Ni在酸性介质中钝化的现场X-射线衍射

采用θ-2θ型粉末衍射仪对Ni在H2SO4介质中的钝化过程进行了现场X-射线衍射(XRD)观测,同时收集Ni电极/溶液界面两侧的XRD谱图,采用差谱法分析Ni钝化前后界面两侧的结构变化。结果表明,钝化电位下,更多的H2O分子进入Ni电极表面及附近,其数目随钝化电位的升高而增大。H2O分子参与Ni的钝化过程,在Ni的钝化过程中起着重要的作用。钝化膜的厚度随着钝化电位的升高而增大。