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Ni_(79)Fe_(21)-Al_2O_3纳米颗粒膜的电、磁性质
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作者 胡松青 杨渭 《河南大学学报(自然科学版)》 CAS 2002年第4期49-52,共4页
采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量x的 (Ni79Fe2 1) x(Al2 O3) 1-x纳米颗粒膜样品 .研究了电阻率 ρ与体积百分比x的关系 ,测出了逾渗阈值xρ,并对样品的巨磁电阻效应和霍尔效应进行了研究 .发现存在三个区间 :... 采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了一系列不同Ni79Fe2 1含量x的 (Ni79Fe2 1) x(Al2 O3) 1-x纳米颗粒膜样品 .研究了电阻率 ρ与体积百分比x的关系 ,测出了逾渗阈值xρ,并对样品的巨磁电阻效应和霍尔效应进行了研究 .发现存在三个区间 :(1)当x <48%时 ,在这个区间只有巨磁电阻效应 ,没有霍尔效应 ;(2 )当 48% <x <6 0 %时 ,在这个区间巨磁电阻效应和霍尔效应共存 ,且随着x的减小而增强 ;(3)当x >6 0 %时 ,在这个区间只有霍尔效应 ,没有巨磁电阻效应 . 展开更多
关键词 磁控溅射 ni79fe21-al2o3 纳米颗粒膜 逾渗阈值 巨磁电阻效应 霍尔效应 三个区间
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