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模板法电化学共沉积Ni-Mo合金纳米线的研究 被引量:2
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作者 徐国荣 任凤莲 +1 位作者 司士辉 易清风 《稀有金属》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期169-173,共5页
使用多孔阳极氧化铝模板, 电沉积制备了Ni-Mo合金纳米线. 用扫描电镜(SEM)和表面能谱(XPS)表征沉积物形貌和组成, 用伏安法研究了Ni-Mo合金纳米线的沉积条件及催化性能. 结果表明, Ni-Mo合金纳米线的直径在20~30 nm之间. Ni-Mo共... 使用多孔阳极氧化铝模板, 电沉积制备了Ni-Mo合金纳米线. 用扫描电镜(SEM)和表面能谱(XPS)表征沉积物形貌和组成, 用伏安法研究了Ni-Mo合金纳米线的沉积条件及催化性能. 结果表明, Ni-Mo合金纳米线的直径在20~30 nm之间. Ni-Mo共沉积的伏安图上在-1.4 V(vs Ag/AgCl)左右出现一个扩散电流平台. 光电子能谱(XPS)表明, Ni-Mo合金纳米线的共沉积电位出现在-1.4 V以后, 大于这个电位钼以低价氧化物存在. Mo-Ni离子浓度比大于2时扩散电流平台消失. 柠檬酸盐浓度达到2~3倍镍盐浓度时, 扩散电流平台趋于稳定. 在较优条件下电沉积的Ni-Mo合金纳米线显示较高的析氢催化活性. 展开更多
关键词 多孔阳极氧化铝模板 ni—mo合金纳米线 诱导共沉积 析氢反应
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离子膜电解槽用纳米Ni-Mo合金阴极的制备及其催化析氢性能 被引量:4
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作者 张卫国 王飙 +2 位作者 刘春松 张溪 姚素薇 《氯碱工业》 CAS 2006年第12期12-14,共3页
采用正交实验法确定了电沉积N i-Mo合金的最佳工艺。通过测试N i-Mo合金在模拟氯碱工业离子膜电解槽工艺条件下的阴极极化曲线,考察了N i-Mo合金电极的催化析氢性能。结果表明,当电流密度为3.0kA/m2时,N i-Mo合金电极的析氢过电位较镀... 采用正交实验法确定了电沉积N i-Mo合金的最佳工艺。通过测试N i-Mo合金在模拟氯碱工业离子膜电解槽工艺条件下的阴极极化曲线,考察了N i-Mo合金电极的催化析氢性能。结果表明,当电流密度为3.0kA/m2时,N i-Mo合金电极的析氢过电位较镀镍电极降低约400 mV,反应活化能仅为24.89 kJ/mol。扫描电镜观察到N i-Mo合金电极表面微观粗糙,X射线衍射测试结果表明,所制备的N i-Mo合金为纳米晶结构,平均晶粒尺寸为2.25 nm。 展开更多
关键词 电沉积 纳米ni—mo合金 催化析氢 离子膜电解槽
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Co88Ni12合金纳米线阵列的制备与磁性能表征 被引量:1
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作者 王孝广 潘勇 +2 位作者 王宝华 周兆锋 周益春 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第A03期1064-1067,共4页
采用直流电化学沉积方法,在多孔阳极氧化铝模板的纳米级微孔内电沉积钴镍合金,制备出直径为30nm,长度为几个微米的准一维合金纳米线(阵列)材料;随后采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM),透射电子显微镜(TEM),X射线衍射仪(XR... 采用直流电化学沉积方法,在多孔阳极氧化铝模板的纳米级微孔内电沉积钴镍合金,制备出直径为30nm,长度为几个微米的准一维合金纳米线(阵列)材料;随后采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM),透射电子显微镜(TEM),X射线衍射仪(XRD),振动样品磁强计(VSM)对纳米线的形貌、结构及其磁性能进行了相关表征与测试.发现所制备的Co88Ni12合金纳米线表面光滑,粗细均一,具有较高的长径比;呈现密排六方结构(hcp),沿[100]择优取向生长,易磁化方向沿纳米线轴向方向. 展开更多
关键词 Co88ni12合金纳米线 直流电沉积 AAO模板 磁性能
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低钼高铁纳米晶Fe-Ni-Mo合金电沉积工艺的研究
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作者 许友 江国防 《湖南理工学院学报(自然科学版)》 CAS 2009年第1期54-57,共4页
探讨了工艺条件及电解液组成对Fe-Ni-Mo合金组成的影响,得到制备低Mo高Fe含量纳米晶Fe-Ni-Mo合金的电解液组成和工艺条件.通过SEM、XRD和EDS对合金的表面形貌、微观结构的分析,结果表明:合金表面平整,结构致密,无孔洞及裂纹,晶粒属于纳... 探讨了工艺条件及电解液组成对Fe-Ni-Mo合金组成的影响,得到制备低Mo高Fe含量纳米晶Fe-Ni-Mo合金的电解液组成和工艺条件.通过SEM、XRD和EDS对合金的表面形貌、微观结构的分析,结果表明:合金表面平整,结构致密,无孔洞及裂纹,晶粒属于纳米晶,晶粒尺寸为8.8nm(111).合金为FeNi置换固溶体,面心立方晶体结构,呈现很强的(111)晶面择优取向. 展开更多
关键词 纳米 Fe—ni—mo合金 电沉积 工艺 表面形貌 微观结构
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Ni3S2/SiC复合电极的制备及光电催化性能研究 被引量:3
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作者 柳兆祥 廖欣 +2 位作者 丁丽娟 曾凡 陈建军 《浙江理工大学学报(自然科学版)》 2016年第5期776-780,共5页
采用电沉积法在碳化硅纳米线薄膜上沉积镍硫合金,制备碳化硅纳米线/镍硫合金薄膜复合电极,采用 场发射扫描电子显微镜( FESEM)、 X射线衍射( XRD)、阴极极化曲线(LSV)等分析测试方法对该薄膜的形貌、结构 和电化学性能进行了表征... 采用电沉积法在碳化硅纳米线薄膜上沉积镍硫合金,制备碳化硅纳米线/镍硫合金薄膜复合电极,采用 场发射扫描电子显微镜( FESEM)、 X射线衍射( XRD)、阴极极化曲线(LSV)等分析测试方法对该薄膜的形貌、结构 和电化学性能进行了表征.结果表明:镍硫合金沉积层主要以Ni3S2 结晶态的形式覆盖在碳化硅纳米线薄膜表面,纳米线沉积合金前直径约80 nm ,沉积后增大到100nm左右.重点研究了Ni3S2/SiC 电极在光照前后的光电性能, 在1MKOH 溶液中的LSV曲线测试表明: Ni3S2/SiC 电极的起始电压比SiC 电极减小约200mV ;在光照下Ni3S2/ SiC电极起始电压比无光照下降低约400mV (电流密度为9 mA·cm^-2),计时电位曲线测试表明电极具有很好的稳定性. 展开更多
关键词 镍硫合金 碳化硅纳米线 ni3S2/SiC电极 光电催化
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