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Ni-5%W合金基带的电化学抛光 被引量:3
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作者 朱海 吴向阳 +2 位作者 彭东辉 韩婕 徐静安 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2014年第7期16-19,共4页
为改善Ni-5%W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化。结果表明,在室温下,采用磷酸(8... 为改善Ni-5%W合金基带表面质量,以磷酸-硫酸和添加剂为电解液,采用均匀实验设计方法进行电解抛光,利用原子力显微镜对样品表面形貌进行表征,并用DPS(Data Process System)软件对抛光结果进行逐步回归优化。结果表明,在室温下,采用磷酸(85%)、硫酸(98%)和有机添加剂,以体积比为4∶3∶3的抛光液抛光效果较好,抛光后基带表面均方根粗糙度在25μm×25μm范围内可降低到5nm以下。 展开更多
关键词 涂层导体 Ni-5%W合金基带 电化学抛光 均匀设计
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涂层导体用Ni-7%W合金基带的织构分析 被引量:2
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作者 祝永华 索红莉 +5 位作者 赵跃 高忙忙 马麟 高培阔 王建宏 周美玲 《中国有色金属学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期2024-2028,共5页
采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni7W合金初始坯锭,通过优化高能球磨和烧结工艺以及后续和热处理工艺制备出高度立方织构的Ni7W合金基带。利用电子背散射衍射(EBSD)技术对Ni7W合金基带的晶粒取向、晶界特征等信息进行采集和分析... 采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni7W合金初始坯锭,通过优化高能球磨和烧结工艺以及后续和热处理工艺制备出高度立方织构的Ni7W合金基带。利用电子背散射衍射(EBSD)技术对Ni7W合金基带的晶粒取向、晶界特征等信息进行采集和分析,对其织构进行了表征。该基带无需抛光,即可获得高花样质量的电子背散射衍射图像。EBSD测试结果表明:该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒质量分数高达99.4%,10°以内晶界长度质量分数为93.6%,具有高质量的立方织构。 展开更多
关键词 Ni-7%W基带(Ni7W) 立方织构 涂层导体
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国产Ni-5%W合金基带电化学抛光工艺优化研究 被引量:2
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作者 李志刚 朱海 +4 位作者 韩坤 韩婕 吴向阳 彭东辉 徐静安 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2015年第6期6-9,共4页
采用均匀实验设计方法,研究了Ni-5%W合金基带在磷酸-硫酸及添加剂体系中的电化学抛光工艺条件,利用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化,同时根据回归后的特征方程组进行实验验证,并用金相显微镜、原子力显微镜... 采用均匀实验设计方法,研究了Ni-5%W合金基带在磷酸-硫酸及添加剂体系中的电化学抛光工艺条件,利用DPS(Data Processing System)软件对抛光工艺进行逐步回归优化,同时根据回归后的特征方程组进行实验验证,并用金相显微镜、原子力显微镜对基带表面形貌进行表征。结果表明,通过两次回归拟合,在25μm×25μm范围内,基带表面均方根粗糙度可降低到3 nm以下,且实验值与预报值相对误差为2.36%。 展开更多
关键词 Ni-5%W合金基带 均匀设计 回归拟合 电化学抛光
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Y_2O_3对Ni-Co-W复合电刷镀层的组织与耐蚀性的作用 被引量:2
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作者 凌文丹 袁庆龙 李平 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2012年第10期15-18,3+2,共4页
