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STUDY OF THE EXCHANGE BIAS FIELD OF NiFe/FeMn BILAYERS 被引量:1
1
作者 M.H. Li1’2), G.H. Yu1). F. W. Zhu1) and W.Y. Lai2) 1)Department of Material Physics, University of Science and Technology Beijing, Beijing 100083, China 2)State Key Laboratory for Magnetism. Institute of Physics, The Chinese Academy of Sciences, Beijing 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2002年第2期238-242,共5页
The exchange bias field of NiFe/FeMn films with Ta/ Cu buffer was proved tobe lower than that of the films with Ta buffer. The crystallographic texture, surface roughness andelements distribution were examined in thes... The exchange bias field of NiFe/FeMn films with Ta/ Cu buffer was proved tobe lower than that of the films with Ta buffer. The crystallographic texture, surface roughness andelements distribution were examined in these two sets of samples, and there is no apparentdifference for the texture and roughness. However, the segregation of Cu atoms above NiFe surface inthe multilayer of Ta/Cu/NiFe has been observed by using the angle-resolved X-ray photoelectronspectroscopy (XPS). The decrease of the exchange bias field for NiFe/FeMn films with Ta/ Cu bufferlayers is mainly caused by the Cu atoms segregation at the interface between NiFe and FeMn. 展开更多
关键词 nife/femn exchange bias field TEXTURE surface roughness SURFACESEGREGATION
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Effect of Cu surface segregation on the exchange coupling field of NiFe/FeMn bilayers
2
作者 LI Minghua YU Guanghua +2 位作者 ZHU Fengwu JIANG Hongwei LAI Wuyan 《Chinese Science Bulletin》 SCIE EI CAS 2001年第22期1934-1936,共3页
The NiFe/FeMn bilayers with different buffer layers (Ta or Ta/Cu) were prepared by magnetron sputtering. Results show that the exchange coupling field of NiFe/FeMn fllms with Ta buffer is higher than that of the films... The NiFe/FeMn bilayers with different buffer layers (Ta or Ta/Cu) were prepared by magnetron sputtering. Results show that the exchange coupling field of NiFe/FeMn fllms with Ta buffer is higher than that of the films with Ta/ Cu buffer. We analysed the reasons by investigating the crystallographic texture, surface roughness and surface segregation of both fllms, respectively. We found that the decrease of the exchange coupling fields of NiFe/FeMn fllms with Ta/ Cu buffer layers was mainly caused by the Cu surface segregation on NiFe surface. 展开更多
关键词 nife/femn EXCHANGE coupling field TEXTURE SURFACE ROUGHNESS SURFACE segregation.
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织构和界面粗糙度对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响 被引量:1
3
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 姜宏伟 赖武彦 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期160-161,168,共3页
