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Electroless plating and growth kinetics of Ni-P alloy film on SiC_p/Al composite with high SiC volume fraction 被引量:4
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作者 方萌 胡玲 +3 位作者 杨磊 史常东 吴玉程 汤文明 《Transactions of Nonferrous Metals Society of China》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第3期799-805,共7页
After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bo... After Sn/Pd activating, the SiCp/Al composite with 65% SiC (volume fraction) was coated by electroless Ni?P alloy plating. Surface morphology of the composite and its effect on the Ni?P alloy depositing process and bonding action of Ni and P atoms in the Ni?P alloy were studied. The results show that inhomogeneous distribution of the Sn/Pd activating points results in preferential deposition of the Ni?P alloy particles on the Al alloy and rough SiC particle surfaces and in the etched caves. The Ni?P alloy film has an amorphous structure where chemical bonding between Ni and P atoms exists. After a continuous Ni?P alloy film formed, electroless Ni?P alloy plating is not affected by surface morphology and characteristics of the SiCp/Al composite any longer, but by the electroless plating process itself. The Ni?P alloy film follows linear growth kinetics with an activation energy of 68.44 kJ/mol. 展开更多
关键词 SiC_p/Al composite electroless plating ni-p alloy film MICROSTRUCTURE growth kinetics
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Ni-P非晶薄膜晶化相与相变动力学的XRD分析 被引量:13
2
作者 洪波 姜传海 +1 位作者 王新建 吴建生 《金属学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期699-702,共4页
用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为.通过定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度.结果表明, Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关.在晶... 用原位XRD技术分析了连续加热过程中电沉积Ni-P薄膜晶化与相变行为.通过定量分析,确定出不同温度下各相的析出量,由此计算出各相的晶化与相变激活能以及晶化结晶度.结果表明, Ni-P非晶薄膜的晶化与相变行为与薄膜中P的含量有关.在晶化过程中出现了四种亚稳相即NiP,Ni2P,Ni12P5及Ni5P2.计算得到:亚稳相NiP,Ni2P及稳定相Ni3P的相变激活能分别为133±15,172±19及190±20 kJ/mol;单个析出相的相变激活能低于Ni-P合金晶化激活能和Ni原子的自扩散激活能. 展开更多
