Fe-B_4C复合镀层性能优化的研究

通过电化学沉积工艺,利用正交实验设计方法,选取B4C微粒的直径、B4C的质量浓度及FeCl2.4H2O的质量浓度为3个因素,以镀层的显微硬度为评价标准,研究了铁基复合镀层的组织性能,并确定了获得复合镀层的最佳工艺参数。结果表明:各因素作用的主次顺序为B4C的质量浓度>B4C微粒的直径>FeCl2.4H2O的质量浓度;在B4C微粒的直径10μm,B4C30g/L,FeCl2.4H2O 350g/L的条件下,获得的镀层具有较高的显微硬度。

弧流对Ti—Si—C膜层结构与性能的影响

电弧离子镀沉积膜层具有放电温度高、离化率高和沉积速率快等特点,可以在较低温度下促进Si—C成键,是获得含Si—C键膜层的一种经济实惠的方法。本文使用Ti—Si合金靶,在Ar和C2H2气体环境下,在铝合金衬底上制备了Ti—Si—C膜层,并分析和研究了不同弧流下沉积膜层的相组成、磨损和腐蚀性能。结果显示,不同弧流下沉积的膜层是由B1型Ti C相、立方结构的Si C相和金属Ti相组成的复合结构;大弧流由于放电温度高,有利于膜层中Si—C键的形成.弧流增加,靶材蒸发速率加快,沉积膜层的厚度增加,同时,由于靶材附近单位时间内气化和离化的Si和Ti数量增加,沉积膜层中Si和Ti含量和增加而C含量降低.弧流增加,膜层中碳化物总含量减少,造成膜层摩擦系数逐渐增加而耐磨性降低,但膜层的耐腐蚀性能增加.适当弧流下的沉积膜层可获得优异的磨损和腐蚀综合性能.

颗粒含量对化学镀Ni-P-SiC复合镀层形貌和性能的影响

采用化学共沉积的方法在Q235钢表面制备了Ni-P-SiC复合镀层,并研究了SiC颗粒含量对复合镀层表面形貌、沉积速率、显微硬度和磨损性能的影响。研究结果表明,Ni-P-SiC复合镀层表面平整,碳化硅硬质颗粒分布均匀。随着SiC颗粒含量的增加,复合镀层的沉积速率和显微硬度先增大后减小;当SiC含量为6 g/L时,沉积速率最快且磨损量最小。