射频溅射制备Ni-SiO_2薄膜特性研究

Ｎｉ－ＳｉＯ２金属陶瓷薄膜是制作透明电阻层的材料，用射频磁控溅射反应制备对近紫外透明的Ｎｉ－ＳｉＯ２薄膜，生成的样品均匀、致密．通过控制薄膜中的金属体积百分比可改变薄膜的电阻率及透光性满足实际工艺需求。Ｘ射线能谱分析可以估算出Ｎｉ在样品中的百分比，各种不同制备条件下的样品透射率有较大的差别。