为进一步提高Ni-Co-W合金刷镀层的性能,在其镀液中加入纳米Y2O3颗粒,在45钢基体表面制备了Ni-Co-W/Y2O3复合电刷镀层。采用电子显微镜、能谱仪和电化学工作站等考察了Ni-Co-W/Y2O3复合镀层的组织和耐蚀性能。结果表明:Ni-Co-W/Y2O3复合... 为进一步提高Ni-Co-W合金刷镀层的性能,在其镀液中加入纳米Y2O3颗粒,在45钢基体表面制备了Ni-Co-W/Y2O3复合电刷镀层。采用电子显微镜、能谱仪和电化学工作站等考察了Ni-Co-W/Y2O3复合镀层的组织和耐蚀性能。结果表明:Ni-Co-W/Y2O3复合镀层的组织较Ni-Co-W镀层细密、平整、光滑,微裂纹的数量和宽度均减小,且与基体界面结合较好;Ni-Co-W/Y2O3复合镀层在3.5%NaCl水溶液中的耐蚀性显著优于Ni-Co-W镀层,腐蚀后的表面只存在轻微的凹坑。 展开更多
关键词 Ni-Co-W复合刷镀层 纳米Y2O3颗粒 表面形貌 耐蚀性 45钢基体
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铝材化学镀Ni-W-P溶液中硝酸镧含量对镀层性能的影响 被引量:1
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作者 余祖孝 郝世雄 +1 位作者 李兰 郑德韬 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2015年第5期24-26,38,共4页
为了提高铝材Ni-W-P镀层的耐腐蚀性,在镀液中加入La(NO3)3,在1060铝表面化学镀Ni—W—P合金层。采用电化学法和失重法分析了合金镀层的耐蚀性,采用扫描电镜观察合金镀层的形貌,采用X射线衍射仪分析了镀层的结构;研究了La(NO3)... 为了提高铝材Ni-W-P镀层的耐腐蚀性,在镀液中加入La(NO3)3,在1060铝表面化学镀Ni—W—P合金层。采用电化学法和失重法分析了合金镀层的耐蚀性,采用扫描电镜观察合金镀层的形貌,采用X射线衍射仪分析了镀层的结构;研究了La(NO3)3含量对Ni—W-P镀层沉积速率、孔隙率、腐蚀速率、腐蚀电位、腐蚀电流、交流阻抗、维氏硬度等性能的影响;对镀层进行热处理,研究了热处理对合金镀层性能的影响。结果表明:当镀液中La(NO3)3质量分数为1.0%时,所得镀层的沉积速率最大,为65.7g/(m^2·h),维氏硬度最高,为80.3HV,孔隙率最低,镀层的耐蚀性能最好,镀层包状物颗粒大小均匀、紧密、无缺陷;经100~500℃热处理后,镀层硬度有所提高,但耐蚀性有不同程度下降,经300℃热处理后,合金维氏硬度高达136HV,是未热处理的1.7倍。 展开更多
关键词 化学镀 Ni—W—P合金 1060铝 La(NO3)3 耐蚀性 热处理
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Ni-5at.%W合金基带阳极极化行为的研究 被引量:1
6
作者 彭东辉 朱海 +1 位作者 韩婕 李志刚 《化工机械》 CAS 2014年第3期300-303,309,共5页
研究了Ni-5at.%W合金基带在磷酸-硫酸及有机添加剂体系中的阳极极化行为。结合扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)分析,对不同阳极极化电位区间基带表面微观形貌和相组成进行了讨论。在低电位区,电极上主要析出的是Ni(OH)2、Ni3(PO4)2... 研究了Ni-5at.%W合金基带在磷酸-硫酸及有机添加剂体系中的阳极极化行为。结合扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)分析,对不同阳极极化电位区间基带表面微观形貌和相组成进行了讨论。在低电位区,电极上主要析出的是Ni(OH)2、Ni3(PO4)2及NiSO4晶体层;在高电位区,电极表面主要形成的是Ni2O3高价氧化物膜。 展开更多
关键词 Ni-5at.%W合金基带 超导 阳极极化 电化学抛光
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Ni-W合金基带的织构
7
作者 李眉娟 刘丹敏 +2 位作者 勾成 陈东风 刘蕴韬 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期137-141,共5页
Ni-W合金是制备YBa2Cu3O7-δ高温超导线(带)材的优良基带材料,对Ni-W基带要求是具有强的立方织构{100}〈001〉。本工作采用放电等离子体烧结方法制备Ni-W合金,利用轧制辅助双轴织构基带技术(RABiTS)制备Ni-W合金基带。利用X射线衍射方... Ni-W合金是制备YBa2Cu3O7-δ高温超导线(带)材的优良基带材料,对Ni-W基带要求是具有强的立方织构{100}〈001〉。本工作采用放电等离子体烧结方法制备Ni-W合金,利用轧制辅助双轴织构基带技术(RABiTS)制备Ni-W合金基带。利用X射线衍射方法研究基带冷轧织构与W含量的关系,系统地研究了Ni-5%W基带的再结晶织构。研究结果表明:Ni-5%W基带是一较好的组分,通过大的冷轧形变量、较高的退火温度和两步退火的方式,有利于在Ni-5%W基带中形成单一的、强的立方织构。 展开更多
关键词 放电等离子体烧结 Ni—W基带 冷轧织构 再结晶织构
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Cube texture formation of Ni9.3W alloy substrates:preparation by optimized deformation sequence and anneal process