关键词 ni-p非晶薄膜 晶化过程 原位XRD 激活能 结晶度
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冲击划痕法测定 Ni-P 化学镀层结合强度 被引量:2
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作者 刘捍卫 陈元儒 李曙 《西南交通大学学报》 EI CSCD 北大核心 1997年第3期341-346,共6页
介绍了一种评价镀(涂)层结合强度的新方法——单摆冲击划痕法。它能有效地评价和定量地测定镀(涂)层与基材的结合强度以及冲击载荷下镀(涂)层的耐磨性能。用冲击划痕法测定Ni-P化学镀层与碳钢结合强度的试验结果表明,保持合... 介绍了一种评价镀(涂)层结合强度的新方法——单摆冲击划痕法。它能有效地评价和定量地测定镀(涂)层与基材的结合强度以及冲击载荷下镀(涂)层的耐磨性能。用冲击划痕法测定Ni-P化学镀层与碳钢结合强度的试验结果表明,保持合适的基材表面粗糙度,控制基材的含碳量以及选择适当的热处理温度可以提高Ni-P化学镀层与基材的结合强度和承载能力。 展开更多
关键词 冲击划痕法 化学镀层 结合强度 镍磷镀层
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TC4钛合金微弧氧化膜结构对化学镀Ni-P镀层结合性能的影响 被引量:8
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作者 冯长杰 王琦 +2 位作者 周雅 赵晴 杜楠 《航空材料学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第5期40-46,共7页
在TC4钛合金上制备微弧氧化不同时间的氧化膜,然后进行化学镀N i-P镀层,利用SEM、涂层附着力自动划痕仪和热震试验,研究不同微弧氧化膜结构对钛合金化学镀N i-P镀层结合性能的影响。结果表明:随着微弧氧化时间的增加,微弧氧化膜表面的... 在TC4钛合金上制备微弧氧化不同时间的氧化膜,然后进行化学镀N i-P镀层,利用SEM、涂层附着力自动划痕仪和热震试验,研究不同微弧氧化膜结构对钛合金化学镀N i-P镀层结合性能的影响。结果表明:随着微弧氧化时间的增加,微弧氧化膜表面的粗糙度增大,表面微孔逐渐变大,孔口先变成敞开形式然后慢慢缩合,最后变成凹槽状。微弧氧化时间由3m in增加至15m in,化学镀N i-P镀层与微弧氧化膜的结合性能逐渐降低,临界载荷由21.5N减少至8.5N,且化学镀层表面划痕特征由裂纹向镀层剥落发展。微弧氧化时间由15m in增加至60m in,化学镀N i-P镀层与微弧氧化膜的结合性能逐渐增加,临界载荷由8.5N增加至大于40N。热震试验结果表明,微弧氧化3m in,7m in,15m in的试样热震1次时,化学镀N i-P镀层发生严重的剥落,且在冷却过程中化学镀镍层剥落的顺序为15m in,7m in,3m in的试样,30m in的试样热震2次剥落,60m in的试样热震28次才剥落,与划痕实验的结果一致。建立了不同微弧氧化时间,TC4钛合金微弧氧化膜的结构模型,讨论了不同微弧氧化膜结构与化学镀镍层的结合强度。 展开更多
关键词 微弧氧化膜 微观结构 化学镀ni-p 钛合金 结合性能
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半导体硅上电沉积Ni-Pd-P薄膜及其结构 被引量:1
5
作者 刘冰 姚素薇 +2 位作者 郭鹤桐 袁华堂 张允什 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 1999年第1期16-20,共5页