采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜 (分别以Ta、Cu作为缓冲层 ,Ta作为保护层 )。实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大 ,而矫顽力却很小。我们从织构、界面粗糙度两... 采用磁控溅射方法制备NiFe/FeMn双层膜 (分别以Ta、Cu作为缓冲层 ,Ta作为保护层 )。实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场大 ,而矫顽力却很小。我们从织构、界面粗糙度两方面对其中的原因进行了分析。以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜有好的织构且NiFe/FeMn界面较平滑 ,这引起了较强的交换偏置场和较低的矫顽力。 展开更多
关键词 nife/femn 交换偏置场 织构 界面粗糙度 双层膜
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插层Bi对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响及其XPS分析
4
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 曾德长 赖武彦 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第12期1834-1836,共3页
在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中,我们曾发现Cu在NiFe层的表面偏聚导致NiFe/FeMn薄膜的交换偏置场降低。为了抑制Cu的表面偏聚,我们在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中在Cu/NiFe界面沉积Bi插层。实验发现,沉积适当厚度的Bi插层可以将NiFe/FeMn双层... 在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中,我们曾发现Cu在NiFe层的表面偏聚导致NiFe/FeMn薄膜的交换偏置场降低。为了抑制Cu的表面偏聚,我们在Ta/Cu/NiFe/FeMn/Ta薄膜中在Cu/NiFe界面沉积Bi插层。实验发现,沉积适当厚度的Bi插层可以将NiFe/FeMn双层膜的交换偏置场提高1倍。XPS分析表明,在Cu/NiFe界面沉积的插层Bi有效地抑制了Cu在NiFe表面的偏聚,提高了交换偏置场。 展开更多
关键词 nife/femn 交换偏置场Hex 表面偏聚 Bi插层
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不同缓冲层对NiFe/FeMn双层膜交换耦合场的影响
5
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 姜宏伟 赖武彦 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2002年第1期65-68,共4页
采用磁控溅射方法制备了NiFe/FeMn双层膜 ,分别以Ta ,Cu作为缓冲层 ,Ta作为保护层。实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场大 ,而矫顽力却很小。本文分别从织构、界面粗糙... 采用磁控溅射方法制备了NiFe/FeMn双层膜 ,分别以Ta ,Cu作为缓冲层 ,Ta作为保护层。实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场比以Cu为缓冲层的NiFe/FeMn双层膜的交换耦合场大 ,而矫顽力却很小。本文分别从织构、界面粗糙度、界面偏聚等几方面对其中的原因进行了分析。除不同缓冲层引起的织构、界面粗糙度不同对交换耦合场有影响外 。 展开更多
关键词 交换耦合场 织构 界面粗糙度 界面偏聚 nife/femn双层膜 磁控溅射 镍铁合金 铁锰合金
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缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜静态磁性能的影响 被引量:1
6
作者 邹延珂 周俊 +2 位作者 倪径 郭韦 徐德超 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2019年第4期5-6,50,共3页
采用直流磁控溅射法沉积了Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜系列样品。通过振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等检测手段研究了Ta缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜交换偏置场、矫顽力的影响。VSM测试结果表明,交换偏置场He随Ta缓冲... 采用直流磁控溅射法沉积了Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜系列样品。通过振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)等检测手段研究了Ta缓冲层厚度对NiFe/FeMn薄膜交换偏置场、矫顽力的影响。VSM测试结果表明,交换偏置场He随Ta缓冲层厚度增加而增大,矫顽力Hc随随Ta缓冲层厚度增加有减小的趋势。通过AFM检测了不同厚度Ta缓冲层上生长的NiFe层表面均方根粗糙度,发现其随Ta缓冲层厚度的增加而减小,表明NiFe/FeMn界面变得更加均匀,这导致了较大的He和较小的Hc。另外,通过XRD分析,发现随着Ta层厚度的增加Ta由非晶态转化为结晶状态并先后显示出Ta(300)、Ta(200)取向,表明随着Ta缓冲层厚度增加,其织构转变也可能会导致静态磁性的变化。 展开更多
关键词 nife/femn薄膜 缓冲层 交换偏置 微结构 静态磁性能
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膜厚对NiFe单层膜及NiFe/FeMn双层膜性能的影响对比研究 被引量:4
7
作者 钟秋雨 刘昕 +5 位作者 陈川 孙科 邬传健 郭荣迪 余忠 兰中文 《磁性材料及器件》 CAS CSCD 2020年第4期1-6,13,共7页
