potential bias,the deposition mechanism of NdFeB film changed from heterogeneous to homogeneous nucleation/growth,which consequently resulted in the decrease of charge-transfer-resistance. 展开更多
关键词 ndfeb film ELECTRODEPOSITION CORROSION magnetic property
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Effects of Al coating on corrosion resistance of sintered NdFeB magnet 被引量:6
10
作者 陈娥 彭坤 +3 位作者 杨武霖 朱家俊 李德意 周灵平 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2014年第9期2864-2869,共6页
Pure Al coating was deposited on sintered NdFeB magnet by direct current(DC) magnetron sputtering to improve the corrosion resistance of magnet. The influences of coating thickness and sputtering power on microstruc... Pure Al coating was deposited on sintered NdFeB magnet by direct current(DC) magnetron sputtering to improve the corrosion resistance of magnet. The influences of coating thickness and sputtering power on microstructure and corrosion resistance of Al coating were investigated. The surface morphology of Al coating was characterized by scanning electron microscopy(SEM). The corrosion properties were investigated by potentiodynamic polarization curves and neutral salt spray(NSS) test. The formation of the uniform and compact Al coating is a necessary condition to achieve excellent corrosion resistance. And the optimal corrosion resistance can be obtained in the sample with 6.69 μm thick Al coating deposited at 51-82 W. 展开更多
关键词 ndfeb aluminum coatings magnetron sputtering corrosion resistance coating thickness
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NdFeB永磁薄膜的研究进展 被引量:2
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作者 郭在在 刘国玺 +3 位作者 牟晓明 燕东明 傅宇东 高鹏 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第S1期107-112,共6页
综述了NdFeB薄膜的国内外研究进展;介绍并分析NdFeB永磁薄膜的制备方法及溅射功率,溅射气压及靶基距对NdFeB薄膜的影响;概括总结NdFeB永磁薄膜的应用领域;展望NdFeB永磁薄膜的发展趋势和前景。
关键词 ndfeb薄膜 制备 溅射功率 溅射气压 靶基距
原文传递
多层及交替多层NdFeB/Nd薄膜的磁性能
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作者 张敏刚 刘丽 +1 位作者 陈峰华 李敏杰 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期270-273,共4页
采用磁控溅射法制备了Nd Fe B/Nd 2组薄膜,经650℃退火处理后,对样品进行了XRD和VSM测试分析。结果表明:对于Mo/Nd/Nd Fe B/Nd/Mo多层薄膜,当Nd Fe B/Nd厚度比为6/5时,薄膜的内禀矫顽力最好,平行和垂直方向的内禀矫顽力分别为14.5×... 采用磁控溅射法制备了Nd Fe B/Nd 2组薄膜,经650℃退火处理后,对样品进行了XRD和VSM测试分析。结果表明:对于Mo/Nd/Nd Fe B/Nd/Mo多层薄膜,当Nd Fe B/Nd厚度比为6/5时,薄膜的内禀矫顽力最好,平行和垂直方向的内禀矫顽力分别为14.5×79.6和10.5×79.6 k A·m^(-1);对于Mo/[Nd Fe B/Nd]n/Mo(n=2,5,8,10;Nd Fe B/Nd厚度比为6/5)交替多层薄膜,当周期n为8时,薄膜具有最好的磁性能,平行和垂直方向的内禀矫顽力分别为21.3×79.6和16.7×79.6 k A·m^(-1);对于Nd Fe B/Nd厚度比均为6/5的薄膜,交替多层膜的综合磁性能高于多层膜。 展开更多
关键词 磁控溅射 ndfeb/Nd薄膜 磁性能
原文传递
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