采用控电位的沉积方式在半导体硅上制备出NiPdP薄膜,结果表明镀液中H3PO3含量的增加对P、Ni的析出有促进作用,对Pd的析出有抑制作用.随pH值的升高,镍含量不断升高,Pd、P含量不断下降.P含量对薄膜内应力... 采用控电位的沉积方式在半导体硅上制备出NiPdP薄膜,结果表明镀液中H3PO3含量的增加对P、Ni的析出有促进作用,对Pd的析出有抑制作用.随pH值的升高,镍含量不断升高,Pd、P含量不断下降.P含量对薄膜内应力有很大影响,含P质量分数为149%的NiPdP镀层表面上有许多裂缝,当P含量增加到261%时,镀层表面的裂缝已基本消失,继续增加P含量到350%时,裂缝完全消失.NiPdP镀层的结构与其组成密切相关,P含量小于200%的NiPdP镀层形成的是面心立方结构的固溶体.P含量大于400%的薄膜为非晶态结构. 展开更多
关键词 半导体硅 电沉积 结构 镀层 镍钯磷薄膜
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化学镀Ni-P合金镀层铬酸盐钝化膜的组成及其耐蚀性 被引量:5
6
作者 穆松林 李宁 +1 位作者 黎德育 徐丽英 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2010年第3期5-9,共5页
采用单一组分铬酸盐钝化液处理化学镀Ni-P合金层获得一种超薄钝化膜。电化学测试表明,钝化处理显著提高了Ni-P合金层的耐蚀性。X-射线光电子能谱分析表明,钝化膜主要由O、Cr及Ni等元素组成,并根据Ar+离子对钝化膜的溅射速率估算出钝化... 采用单一组分铬酸盐钝化液处理化学镀Ni-P合金层获得一种超薄钝化膜。电化学测试表明,钝化处理显著提高了Ni-P合金层的耐蚀性。X-射线光电子能谱分析表明,钝化膜主要由O、Cr及Ni等元素组成,并根据Ar+离子对钝化膜的溅射速率估算出钝化膜δ约为6nm。Cr 2p精细X-射线光电子能谱谱图分析表明,钝化膜中Cr元素主要以Cr2O3和Cr(OH)3的形式存在。并对钝化膜成膜机理进行了简单探讨。 展开更多
关键词 化学镀ni-p合金 钝化膜 耐蚀性 能谱分析 铬酸盐
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Ni-P底层对化学镀Co-P薄膜性能的影响 被引量:2
7
作者 王海成 杜中美 +3 位作者 王立锦 滕蛟 李明华 于广华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期51-53,共3页
采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明:非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构,(100)(、002)、(101)的择优... 采用化学镀工艺制备了Co-P磁记录薄膜,研究了非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的生长及性能的影响。研究结果表明:非晶无磁Ni-P底层对Co-P薄膜的晶体结构及取向无明显影响,镀态的Co-P薄膜均为密排六方结构,(100)(、002)、(101)的择优取向无明显变化;但非晶无磁的Ni-P底层可以提高薄膜的均匀性和一致性,表面无明显缺陷;细化晶粒,平均晶粒尺寸为100-150nm;提高Co-P薄膜的磁性能,矫顽力可达4.54×10^4A/m。当记录信号脉冲时,与铝基体上直接施镀相比,在Ni-P底层上的Co-P磁记录薄膜输出信号幅值均匀稳定,信噪比良好。 展开更多
关键词 化学镀 CO-P 磁记录薄膜 ni-p
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半固着磨具在非晶态Ni-Pd-P合金薄膜铜片衬底精密研磨中的应用 被引量:3
8
作者 邓乾发 袁巨龙 +2 位作者 文东辉 陶黎 王志伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期1-3,6,共4页
非晶态Ni-Pd-P合金薄膜具有非常好的热传导性和耐磨性,因而被广泛用作防护镀层。铜片由于其良好的导电性能被选为生长非晶态Ni-Pd-P合金薄膜的衬底材料。主要研究半固着磨具精密研磨非晶态Ni-Pd-P合金薄膜铜片衬底,以铜片衬底的表面粗... 非晶态Ni-Pd-P合金薄膜具有非常好的热传导性和耐磨性,因而被广泛用作防护镀层。铜片由于其良好的导电性能被选为生长非晶态Ni-Pd-P合金薄膜的衬底材料。主要研究半固着磨具精密研磨非晶态Ni-Pd-P合金薄膜铜片衬底,以铜片衬底的表面粗糙度和材料去除率为评价指标,探讨了研磨过程中不同的工艺参数对铜片表面粗糙度和材料去除率的影响。结果表明:用800#SiC半固着磨具对铜片衬底进行研磨加工,10min后铜片表面粗糙度Ra可由0.553μm减小到0.28μm,同时表面无深划痕。加工后的铜片再经金刚石研磨膏抛光可快速获得满足Ni-Pd-P合金薄膜生长用的铜片衬底表面。 展开更多