采用直流磁控溅射法在Si(111)基片上制备不同厚度的NiFe单层膜、NiFe/FeMn双层膜,结合原子力显微镜(AFM)、振动样品磁强计(VSM)及电子顺磁共振(EPR)波谱仪研究了纳米膜的微观形貌、表面粗糙度、静磁性能及微波磁性能。结果表明,相对于N... 采用直流磁控溅射法在Si(111)基片上制备不同厚度的NiFe单层膜、NiFe/FeMn双层膜,结合原子力显微镜(AFM)、振动样品磁强计(VSM)及电子顺磁共振(EPR)波谱仪研究了纳米膜的微观形貌、表面粗糙度、静磁性能及微波磁性能。结果表明,相对于NiFe单层膜,反铁磁性覆盖层FeMn的引入,使NiFe/FeMn双层膜的共振场(Hres)下降,与自旋波共振相关的有效交换场得以提升,说明在一定的外加稳恒磁场下,利用铁磁/反铁磁(FM/AF)多层膜结构所产生的钉扎效应能够提高薄膜的共振频率。在20~70 nm的NiFe薄膜厚度范围内,单层膜的共振场为1289~1354Oe,而双层膜的共振场降至1089~1118 Oe。 展开更多
关键词 nife单层膜 nife/femn双层膜 钉扎效应 共振场 形貌 磁性能
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NiFe层溅射气压对顶部钉扎NiFe/FeMn薄膜静态磁性能的影响
8
作者 邹延珂 王振 李俊 《磁性材料及器件》 CAS 2018年第4期1-3,共3页
用直流磁控溅射制备了系列Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜样品。利用振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)等手段研究了溅射气压对NiFe层交换偏置场、矫顽力、截止温度的影响。结果表明,交换偏置场随NiFe层溅射气压和NiFe层厚度的增加均减小;在较... 用直流磁控溅射制备了系列Ta/NiFe/FeMn/Ta薄膜样品。利用振动样品磁强计(VSM)、X射线衍射(XRD)等手段研究了溅射气压对NiFe层交换偏置场、矫顽力、截止温度的影响。结果表明,交换偏置场随NiFe层溅射气压和NiFe层厚度的增加均减小;在较低的NiFe层溅射气压下,可以获得具有较高交换偏置场He和较低矫顽力Hc的样品;截止温度Tb随着NiFe层溅射气压的减小而增高。通过对比研究0.8Pa、0.4Pa、0.2PaNiFe层溅射气压下NiFe/FeMn薄膜的静态磁性及微结构变化,发现以上现象是由于在较低的溅射气压能够获得较好织构的NiFe(111),进而诱导出较好取向的FeMn(111)。取向良好的NiFe/FeMn薄膜产生较大的交换偏置场和较小的矫顽力及更高的截止温度。 展开更多
关键词 nife/femn薄膜 溅射气压 交换偏置 微结构 静态磁性
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Ta,Ta/Cu缓冲层对NiFe/FeMn双层膜交换偏置场的影响 被引量:15
9
作者 李明华 于广华 +2 位作者 姜宏伟 蔡建旺 朱逢吾 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第11期2230-2234,共5页
采用磁控溅射方法制备了分别以Ta和Ta Cu作为缓冲层的一系列NiFe FeMn双层膜 .实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe FeMn双层膜的交换偏置场比以Ta Cu为缓冲层的NiFe FeMn双层膜的交换偏置场大 .测量了这两种双层膜的织构、表面粗糙度和表面成... 采用磁控溅射方法制备了分别以Ta和Ta Cu作为缓冲层的一系列NiFe FeMn双层膜 .实验发现 ,以Ta为缓冲层的NiFe FeMn双层膜的交换偏置场比以Ta Cu为缓冲层的NiFe FeMn双层膜的交换偏置场大 .测量了这两种双层膜的织构、表面粗糙度和表面成分 .结果表明 ,以Ta Cu为缓冲层时 ,Cu在NiFe层的上表面偏聚是造成NiFe FeMn双层膜交换偏置场降低的重要原因 . 展开更多
关键词 交换偏置场 织构 表面粗糙度 TA Ta/Cu 缓冲层 nife/femn双层膜 上表面偏聚
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(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-x)Cr_x作为种子层对NiFe/FeMn交换偏置的影响 被引量:6
10
作者 滕蛟 蔡建旺 +2 位作者 熊小涛 赖武彦 朱逢吾 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第12期2849-2853,共5页
采用一种新的种子层材料 :(Ni0 81 Fe0 1 9) 1 -xCrx,通过改变种子层中Cr原子的含量 ,使得在其上生长的NiFe FeMn双层膜的织构和晶粒尺寸产生极大的差异 ,系统研究了NiFe FeMn双层膜中FeMn晶粒尺寸和织构对交换偏置的影响 .实验结果表... 采用一种新的种子层材料 :(Ni0 81 Fe0 1 9) 1 -xCrx,通过改变种子层中Cr原子的含量 ,使得在其上生长的NiFe FeMn双层膜的织构和晶粒尺寸产生极大的差异 ,系统研究了NiFe FeMn双层膜中FeMn晶粒尺寸和织构对交换偏置的影响 .实验结果表明 ,在FeMn的γ相 (111)织构较好的前提下 ,交换偏置场的大小与织构的差异没有关系 ;FeMn的晶粒尺寸对交换偏置场有很大影响 ,较小的反铁磁层晶粒对交换偏置场有利 ,过大的反铁磁层晶粒不利于交换偏置场 .将 (Ni0 81 Fe0 1 9) 0 5Cr0 5与传统的种子层材料Ta进行了对比 ,发现前者具有很多优点 。 展开更多
关键词 (Ni0.81Fe0.19)1-xCrx nife/femn 交换偏置 晶粒尺寸 织构 种子层 铁磁材料 反铁磁材料
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NiFe/非磁金属隔离层/FeMn薄膜中的微结构及其对交换耦合的影响 被引量:1
11
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 何珂 赖武彦 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2003年第11期961-968,共8页