8
作者 Fa-Xue Peng Hong-Li Suo +5 位作者 Lin Ma Hui Tian Min Liu Jing Liu Dan Yu Yi-Chen Meng 《Rare Metals》 SCIE EI CAS CSCD 2018年第8期662-667,共6页
The Ni9.3W alloy with no ferromagnetism and high yield strength is one of the most promising textured substrate materials for coated conductors, but its low stacking fault energy makes it difficult to obtain a strong ... The Ni9.3W alloy with no ferromagnetism and high yield strength is one of the most promising textured substrate materials for coated conductors, but its low stacking fault energy makes it difficult to obtain a strong cube texture by traditional rolling methods and recrystal- lization anneals. This paper introduces four-time static recoveries during the rolling process. Rolled tapes with 80 μm in thickness were obtained by applying various deformation sequences between static recoveries to study their effects on the cube texture formation in Ni9.3W alloy substrates. The results show that rising gradient deformation sequence is an advantageous way to obtain a higher amount of cube texture, its content increases by 29.2% compared to that of traditional deformation sequence. The effect of the new recrystallization annealing process on the cube texture formation was analyzed. It is shown that the cube texture content increases with anneal temperature increasing in one-step anneal, but decreases again at higher anneal temperature. Two-step anneal could effectively improve the cube texture content, which could be further enhanced by extending holding time during the first-step anneal. However, too long holding time leads to the decrease in cube texture content. Finally, Ni9.3W alloy substrates with a cube texture content of -90.0 vol% (〈15°) are obtained by optimized two-step anneal. 展开更多
关键词 ni9.3w substrates Deformation sequence Anneal process Cube texture
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化学镀Ni-W-P薄膜的制备及其耐蚀性能的研究 被引量:2
9
作者 卢洁琴 张晓莉 +1 位作者 卫国英 余云丹 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第4期83-88,104,共7页