关键词 铜片衬底 半固着磨具 表面粗糙度 材料去除率 Ni—Pd—P合金 薄膜
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钎焊及时效过程中化学镀Ni-P与Sn-3.5Ag的界面反应 被引量:1
9
作者 黄明亮 柏冬梅 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第6期1189-1194,共6页
研究磷含量为6.5%(质量分数)的化学镀Ni-P薄膜与Sn-3.5Ag钎料合金之间的润湿行为,以及Sn-3.5Ag/Ni-P焊点在钎焊和时效过程中的界面反应。结果表明:250℃时,直径为(2.3±0.06)mm的Sn-3.5Ag焊球在化学镀Ni-6.5%P薄膜上钎焊后得到的润... 研究磷含量为6.5%(质量分数)的化学镀Ni-P薄膜与Sn-3.5Ag钎料合金之间的润湿行为,以及Sn-3.5Ag/Ni-P焊点在钎焊和时效过程中的界面反应。结果表明:250℃时,直径为(2.3±0.06)mm的Sn-3.5Ag焊球在化学镀Ni-6.5%P薄膜上钎焊后得到的润湿角约为44,铺展率约为67%;焊点界面由Ni3Sn4IMC层、及较薄的Ni-Sn-P过渡层构成Ni3P晶化层;钎焊过程中界面Ni3Sn4IMC的生长速率与钎焊时间t1/3呈线性关系;时效过程中界面Ni3Sn4IMC及富P层的生长速率与时效时间t1/2呈线性关系。 展开更多
关键词 化学镀ni-p薄膜 Sn-3.5Ag钎料 界面反应 钎焊 时效
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硬质合金表面化学镀Ni-P-金刚石粉沉积金刚石膜的研究 被引量:3
10
作者 吴健 匡同春 《工具技术》 北大核心 2005年第9期21-23,共3页
利用直流等离子射流装置在以化学镀Ni-P-金刚石粉为过渡层的硬质合金上沉积金刚石薄膜。采用SEM、EDS和X射线衍射仪(XRD)初步探讨了金刚石薄膜的表面形貌和物相组成。结果表明硬质合金刀片表面化学镀Ni-P后沉积金刚石薄膜,金刚石成核密... 利用直流等离子射流装置在以化学镀Ni-P-金刚石粉为过渡层的硬质合金上沉积金刚石薄膜。采用SEM、EDS和X射线衍射仪(XRD)初步探讨了金刚石薄膜的表面形貌和物相组成。结果表明硬质合金刀片表面化学镀Ni-P后沉积金刚石薄膜,金刚石成核密度小、晶形差,难以得到结晶质量良好的金刚石膜。而在硬质合金刀片表面化学镀Ni-P-金刚石粉后沉积金刚石薄膜,成核密度比较高,晶形多为(100),但结合力较差。 展开更多
关键词 金刚石薄膜 化学镀ni-p-金刚石粉 过渡层 硬质合金 硬质合金刀片 表面化学镀 金刚石膜 金刚石粉 沉积 金刚石薄膜 化学镀ni-p X射线衍射仪 成核密度
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Ni-P镀层磷含量对Ni-P/TiO_2复合膜耐蚀性能的影响 被引量:1
11
作者 林万舟 王海林 宋来洲 《金属功能材料》 CAS 2009年第2期29-33,共5页
采用化学镀/溶胶-凝胶技术在碳钢表面制备了低磷(Ni-LP/TiO2)、中磷(Ni-MP/TiO2)和高磷(Ni-HP/TiO2)Ni-P/TiO2复合膜,采用X-衍射分析仪和环境扫描电镜表征了Ni-P/TiO2复合膜的结构与形态,应用动电位极化和极化阻力(Rp)测量研究了复合膜... 采用化学镀/溶胶-凝胶技术在碳钢表面制备了低磷(Ni-LP/TiO2)、中磷(Ni-MP/TiO2)和高磷(Ni-HP/TiO2)Ni-P/TiO2复合膜,采用X-衍射分析仪和环境扫描电镜表征了Ni-P/TiO2复合膜的结构与形态,应用动电位极化和极化阻力(Rp)测量研究了复合膜在0.5mol/L H2SO4溶液中的耐蚀性能。实验结果表明Ni-P/TiO2复合膜耐蚀性能优于Ni-P镀层,随Ni-P镀层磷含量的增加,Ni-P/TiO2复合膜的耐蚀性增强。Ni-HP/TiO2复合膜在0.5mol/L H2SO4溶液的自腐蚀电流密度(icorr)为3.15μA.cm-2,分别为Ni-LP/TiO2和Ni-MP/TiO2复合膜的40%和62%;其Rp为11.72kΩ.cm2,分别为Ni-LP/TiO2和Ni-MP/TiO2复合膜的1.5倍和1.3倍,Ni-HP/TiO2复合膜较Ni-LP/TiO2和Ni-MP/TiO2复合膜有更佳的耐蚀性能。 展开更多