采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/非磁金属隔离层/FeMn多层膜,研究了交换耦合场Hex相对于非磁金属隔离层厚度的变化关系.实验结果表明:随非磁金属隔离层厚度的增加,以Bi和Ag为隔离层的Hex薄膜急剧下降,以Cu为隔离层的薄膜的Hex下降较缓慢... 采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/非磁金属隔离层/FeMn多层膜,研究了交换耦合场Hex相对于非磁金属隔离层厚度的变化关系.实验结果表明:随非磁金属隔离层厚度的增加,以Bi和Ag为隔离层的Hex薄膜急剧下降,以Cu为隔离层的薄膜的Hex下降较缓慢.对Cu而言,它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同且晶格常数相近,Cu层以及FeMn层都可以相继外延生长,FeMn层的(111)织构不会受到破坏,因此,Hex随Cu沉积厚度增加缓慢下降.对Ag而言,虽然它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同,但晶格常数相差较大,Ag层以及FeMn层都不可能外延生长,FeMn层的织构将会受到破坏,Hex随Ag沉积厚度增加迅速下降.对Bi而言,不仅它的晶体结构与NiFe层的不同,而且晶格常数相差也较大,同样,Bi层以及FeMn层也不可能外延生长,FeMn层的织构也会受到破坏,因此,Hex也随Bi沉积厚度增加迅速下降.但是,X射线光电子能谱研究表明:极少量的表面活化原子Bi沉积在NiFe/FeMn界面时,会上浮到FeMn层表面,因而Hex下降很少. 展开更多
关键词 nife femn薄膜 非磁金属隔离层 交换耦合场Hex 晶格匹配 X射线衍射 磁控溅射 薄膜结构
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Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中Cu的层间偏聚及其对磁性的影响
12
作者 于广华 李明华 +3 位作者 朱逢吾 柴春林 姜宏伟 赖武彦 《中国科学(E辑)》 CSCD 北大核心 2003年第9期778-782,共5页
实验结果表明Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜的交换耦合场Hex要大于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的Hex。为了寻找其原因,用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12nm)/NiFe(7um),Ta(12um)/NiFe(7um)/Cu(4um)和Ta(12um)/NiFe(7um)/Cu(3um)/Ni... 实验结果表明Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜的交换耦合场Hex要大于Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜中的Hex。为了寻找其原因,用X射线光电子能谱(XPS)研究了Ta(12nm)/NiFe(7um),Ta(12um)/NiFe(7um)/Cu(4um)和Ta(12um)/NiFe(7um)/Cu(3um)/NiFe(5um)3种样品,研究结果表明前两种样品表面无任何来自下层的元素偏聚,但在第3种样品最上层的NiFe表面上,探测到从下层偏聚上来的Cu原子,认为:Cu在NiFe/FeMn层间的存在是Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta自旋阀多层膜的Hex低于Ta/NiFe/FeMn/Ta多层膜Hex的一个重要原因。 展开更多
关键词 Ta/nife/Cu/nife/femn/Ta自旋阀多层膜 交换耦合场 层间偏聚 磁性
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INFLUENCE OF THE NONMAGNETIC METAL SPACER ON THE MAGNETIC PROPERTIES AND MICROSTRUCTURE OF THE MULTILAYER FILMS 被引量:1
13
作者 M.H. Li G.H. Yu +2 位作者 F.W. Zhu H.W. Jiang W.Y. Lai 《Acta Metallurgica Sinica(English Letters)》 SCIE EI CAS CSCD 2006年第4期235-243,共9页
Ta / NiFe/Bi ( Ag, Cu )/FeMn/Ta and Ta / NiFe1/FeMn / Bi ( Ag, Cu )/NiFen/Ta films were prepared by magnetic sputtering. The texture and the dependences of the exchange-coupling field on the thickness of Bi, Ag, a... Ta / NiFe/Bi ( Ag, Cu )/FeMn/Ta and Ta / NiFe1/FeMn / Bi ( Ag, Cu )/NiFen/Ta films were prepared by magnetic sputtering. The texture and the dependences of the exchange-coupling field on the thickness of Bi, Ag, and Cu in Ta/NiFe/Bi(Ag, Cu) /FeMn/Ta and Ta/NiFe/FeMn/Bi(Ag, Cu)/NiFe/Ta films were studied. XPS results indicate that the Bi atoms migrated into the FeMn layer during the deposition process and a FeMnBi alloy was probably formed or the Bi atoms existed as an impurity in the FeMn layer in Ta/NiFe/Bi(Ag, Cu )/FeMn/Ta. Otherwise, in Ta/NiFe/FeMn/Bi (Ag, Cu)/NiFe/Ta films, Bi, Ag, and Cu atoms do not remain entirely at the interface of the FeMn/ NiFeⅡfilm, but at least partly segregate to the surface of the NiFe film. 展开更多