目的制备Ni-W-P合金薄膜并研究其耐蚀性。方法在碱性镀液(p H=11)中,以次亚磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为络合剂,以铜锌合金为基材,采用化学镀制备Ni-W-P薄膜。通过X射线荧光仪、SEM、电化学极化曲线等方法,研究还原剂次亚磷酸钠浓度、络... 目的制备Ni-W-P合金薄膜并研究其耐蚀性。方法在碱性镀液(p H=11)中,以次亚磷酸钠为还原剂,柠檬酸钠为络合剂,以铜锌合金为基材,采用化学镀制备Ni-W-P薄膜。通过X射线荧光仪、SEM、电化学极化曲线等方法,研究还原剂次亚磷酸钠浓度、络合剂柠檬酸钠浓度以及反应时间对薄膜厚度、表面形貌和耐蚀性的影响。结果固定其他参数不变的条件下,在还原剂浓度为0.2 mol/L及络合剂浓度为0.26 mol/L时薄膜厚度最大,分别为0.2975、0.1978μm。随着次亚磷酸钠浓度的增大,Ni-W-P薄膜表面致密度增加,孔隙率减少。当次亚磷酸钠的浓度为0.1 mol/L时,薄膜表面的颗粒较细小,孔隙较多;当次亚磷酸钠的浓度为0.4 mol/L时,薄膜表面的孔隙明显减少,表面更加均匀且致密度变好;络合剂和还原剂的改变对薄膜腐蚀电位没有明显影响,腐蚀电流密度在还原剂浓度为0.4 mol/L、络合剂浓度为0.28 mol/L时达到最小,分别为2.38×10-6、2.23×10-6A/cm2;随着络合剂和还原剂浓度的增大,薄膜表面趋于致密;随着反应时间的增加,膜层厚度明显增大,腐蚀电流密度随着时间的增加而减小,化学镀4 h薄膜腐蚀电流密度最小,为1.679×10-6A/cm2。Ni-W-P薄膜厚度可达到4.14μm。结论还原剂浓度为0.4 mol/L,络合剂浓度为0.28 mol/L时,薄膜的耐蚀性最好,反应时间的延长有利于薄膜耐蚀性能的优化。 展开更多
关键词 铜锌合金基底 化学镀 NI-W-P合金 表面形貌 耐蚀性 极化曲线
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化学镀Ni⁃P及Ni⁃W⁃P镀膜组织及性能对比研究 被引量:9
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作者 伊洪丽 包翠敏 +3 位作者 陈蕊 杨智鹏 陈炜 李宏坤 《材料保护》 CAS CSCD 2022年第9期102-108,共7页
为了更好地了解化学镀Ni⁃P及Ni⁃W⁃P 2种镀膜的优缺点,利用X射线衍射仪、光学显微镜、电化学工作站以及维氏硬度计等测试分析手段对化学镀Ni⁃P和Ni⁃W⁃P镀膜镀态及热处理态显微组织、结合力、硬度和耐特定工况腐蚀性能进行对比研究。结果... 为了更好地了解化学镀Ni⁃P及Ni⁃W⁃P 2种镀膜的优缺点,利用X射线衍射仪、光学显微镜、电化学工作站以及维氏硬度计等测试分析手段对化学镀Ni⁃P和Ni⁃W⁃P镀膜镀态及热处理态显微组织、结合力、硬度和耐特定工况腐蚀性能进行对比研究。结果表明:2种镀膜均与基体形成良好结合且厚度均匀,镀膜表面胞粒堆垛致密,具有一定方向性且大小均匀,镀膜孔隙率低;Ni⁃W⁃P镀膜初始晶化的热处理温度较Ni⁃P镀膜低;在镀膜硬度超过800 HV_(3N)后,Ni⁃W⁃P镀膜较Ni⁃P镀膜表现出更好的韧性;且Ni⁃W⁃P镀膜在特定工况腐蚀环境下具有更好的耐蚀性。 展开更多
关键词 化学镀 Ni⁃P Ni⁃W⁃P 膜基结合力 硬度 热处理 耐蚀性
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ALLOYING EFFECT OF Ni AND Cr ON THE WETTABILITY OF COPPER ON W SUBSTRATE 被引量:5
11
作者 X.H. Yang P. Xiao S.H. Liang J.T. Zou Z.K. Fan 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2008年第5期369-379,共11页
By the sessile drop technique, the wettability of Cu/W systems with the additions of Ni and Cr has been studied under vacuum atmosphere. Effects of Ni and Cr contents and wetting temperatures on the wettability and th... By the sessile drop technique, the wettability of Cu/W systems with the additions of Ni and Cr has been studied under vacuum atmosphere. Effects of Ni and Cr contents and wetting temperatures on the wettability and the wetting mechanisms of copper on W substrate have been investigated in detail. The results show that the wetting angles of Cu on the W substrate are decreased with an increase in the content of Ni or Cr, and also decrease with raising the wetting temperatures. SEM, EPMA, and X-ray diffraction have been used to analyze the interracial characteristics of the CuNi/W and CuCr/W systems. The results reveal that there