关键词 Ni—P/TiO2复合膜 Ni—P镀层 磷含量 硫酸溶液 耐蚀性
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TiO_2涂层与化学镀Ni-P用于铸件表面处理 被引量:1
12
作者 赵亚楠 王胜 +1 位作者 冯晋阳 李永飞 《西安工业大学学报》 CAS 2012年第2期123-126,共4页
为了提高铸件的耐腐蚀性及硬度,采用溶胶-凝胶法先在铸件表面涂覆一层TiO2薄膜,再对铸件进行化学镀Ni-P处理.研究表明,TiO2涂层可以有效减小铸件表面的孔隙率,弥补了Ni-P镀层直接覆盖在铸件表面易产生针孔的缺陷.与现有的铸件表面处理... 为了提高铸件的耐腐蚀性及硬度,采用溶胶-凝胶法先在铸件表面涂覆一层TiO2薄膜,再对铸件进行化学镀Ni-P处理.研究表明,TiO2涂层可以有效减小铸件表面的孔隙率,弥补了Ni-P镀层直接覆盖在铸件表面易产生针孔的缺陷.与现有的铸件表面处理方法相比,改善了铸件的耐腐蚀性,而且较大地提高了沉积速率.在不增加成本的情况下,节约了能源. 展开更多
关键词 TIO2薄膜 化学镀ni-p 孔隙 沉积速率 耐腐蚀性
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Ni-P-B_4C复合电刷镀工艺研究 被引量:3
13
作者 匡建新 汪新衡 《常德师范学院学报(自然科学版)》 2001年第2期58-61,共4页
在Ni-P -B4 C合金电刷镀技术的基础上 ,研究了在镀液中加入B4 C微粒 ,通过改变镀液浓度、电压、pH值以及镀速等条件 ,达到改变镀层的厚度、硬度以及耐蚀性等。经过多次实验比较 ,得到了Ni-P -B4 C合金复合电刷镀镀液较佳的浓度配制。并... 在Ni-P -B4 C合金电刷镀技术的基础上 ,研究了在镀液中加入B4 C微粒 ,通过改变镀液浓度、电压、pH值以及镀速等条件 ,达到改变镀层的厚度、硬度以及耐蚀性等。经过多次实验比较 ,得到了Ni-P -B4 C合金复合电刷镀镀液较佳的浓度配制。并对电刷镀镀液各成分在刷镀中的作用以及它们对镀速和镀层成分的影响等方面作了较详细的分析。进而对复合电刷镀中微粒的共沉积机理作了初步的探讨。从而提出了一套较完整的Ni-P -B4 展开更多
关键词 复合电刷镀 镀液浓度 ni-p-B4C复合镀层 镀速 镀层成发 共沉积机理
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Ni-P-SiO_2(纳米)化学复合镀研究 被引量:5
14
作者 靖爱 程秀 揭晓华 《热加工工艺》 CSCD 北大核心 2004年第10期35-36,共2页
通过Ni-P化学镀及Ni-P-SiO2(微米)、Ni-P-SiO2(纳米)化学复合镀探讨纳米SiO2颗粒对镀速及镀层性能的影响。结果表明:添加适量的SiO2纳米粒子于镀液中,使镀速上升,所得镀层硬度、耐磨性等性能相对于Ni-P镀层及微米颗粒复合镀层都有显著... 通过Ni-P化学镀及Ni-P-SiO2(微米)、Ni-P-SiO2(纳米)化学复合镀探讨纳米SiO2颗粒对镀速及镀层性能的影响。结果表明:添加适量的SiO2纳米粒子于镀液中,使镀速上升,所得镀层硬度、耐磨性等性能相对于Ni-P镀层及微米颗粒复合镀层都有显著地提高。 展开更多
关键词 ni-p-SiO2 纳米 化学复合镀 镀层性能
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强磁场中电沉积Ni-P合金的研究 被引量:5
15
作者 贾晶 钟云波 +3 位作者 汪超 雷作胜 任维丽 任忠鸣 《上海金属》 CAS 2009年第4期10-14,共5页
