NiFe/Cu和NiFe/Mo多层膜的界面结构与巨磁电阻

用磁控溅射方法制备了NiFe／Cu和NiFe／Mo多层膜.测量了厚度不同的Cu层和Mo层多层膜的磁性和磁电阻，并用电镜分析了部分NiFe／Cu多层膜样品测量到NiFe／Cu多层膜的室温巨磁电阻随Cu层厚度振荡的第一、二、三峰而在NiFe/Mo多层膜中未发现巨磁电阻效应讨论了多层膜的界面结构对巨磁电阻效应的影响.

Cu层和Mo层对NiFe多层膜巨磁电阻(GMR)的影响

采用磁控溅射方法制备了ＮｉＦｅ／Ｃｕ和ＮｉＦｅ／Ｍｏ两个系列的多层膜，进行了结构、磁性和磁电阻测量，并对部分ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜样品作了电镜分析。对于ＮｉＦｅ／Ｃｕ多层膜，在室温下测量到巨磁电阻随Ｃｕ层厚度振荡的第一、二、三峰。在ＮｉＦｅ／Ｍｏ多层膜样品中未发现巨磁电阻效应。讨论了非磁性层对多层膜的磁性、界面结构和巨磁电阻效应的影响。