is a transition layer about 2- 3μm in the interface of Cu-4.0 wt pct Ni/W, in which the interrnetallic phase Ni4W is precipitated. As to CuCr/W system, no reaction occurs at the interface. The two factors are that the contents of Cr and Ni and the infiltration temperature must be chosen appropriately in order to control the interfacial dissolution and reaction when the Cu- W alloys are prepared by the infiltration method. 展开更多
关键词 WETTABILITY Contact angles Cu Cr Ni W substrate
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再结晶退火工艺对Ni-5at%W基带立方织构形成的影响
12
作者 张永军 张平祥 +4 位作者 李成山 郑会玲 于泽铭 卢亚锋 陈绍楷 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期705-708,共4页
采用粉末冶金与中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金锭,经旋锻和拉拔成为丝材,再冷轧为70μm厚带材。随后,在800~1300℃区间进行0~3h再结晶退火处理。采用X射线衍射和电子背散射衍射对基带织构进行评估,同时也对基带硬... 采用粉末冶金与中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金锭,经旋锻和拉拔成为丝材,再冷轧为70μm厚带材。随后,在800~1300℃区间进行0~3h再结晶退火处理。采用X射线衍射和电子背散射衍射对基带织构进行评估,同时也对基带硬度进行了表征。实验发现,Ni-5at%W合金基带几乎在800℃就已完成初始再结晶过程;在980℃退火时,立方织构体积分数随时间的延长(1-3h)没有发生明显变化;在1100,1300℃退火后形成了锐利的立方织构,偏离{001}〈100〉8°范围内的晶粒表面积占总晶粒表面积的分数分别为93%,99.8%。在1300℃以下温区退火时,基带组织均匀,没有出现晶粒异常长大现象,立方织构具有良好的高温稳定性。当退火温度达1400℃时,出现晶粒异常长大现象并伴有其它织构成分出现。 展开更多
关键词 Ni-5at%W合金基带 再结晶 立方织构
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再结晶退火工艺对Ni-5at%W基带立方织构形成的影响
13
作者 张永军 张平祥 +4 位作者 李成山 郑会玲 于泽铭 卢亚锋 陈绍楷 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A04期572-575,共4页
采用粉末冶金法与中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金锭,经旋锻和拉拔成棒材,再冷轧成70μm厚带材。随后,在800~1300℃区间进行0~3h再结晶退火处理。采用X射线衍射和电子背散射衍射对基带织构进行评估,同时也对基带硬度进行... 采用粉末冶金法与中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金锭,经旋锻和拉拔成棒材,再冷轧成70μm厚带材。随后,在800~1300℃区间进行0~3h再结晶退火处理。采用X射线衍射和电子背散射衍射对基带织构进行评估,同时也对基带硬度进行了表征。实验发现,Ni-5at%W合金基带几乎在800℃就已完成初始再结晶过程;在980℃退火时,立方织构体积分数随时间的延长(1~3h)没有发生明显变化;在1100,1300℃退火后形成了锐利的立方织构,偏离{001}<100>8o范围内的晶粒占总晶粒表面积分数分别为93%,99.8%。在1300℃以下温区退火时,基带组织均匀,没有出现晶粒异常长大现象,立方织构具有良好的高温稳定性。当退火温度达1400℃,出现晶粒异常长大现象并伴有其它织构成分出现。 展开更多
关键词 Ni-5at%W合金基带 再结晶 立方织构
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涂层导体用Ni-5at%W合金基带再结晶织构研究
14
作者 张永军 张平祥 +4 位作者 李成山 郑会玲 于泽铭 杜明焕 陈绍楷 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A04期157-160,共4页