在电沉积镍磷合金薄膜的过程中施加与电流方向垂直的强磁场,研究了不同磁感应强度对电沉积Ni-P合金薄膜的微观形貌、组织结构和耐腐蚀性能的影响。结果表明:在电沉积过程中施加强磁场可以提高镀层中的磷含量。从SEM照片中观察到随着磁... 在电沉积镍磷合金薄膜的过程中施加与电流方向垂直的强磁场,研究了不同磁感应强度对电沉积Ni-P合金薄膜的微观形貌、组织结构和耐腐蚀性能的影响。结果表明:在电沉积过程中施加强磁场可以提高镀层中的磷含量。从SEM照片中观察到随着磁感应强度的增加,非晶团簇尺寸逐渐变小。通过XRD图谱分析可知Ni-P合金镀层是由非晶态结构和晶态结构的混晶组成,随着磁感应强度的增大,镀层中的镍<111>择优取向增大,电化学分析结果表明镀层的自腐蚀电位也逐渐提高,表明耐腐蚀性能逐渐提高。 展开更多
关键词 ni-p镀层 强磁场 电沉积 薄膜 耐蚀性
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Ni-P-纳米TiO_2(溶胶)化学复合镀及镀层防腐蚀性能研究 被引量:5
16
作者 余祖孝 郝世雄 金永中 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2007年第12期42-44,共3页
为了改善Ni-P-纳米TiO2化学复合镀镀层的耐腐蚀性能和沉积速度,采用失重腐蚀法、磁力测厚仪和电化学方法,研究了工艺、配位剂、纳米TiO2溶胶含量对Ni-P-TiO2(溶胶)纳米化学复合镀镀层的沉积速度、腐蚀速率、孔蚀电位的影响,得出其... 为了改善Ni-P-纳米TiO2化学复合镀镀层的耐腐蚀性能和沉积速度,采用失重腐蚀法、磁力测厚仪和电化学方法,研究了工艺、配位剂、纳米TiO2溶胶含量对Ni-P-TiO2(溶胶)纳米化学复合镀镀层的沉积速度、腐蚀速率、孔蚀电位的影响,得出其较优工艺配方为:25.0g/L硫酸镍、25.0g/L次磷酸钠、15.0g/L乙酸钠、15.0g/L硼酸,1h,pH值5.5~6.5,80℃,100r/min,12.5mL/L纳米TiO2溶胶。此外,研究显示可用配位剂硼酸代替传统的乳酸。结果表明,在盐腐蚀介质中,Ni-P-纳米TiO2(溶胶)镀层的耐腐蚀性能比Ni-P镀层提高10多倍,在碱性腐蚀介质中提高约1倍,而在酸性介质中耐蚀性比Ni-P镀层略差。 展开更多
关键词 ni-p-纳米TiO2(溶胶)化学复合镀 工艺 沉积速度 腐蚀速率 孔蚀电位
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碳钢诱导下的普通硬质塑料化学镀Ni-P合金技术
17
作者 张祖军 刘继光 +1 位作者 陈奎儒 崔绍波 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2005年第10期455-457,共3页
实验研究了碳钢诱导下的普通硬质塑料化学镀Ni-P合金的操作方法、工艺条件及各种因素对普通硬质塑料镀层的影响,结果表明,在碳钢诱导下的镀层质量较好,与硬质塑料基体的结合强度较高。
关键词 化学镀 ni-p合金 诱导 结合强度 镀层质量
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AZ 31镁合金锡化膜上化学镀Ni-P层性能的研究
18
作者 袁亮 马立群 +3 位作者 杨猛 秦铁男 王娟 丁毅 《电镀与环保》 CAS CSCD 北大核心 2010年第6期29-32,共4页
将化学转化与化学镀镍相结合,对AZ 31镁合金先进行锡酸盐转化处理,再在锡化膜上化学镀Ni-P层。对锡化膜及化学镀Ni-P层的成分、结构和耐蚀性能进行了研究。结果表明:AZ 31镁合金基体表面所形成的锡化膜是由细小、均一的近似球状的微粒... 将化学转化与化学镀镍相结合,对AZ 31镁合金先进行锡酸盐转化处理,再在锡化膜上化学镀Ni-P层。对锡化膜及化学镀Ni-P层的成分、结构和耐蚀性能进行了研究。结果表明:AZ 31镁合金基体表面所形成的锡化膜是由细小、均一的近似球状的微粒密积而成,微粒间存在的间隙可为后续化学镀Ni-P层提供良好的吸附条件,对改善镀层与基体间的结合力有一定的作用。在质量分数为3.5%的NaCl溶液中的阳极极化曲线表明:锡化膜上化学镀Ni-P层的耐点蚀性能好于化学镀Ni-P层的。环形阳极极化曲线及盐雾和浸泡实验显示:锡化膜上化学镀Ni-P层具有更好的耐中性NaCl点蚀性能。 展开更多
关键词 锡化膜 化学镀ni-p 点蚀 环形阳极极化曲线
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纳米化学复合镀Ni-P-TiO_2(金红石型)及其耐蚀性能的研究
19
