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氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜
1
作者
王忠柯
黄新堂
+2 位作者
王又清
王秋良
陈清明
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期493-496,共4页
应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ) 缓冲层薄膜,再在 YSZ/NiCr基底上在 750℃下制备具有平面织构和高临...
应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ) 缓冲层薄膜,再在 YSZ/NiCr基底上在 750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的 YBa2Cu3O7-X(YBCO)薄膜、 YSZ和 YBCO薄膜都为 c-轴取向和平面织构的, YSZ(202)和 YBCO(103)的 X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为 18'和 11'.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为 90K(R=0)和 7.9x105A/cm2(77K,零磁场).
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关键词
准分子脉冲激光
YBCO薄膜
nicr合金基底
织构
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职称材料
题名
氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜
1
作者
王忠柯
黄新堂
王又清
王秋良
陈清明
机构
华中理工大学激光技术国家重点实验室
出处
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000年第5期493-496,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目!59602004.
文摘
应用氧离子束辅助准分子脉冲激光沉积薄膜技术,先在NiCr合金(Hastelloy c-275)基底上在室温下淀积具有平面织构的钇稳锆(YSZ) 缓冲层薄膜,再在 YSZ/NiCr基底上在 750℃下制备具有平面织构和高临界电流密度的 YBa2Cu3O7-X(YBCO)薄膜、 YSZ和 YBCO薄膜都为 c-轴取向和平面织构的, YSZ(202)和 YBCO(103)的 X射线扫描衍射峰的全宽半峰值分别为 18'和 11'.YBCO薄膜的临界温度和临界电流密度分别为 90K(R=0)和 7.9x105A/cm2(77K,零磁场).
关键词
准分子脉冲激光
YBCO薄膜
nicr合金基底
织构
Keywords
pulsed laser, YBCO film, high critical current density,
nicr
alloy substrate, in-plane aligned structure
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧离子束辅助激光制备具有织构的YBCO薄膜
王忠柯
黄新堂
王又清
王秋良
陈清明
《材料研究学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2000
0
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职称材料
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