关键词 nife/femn nonmagnetic spacer exchange coupling XPS (X-ray photoelectron spectroscopy)
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Microstructures of NiFe/nonmagnetic metal spacer/FeMn films and their influences on exchange coupling
14
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 何珂 赖武彦 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2003年第6期645-653,共9页
Ta/NiFe/nonmagnetic metal spacer/FeMn films were prepared by magnetron sputtering. The dependences of the exchange coupling field (Hex) between an antiferromagnetic FeMn layer and a ferromagnetic NiFe layer on the thi... Ta/NiFe/nonmagnetic metal spacer/FeMn films were prepared by magnetron sputtering. The dependences of the exchange coupling field (Hex) between an antiferromagnetic FeMn layer and a ferromagnetic NiFe layer on the thickness of nonmagnetic metal spacer layers were system-atically studied. The results show that the Hex dramatically decreases with the increase in the thicknesses of Bi and Ag spacer layers. However, it gradually decreases with the increase in the thickness of a Cu spacer layer. For a Cu space layer, its crystalline structure is the same as that of NiFe and the lattice parameters of them are close to each other. The Cu layer and FeMn layer will epitaxially grow on the NiFe layer in succession, so the (111) texture of the FeMn layer will not be damaged. As a result, the Hex gradually decreases with the deposition thickness of a Cu layer. For an Ag space layer, its crystalline structure is the same as that of NiFe, but its lattice parameter is very different from that of NiFe. Thus, neither an Ag nor an FeMn layer will epitaxially grow on the NiFe layer and the (111) texture of the FeMn layer will be damaged. The Hex rapidly decreases with the increase in the deposition thickness of an Ag layer. For a Bi spacer layer, not only its crystalline structure but also its lattice parameter is greatly different from that of NiFe. For the same reason, the Bi and FeMn layer cannot epitaxially grow on the NiFe layer. The texture of the FeMn layer will also be damaged. Therefore, the Hex rapidly decreases with the increase in the deposition thick-ness of a Bi layer as well. However, the research result of X-ray photoelectron spectroscopy indi-cates that a very small amount of surfactant Bi atoms will migrate to the FeMn layer surface when they are deposited on the NiFe/FeMn interface. Thus, the Hex will hardly decrease. 展开更多
关键词 nife/femn NONMAGNETIC metal spacer exchange coupling field (Hex) lattice match X-ray diffraction (XRD).