采用粉末冶金和中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金,经旋锻、拉拔和大变形量冷轧为70μm厚合金基带。轧制基带织构呈现典型的铜式织构特征。采用电子背散射衍射技术研究不同退火工艺的再结晶织构。结果发现,经大变形量冷轧后,... 采用粉末冶金和中频感应炉重熔相结合的方法制备Ni-5at%W合金,经旋锻、拉拔和大变形量冷轧为70μm厚合金基带。轧制基带织构呈现典型的铜式织构特征。采用电子背散射衍射技术研究不同退火工艺的再结晶织构。结果发现,经大变形量冷轧后,通过优化两步退火工艺可获得锐利的立方织构;加热速度对冷变形金属的再结晶织构具有很大的影响,慢速加热具有增强立方织构的作用,快速加热则相反。实验结果可为再结晶工艺参数的优化提供依据。 展开更多
关键词 Ni-5at%W合金基带 升温速度 两步退火工艺 再结晶 立方织构
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交直流叠加电镀Ni-Fe-W层性能及其工艺参数优选
15
作者 宋小霞 李德刚 董云会 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期27-29,7,共3页
为了提高电镀层的表面性能,运用交直流叠加技术在铜基体上电镀Ni-Fe-W合金层。由IM6e电化学工作站提供交直流叠加电流,研究频率、振幅、温度、电流密度等因素对镀层的影响,并优选出了最佳值;通过X射线衍射、SEM对镀层进行表征,用Tafel... 为了提高电镀层的表面性能,运用交直流叠加技术在铜基体上电镀Ni-Fe-W合金层。由IM6e电化学工作站提供交直流叠加电流,研究频率、振幅、温度、电流密度等因素对镀层的影响,并优选出了最佳值;通过X射线衍射、SEM对镀层进行表征,用Tafel极化曲线和交流阻抗分析并比较了交直流叠加电镀层和直流电镀层的耐腐蚀行为。获得的最佳工艺参数:25 g/L NiSO4.7H2O,10 g/L FeSO4.7H2O,45 g/L Na2WO4.2H2O;电流密度5 A/dm2,叠加的交流电振幅20 mV,频率800 Hz,温度60℃,施镀时间1 h。结果表明:交直流叠加电镀工艺获得的镀层表面光滑、平整,硬度和耐蚀性能等明显优于直流电镀层;镀层中钨含量的变化决定了镀层的晶型在晶态和非晶态之间转换。 展开更多
关键词 电镀 交直流叠加 Ni-Fe-W合金层 铜基体 振幅 频率 耐腐蚀性
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脉冲参数对NiW基带表面电化学抛光质量的影响
16
作者 李曼 蒲明华 宋铭洋 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期115-119,共5页
目的研究提高Ni W合金基带表面质量的脉冲电化学最佳抛光工艺。方法以磷酸为主要抛光酸剂,以甘油为缓冲剂配置抛光液,采用脉冲电化学抛光技术,研究电流密度、脉冲频率、脉冲占空比对Ni W基带的表面抛光效果的影响。通过扫描电镜和原子... 目的研究提高Ni W合金基带表面质量的脉冲电化学最佳抛光工艺。方法以磷酸为主要抛光酸剂,以甘油为缓冲剂配置抛光液,采用脉冲电化学抛光技术,研究电流密度、脉冲频率、脉冲占空比对Ni W基带的表面抛光效果的影响。通过扫描电镜和原子力显微镜对抛光后的基带表面微观形貌进行表征,获得最佳脉冲电化学抛光工艺。结果最佳工艺为:平均电流密度25 A/dm2,脉冲频率毫秒级(1000Hz以上),脉冲占空比1∶4,抛光时间10 min。扫描电镜结果表明,抛光后的基带表面平整致密,轧制和热处理产生的条纹、晶界等缺陷都被消除,在此抛光工艺下,可以有效降低Ni W基带表面粗糙度,提高基带表面质量。原子力显微镜测试4μm×4μm范围内的表面平均粗糙度为几个纳米,表明抛光基带表面非常平滑,达到镜面效果。结论最佳抛光工艺下,可以显著改善Ni W基带的表面质量,获得好的基带表面状态,满足涂层导体对金属基带材料表面质量的要求。 展开更多
关键词 涂层导体 Ni-5%W基带 脉冲电流 电化学抛光 磷酸 平均粗糙度
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施镀时间对铝材表面化学镀Ni-W-P合金镀层性能的影响 被引量:2
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作者 余祖孝 余迪 +4 位作者 朱留春 陈钧 肖航 熊强 李嘉庆 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2018年第7期562-565,570,共5页
采用电化学试验等方法,研究了施镀时间对Ni-W-P合金镀层的沉积速率、孔隙率、腐蚀速率、电化学性能等的影响。结果表明:施镀时间为40min时,Ni-W-P合金镀层沉积速率较高,厚度较厚,为12μm,表面平滑光亮,结合力良好,孔隙率最低,为0.25个&#... 采用电化学试验等方法,研究了施镀时间对Ni-W-P合金镀层的沉积速率、孔隙率、腐蚀速率、电化学性能等的影响。结果表明:施镀时间为40min时,Ni-W-P合金镀层沉积速率较高,厚度较厚,为12μm,表面平滑光亮,结合力良好,孔隙率最低,为0.25个·cm-2,镀层的耐腐性最好。同时,此时镀层的维氏硬度高,为155 HV,镀层组织结构紧密均匀,由非晶态和微晶构成混晶结构,非晶态结构的出现是其耐蚀性高的重要原因。 展开更多
关键词 铝材 化学镀NI-W-P 施镀时间 耐蚀性 硬度
