等离子体处理对氧化铟锡(ITO)润湿性及性能参数的影响

在预处理室中对ITO薄膜进行等离子体处理,研究分别在氧气、氮气、氩气及空气四种工作气体下,等离子体处理压强和处理时间对薄膜的润湿性及性能参数的影响。接触角测试仪表征表明,等离子体处理时间越长、处理压强越大,静态H_(2)O接触角越小,其润湿性越高。分光光度计测试结果表明,经等离子体处理,ITO薄膜透过率较未处理均有所下降。四种工作气体下,等离子体处理压强越大对透过率的影响越小,但随着处理时间的增长影响会增大;相较其他工作气体,氧气等离子体处理整体变化最小。四点探针表征表明,处理后的ITO薄膜方块电阻无明显变化,这是由于等离子体处理只对ITO薄膜表面进行改性,没有改变内部性质。利用霍尔效应测量载流子浓度,没有发现明显变化,与方块电阻不变结论一致。