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Interlayer Segregation of Cu Atoms in Metal Multilayers
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作者 YU Guang-Hua LI Ming-Hua +3 位作者 ZHU Feng-Wu JIANG Hong-Wei LAI Wu-Yan CHAI Chun-Lin 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2001年第9期1245-1248,共4页
The experimental results show that the exchange coupling field Hex of NiFe/FeMn for Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers is higher than that for the spin valve multilayers Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta. The composition and chemical ... The experimental results show that the exchange coupling field Hex of NiFe/FeMn for Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers is higher than that for the spin valve multilayers Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta. The composition and chemical states at the surface of Ta(12 nm)/NiFe( 7nm), Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/Cu(4 nm) and Ta(12 nm)/NiFe(7 nm)/Cu(3nm)/NiFe(5 nm) were studied by using x-ray photoelectron spectroscopy. The results show that no element from the underlayers floats out or segregates to the surface for Ta(12nm)/NiFe(7nm), Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(4nm). However, Cu atoms segregate to the surface of Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(3nm)/NiFe(5nm) multilayers, I.e. To the NiFe/FeMn interface for Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta multilayers. We believe that the presence of Cu atoms at the interface of NiFe/FeMn is one of the important factors which will cause the exchange coupling field Hex of Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers to be higher than that of Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta multilayers. 展开更多
关键词 spectroscopy. nife/femn INTERFACE
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Comparative Investigation on the microstructures of Ni80Fe20/Cu and Ni80Fe20/Fe50Mn50 Superlattices by X—Ray Diffraction
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作者 MingXu GuangmingLug 《同步辐射装置用户科技论文集》 2000年第1期179-181,共3页
关键词 nife/Cu nife/femn X射线衍射 微结构 多层涂层
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PtMn层厚度对NiFe/PtMn双层膜交换偏置形成及热稳定性的影响 被引量:1
17
作者 李岩 陈庆永 +2 位作者 姜宏伟 王艾玲 郑鹉 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第12期6647-6650,共4页
采用磁控溅射的方法制备了一组以(Ni0·81Fe0·19)1-xCrx作为缓冲层的NiFe/PtMn双层膜样品,研究了NiFe/PtMn双层膜的形成过程和热稳定性.实验表明,Cr成分的不同会引起NiFe/PtMn双层膜中PtMn层晶粒尺寸的不同,使NiFe/PtMn双层膜... 采用磁控溅射的方法制备了一组以(Ni0·81Fe0·19)1-xCrx作为缓冲层的NiFe/PtMn双层膜样品,研究了NiFe/PtMn双层膜的形成过程和热稳定性.实验表明,Cr成分的不同会引起NiFe/PtMn双层膜中PtMn层晶粒尺寸的不同,使NiFe/PtMn双层膜的交换偏置场与PtMn层厚度之间呈现不同的变化关系.热稳定性实验表明,PtMn晶粒尺寸较大的样品,出现交换偏置现象所需要的临界厚度较小,热稳定性好,这与Mauri的理论模型一致. 展开更多
关键词 nife/PtMn双层膜 交换偏置场 热稳定性
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(Ni_(0.81)Fe_(0.19))_(1-x)Cr_x作为种子层对NiFe/PtMn双层膜交换偏置的影响 被引量:1
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作者 李岩 陈庆永 姜宏伟 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期2543-2547,共5页
