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用膜相渗透化学镀法制备NiCo/PTFE磁性复合膜 被引量:2
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作者 陶长元 熊中平 +1 位作者 曹渊 杜军 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2005年第12期68-71,共4页
为促进金属粒子在膜孔中生成,采用膜相渗透和化学镀结合的方法,研究了化学镀N iCo/PTFE磁性复合膜的工艺。在正交试验结果基础上探讨了主盐离子浓度比、NaOH浓度、N2H4浓度、反应温度和反应时间对N iCo/PTFE复合膜中金属含量和磁性能的... 为促进金属粒子在膜孔中生成,采用膜相渗透和化学镀结合的方法,研究了化学镀N iCo/PTFE磁性复合膜的工艺。在正交试验结果基础上探讨了主盐离子浓度比、NaOH浓度、N2H4浓度、反应温度和反应时间对N iCo/PTFE复合膜中金属含量和磁性能的影响。本工艺最佳配方为:0.14 mol/L CoC l2.6H2O,0.06 mol/L N iC l2.6H2O,0.90 mol/L NaOH,0.45 mol/L C4H4O6KNa.4H2O,0.45 mol/L N2H4.H2O;最佳参数为:70~75℃,75 m in。结果表明,相对于传统的双面金属化处理,引入膜相渗透的单面活化有助于镍钴金属粒子在膜孔内原位生成。 展开更多
关键词 膜相渗透 化学镀 NiCo/FFFE 磁性复合膜 工艺
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