作者 余祖孝 刘东亮 +2 位作者 孙亚丽 何成 罗学平 《化学研究与应用》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期424-426,共3页
Effects of process on the deposition rate,corrosion resistance and corrosion potential of Ni-P-nano-TiO2(rutile) electroless composite plating,were studied by using weightless corrosion methods,magnetic thickness gaug... Effects of process on the deposition rate,corrosion resistance and corrosion potential of Ni-P-nano-TiO2(rutile) electroless composite plating,were studied by using weightless corrosion methods,magnetic thickness gauge and electrochemical methods.The results indicated that the optimum formula and process,composed of NiSO4(10g/400mL),NaH2PO2(10g/400mL),NaAc(6g/400mL),H3BO3(6g/400mL),1h,pH=5.5,80℃,100r/min and nano-TiO2 particle(rutile)(4g/400mL),were obtained.Then,it was shown that corrosion resistance of electroless composite coatings Ni-P-nano-TiO2 (rutile) increased 3-4 times,compared with that of electroless coatings Ni-Pin alkaline and salt corrosion media.However,in acid media,corrosion resistance of Ni-P coating was better. 展开更多
关键词 纳米化学复合镀ni-p-TiO2(金红石型) 工艺 沉积速度 腐蚀速度 腐蚀电位
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Ni-P-TiO_2(锐钛型)纳米化学复合镀及其耐蚀性能 被引量:1
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作者 余祖孝 何清华 +1 位作者 刘辉 张绍贵 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2007年第6期289-292,共4页
采用腐蚀失重法、磁力测厚法和电化学方法,研究了镀液组分、pH值、温度、搅拌速度、时间和纳米TiO2(锐钛型)含量等对Ni-P-TiO2(锐钛型)纳米化学复合镀镀层沉积速度、腐蚀速度、点蚀电位的影响,得出Ni-P-TiO2(锐钛型)纳米化学复合镀的合... 采用腐蚀失重法、磁力测厚法和电化学方法,研究了镀液组分、pH值、温度、搅拌速度、时间和纳米TiO2(锐钛型)含量等对Ni-P-TiO2(锐钛型)纳米化学复合镀镀层沉积速度、腐蚀速度、点蚀电位的影响,得出Ni-P-TiO2(锐钛型)纳米化学复合镀的合理工艺配方:硫酸镍10 g/400 ml,次亚磷酸钠10 g/400 ml,乙酸钠6 g/400 ml,硼酸6 g/400 ml;1 h;pH值5.0;80℃;100 r/min;纳米TiO2(锐钛型)3 g/400 ml。试验结果表明,在中性盐介质中,Ni-P-纳米TiO2(锐钛型)镀层的耐蚀性能比Ni-P镀层提高8倍。但是在碱性、酸性介质中,Ni-P-纳米TiO2(锐钛型)镀层的耐蚀性能略低于Ni-P镀层。 展开更多
关键词 ni-p-TiO2(锐钛型)纳米化学复合镀 工艺 沉积速度 腐蚀速度 点蚀电位
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