将NiFe/PtMn双层膜生长在(Ni0·81Fe0·19)1-xCrx种子层材料上,通过改变种子层中Cr的原子含量,系统的研究了NiFe/PtMn双层膜中PtMn晶粒尺寸和织构对交换偏置的影响.对退火270℃,5h后的NiFe/PtMn双层膜磁性的研究表明,PtMn织构... 将NiFe/PtMn双层膜生长在(Ni0·81Fe0·19)1-xCrx种子层材料上,通过改变种子层中Cr的原子含量,系统的研究了NiFe/PtMn双层膜中PtMn晶粒尺寸和织构对交换偏置的影响.对退火270℃,5h后的NiFe/PtMn双层膜磁性的研究表明,PtMn织构强弱对交换偏置场的影响不明显,而PtMn的晶粒尺寸是影响交换偏置场的主要因素,PtMn颗粒的相干长度在11·3nm左右时得到了较大的交换偏置场. 展开更多
关键词 nife/PtMn双层膜 交换偏置场
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非磁性金属隔离层Bi,Ag和Cu对多层膜性能的影响
19
作者 李明华 于广华 +2 位作者 朱逢吾 曾德长 赖武彦 《科学通报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第17期1998-2002,共5页
采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta和Ta/NiFeⅠ/FeMn/Bi(Ag,Cu)/NiFeⅡ/Ta多层膜.通过X射线衍射研究了薄膜样品Ta/NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta的织构.在NiFeⅠ/FeMn界面沉积大量的Cu也不会影响FeMn层的(111)织构.与此相反,在... 采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta和Ta/NiFeⅠ/FeMn/Bi(Ag,Cu)/NiFeⅡ/Ta多层膜.通过X射线衍射研究了薄膜样品Ta/NiFe/Bi(Ag,Cu)/FeMn/Ta的织构.在NiFeⅠ/FeMn界面沉积大量的Cu也不会影响FeMn层的(111)织构.与此相反,在NiFeⅠ/FeMn界面沉积少量的Bi和Ag,FeMn层的织构就会受到破坏.研究发现,这与隔离层原子的晶体结构和晶格常数有关.在Ta/NiFeⅠ/FeMn/Bi(Ag,Cu)/NiFeⅡ/Ta多层膜中,研究了反铁磁薄膜FeMn与铁磁薄膜NiFeⅠ和NiFeⅡ间的交换耦合场Hex1和Hex2相对于非磁金属隔离层Bi,Ag和Cu厚度的变化关系.实验结果表明,随着非磁金属隔离层厚度的增加,Hex1的大小基本不变,保持在10.35~11.15kA/m之间.交换偏置场Hex2随着Bi,Ag和Cu厚度的增加急剧下降并趋于平滑.当Bi,Ag和Cu的厚度分别为0.6,1.2和0.6nm时,交换偏置场Hex2下降为0.87,0.56和0.079kA/m.此后,随着隔离层厚度的增加交换偏置场Hex2基本不变. 展开更多
关键词 nife/femn 非磁隔离层 交换耦合场 晶格匹配 表面偏聚
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Magnetic property and interlayer segregation in spin valve metal multilayers
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作者 于广华 李明华 +3 位作者 朱逢吾 柴春林 姜宏伟 赖武彦 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2002年第2期140-145,共6页
The experimental results show that the exchange coupling field of NiFe/FeMn for Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers is higher than that for the spin valve multilayers Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta.In order to find out the reason,th... The experimental results show that the exchange coupling field of NiFe/FeMn for Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers is higher than that for the spin valve multilayers Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta.In order to find out the reason,the composition and chemical states at the surfaces of Ta(12nm)/NiFe(7nm),Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(4nm) and Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(3nm)/NiFe(5nm) were studied using the X-ray photoelectron spectroscopy (XPS).The results show that no elements from lower layers float out or segregate to the surface for the first and second samples.However,Cu atoms segregate to the surface of Ta(12nm)/NiFe(7nm)/Cu(3nm)/NiFe(5nm) multilayers,i.e.Cu atoms segregate to the NiFe/FeMn interface for Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta multilayers.We believe that the presence of Cu atoms at the interface of NiFe/FeMn is one of the important factors causing the exchange coupling field of Ta/NiFe/FeMn/Ta multilayers to be higher than that of Ta/NiFe/Cu/NiFe/FeMn/Ta multilayers. 展开更多
关键词 nife/femn nife/Cu/nife/femn interlayer segregation exchange coupling field Hex X-ray PHOTOELECTRON spectroscopy(XPS).
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