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强立方织构Ni-40%Cu-3%W及复合基带的制备
18
作者 徐万峰 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第A02期386-388,393,共4页
本工作采用轧制辅助双轴织构技术(RABiTS)制备了无铁磁性的Ni-40%Cu-3%W合金及Ni-40%Cu-3%W/Ni9W/Ni-40%Cu-3%W复合基带。采用X射线衍射技术(XRD)及背散射电子衍射技术(EBSD)对Ni-40%Cu-3%W合金基带再结晶热处理后的织构进行了表征,结... 本工作采用轧制辅助双轴织构技术(RABiTS)制备了无铁磁性的Ni-40%Cu-3%W合金及Ni-40%Cu-3%W/Ni9W/Ni-40%Cu-3%W复合基带。采用X射线衍射技术(XRD)及背散射电子衍射技术(EBSD)对Ni-40%Cu-3%W合金基带再结晶热处理后的织构进行了表征,结果表明,对Ni-40%Cu-3%W合金基带进行再结晶退火后(1 050℃保温60min),合金基带表面形成了锐利的立方织构。此外,采用粉末冶金技术制备出了Ni-40%Cu-3%W/Ni9W/Ni-40%Cu-3%W合金复合坯锭,并采用RABiTS技术制备出了无铁磁性的复合基带,其室温下的屈服强度为255MPa,明显高于商业化生产的Ni5W合金基带的屈服强度,弥补了Ni5W合金基带在磁性能和力学性能上的不足。 展开更多
关键词 无铁磁性 铜镍钨合金基带 复合基带 立方织构
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形变细化晶粒和润滑轧制对Ni9.3W合金基带立方织构形成的影响
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作者 彭发学 马麟 +5 位作者 田辉 索红莉 孟易辰 梁雅儒 刘婧 钟志鹏 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第10期2975-2980,共6页
采用光学显微镜(OM)、X射线四环衍射(XRD)、电子背散射衍射(EBSD)技术分析研究了形变细化晶粒、润滑轧制对Ni-9.3 at%W(Ni9.3W)合金基带立方织构形成的影响。结果表明,采用形变细化晶粒的方法能有效提高Ni9.3W合金基带的立方织构含量,... 采用光学显微镜(OM)、X射线四环衍射(XRD)、电子背散射衍射(EBSD)技术分析研究了形变细化晶粒、润滑轧制对Ni-9.3 at%W(Ni9.3W)合金基带立方织构形成的影响。结果表明,采用形变细化晶粒的方法能有效提高Ni9.3W合金基带的立方织构含量,并且随着初始形变量的增加,晶粒细化程度增大,立方织构含量增高,采用优化的形变细化晶粒工艺使得Ni9.3W合金基带立方织构含量提高了9.8%。另外,增加形变细化晶粒后的轧制总变形量,立方织构含量进一步提升了24.7%。相比非润滑轧制而言,采用润滑轧制,轧制织构中获得了较多的S取向与Copper取向,经再结晶退火后,润滑轧制基带的立方织构含量比非润滑轧制基带的立方织构含量高9.6%,达到了86.7%(<15°),而且孪晶界数量、小角度晶界含量均要优于非润滑轧制,说明润滑轧制对立方织构形成有着积极的影响。 展开更多
关键词 ni9.3w 细化晶粒 润滑轧制 轧制织构 立方织构
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热处理工艺对Ni-7W合金基带立方织构的影响 被引量:1
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作者 祝永华 索红莉 +7 位作者 赵跃 高忙忙 程艳玲 马麟 高培阔 王建宏 吉元 周美玲 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第1期177-182,共6页
采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%,下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带。基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示:该Ni7W基... 采用先进的放电等离子烧结技术(SPS)制备Ni-7W(at%,下同)(Ni7W)合金初始锭,通过高能球磨使Ni、W粉末充分混合,优化冷轧和热处理工艺制备出高立方织构的Ni7W合金基带。基带晶粒大小均匀,电子背散射衍射技术(EBSD)测试结果显示:该Ni7W基带表面10°以内立方织构晶粒含量高达99.4%,10°以内晶界长度含量为93.6%;XRD测得的基带(111)Phi扫描和(200)摇摆曲线表明:基带的面内和面外半高宽分别是6.32°和5.4°,表明基带具有锐利的立方织构。在该基带上制备的La2Zr2O7(LZO)过渡层显示,LZO很好地外延生长了基底的织构,LZO薄膜(222)面φ扫描和(400)面摇摆曲线的半高宽值分别为7.57o°和5.73°。 展开更多
关键词 Ni7W基带 织构 再结晶退火 电子背散射衍射(EBSD) LZO过渡层
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