OVD工艺制备芯棒产生中心气线气泡的解决方法

外部气相沉积法(OVD)具有沉积速率高、剖面结构易于控制、光纤性能指标稳定性和一致性好等特殊的生产优势。然而,OVD工艺生产芯棒时经常会在玻璃体的中心产生亮点、气泡、气线,甚至是贯穿整根棒体的气线。芯棒中心亮点、气线、气泡严重影响光纤的成品率和传输性能,会造成大量的成本浪费。因此,解决OVD工艺制备芯棒过程中形成的中心亮点、气线、气泡问题,在整个光纤预制棒的生产过程中特别重要。文章对此展开研究,提出解决方法。

浅析大尺寸光纤预制棒(OVD法)的制备工艺

光纤预制棒的大型化是降低光纤拉丝成本的必要手段,本文介绍了利用OVD法生产大尺寸光纤预制棒的工艺方法,主要包括大尺寸光纤预制棒在沉积、烧结、保温过程中的设备与工艺介绍。

基于WVD和OVD的唐山市中心城区应急避难场所建设分析

唐山市是地震多发区,应急避难场所建设是其地震预防工作的重要环节。文章基于WVD,OVD对唐山市中心城区的应急避难场所建设进行了分析,得出以下结论:第一,从空间布局上看,研究区北部、东南、南部地区为应急避难场所责任区的盲区,路南区、路北区避震场所较为合理,开平区、丰南区应急避难责任区服务半径小,应急避难能力有限;第二,从建设上看,研究区北部凤凰新城应结合城市绿地等建设紧急避难场所,东部开平公园应加强硬件建设并提升其应急能力,南部应增设新的避难场所,开辟唐山市第二医院到凤凰山公园的生命通道,利用第二医院起落飞机的优势,提升凤凰山公园应急避难能力;第三,从研究方法上看,WVD较OVD更能全面考虑应急避难场所本身的应急能力。

以八甲基环四硅氧烷为原料生产预制棒的OVD设备及工艺研究

随着各大光纤预制棒厂家产能的不断增加,市场竞争逐渐激烈,如何进一步降低光纤预制棒的制造成本,成为各大厂家最为紧迫的议题。此外,国家的环保政策逐渐收紧,绿色生产已是大势所趋。因此,开发低成本、环保型原材料应用于光纤预制棒的生产制造,已成为了当前研发的热点。本课题提出了采用八甲基环四硅氧烷(简称D4)取代SiCl_(4)为原材料生产光纤预制棒的技术路线,通过对蒸发系统、OVD设备的研发,疏松体粉末棒沉积工艺研发等,批量使用D4取代SiCl_(4)应用于光纤预制棒的制造。

光纤OVD工艺废气处理

本文对OVD工艺废气及处理技术进行了详细分析。

MCVD＋OVD法制预制棒的优势

本文简单分析了预制棒芯棒和外包层各种做法的优缺点，着重介绍了MCVD+OVD这一制棒方法在控制光纤的模场直径和截止波长等方面的优势。

MCVD／OVD两步法生产单模光纤预制棒技术

本文介绍了利用MCVD／OVD两步法生产单模光纤预制棒的工艺技术并对与此相关的其它问题进行了讨论。

“鉴信”光学可变图像(OVD)及在防伪包装上的综合应用

长期以来，“激光全息”一词在国内被用来泛指光学可变图案(OVD)。但“激光”(Laser)“全息”(Hologram)在英文中有着明确的定义，即只是OVD涵盖的多种母版技术中的一部分。如国内流行的真三维图像、二维／三维全息图及点阵全息图等都属于全息的范畴。我国自20世纪80年代引进激光全启．图像生产线以来，激光防伪标志在防假上发挥过一定作用。但其防伪能力随着全息母版技术的商品化，

干涉型激光直写技术用于光盘防伪

利用作者研制的干涉型激光直写系统 ,阐述了干涉型激光直写设计OVD的方法 ,防伪特征 ,介绍了应用于光盘防伪的OVD技术和应用前景 ,给出了实验结果。

光纤预制棒复合工艺的研究

文章概括了当前光纤预制棒制造技术的现状 ,对“等离子体化学汽相沉积法 ( PCVD)+管外汽相沉积法 ( OVD)”

光纤预制棒技术的最新发展

1引言 目前,已形成光纤光缆全球性大发展的良好气候.美国KMI公司预测,今后10年,全球光纤光缆需求将持续增长.与全球光纤光缆需求增长的形势一致,国际光纤产业正进行着新一轮的扩产.

井冈山地区正常者颌面部线距评估咬合垂直距离(前面高)的预测研究

目的：建立颅颌面相关测量线距评估前面高的预测模型。方法：按正常殆的纳入标准从井冈山大学2010-2011级两届本科班中筛选出55名正常殆志愿者进行头影测量分析，采用Winceph8．0测量软件进行描点和测量。结果：①研究对象ANS-Me的平均值为（64．584-4．23）mm（95％CI：63．44-65．73），其中男性（66．384±4．02）mm，女性（62．85±3．71）mm，两组间分布差异有统计学意义（t=3．377，P=0．001）；②多元线性回归分析得出，ANS-Me的回归方程为Y=0．719×N-ANS＋0．302×ANS-PNS＋12．111，且方程有统计学意义（P=0．000），决定系数R^2=0．519。结论：联合N-ANS、ANS-PNS两个因素的预测模型可以作为临床评估咬合垂直距离的参考。

国内市场视盘机质量分析

本文详细分析了目前市场上销售的视盘机的质量状况和主要存在问题,为生产企业质量改进、销售企业严把进货质量关以及消费者选购放心满意产品提供依据。

采用DMD并行输入的激光干涉直写方法

基于HoloMaker-IV激光干涉直写系统的数字微反射镜(digital micro-mirror device,DMD)并行输入光刻方式,提出了根据图形特性的智能边界处理,实现了超高分辨率图像的高效激光直写干涉光刻。通过DMD输入图形与系统干涉控制参数相互匹配处理的方式对256色位图进行了图形格式转换,从而支持2D/3D,3D光变图像以及各种微图形文字的处理,为高效率制作高品质光变图像提供了新方法。实验表明:在2400DPI分辨率下,该方法比传统逐点光刻法的运行效率提高90倍。给出了高质量的实验结果。

干涉型激光直写制作光学可变图像的优化方法

分析了用干涉型激光直写技术制作光学可变图像的优点 ,为达到最佳图像质量和最短运行时间 ,针对不同类型的图像提出光刻轨迹按光栅取向连续曝光和控制光电开关的通断不连续曝光的两种优化运行式 。

高分辨率衍射图形的DMD并行激光干涉直写

通过将数字微反射镜(Digital Micro-mirror Device,DMD)输入阵列图形微缩干涉成像,激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形,像素特征尺寸3.5μm,干涉条纹周期1μm.控制刻蚀深度、干涉条纹取向和DMD输入图形的结构,系统能数字化完成2D/3D、3D光变图像、超微图形文字以及二元光学元件的制作,实现了超高分辨率图形与高效的干涉光刻.给出了实验结果.

低空频模板实现微光变图像的激光直写方法

提出一种采用低空频模板实现微光变图像(micro-optical variable device)的激光直写方法。低空频模版由6×6个不同取向线条状单元图形构成,单元图形由空间光调制器输入,经精缩投影光学系统缩微,在光刻胶面上逐单元曝光。控制单元图形的结构取向能够实现各种复杂设计和特性的微光变图像。在低频光栅模板的基础上,给出了定向散斑结构输入模板的设计方法,它可进一步改进图像的非彩色效果。采用自行研制的SVG-LDW04型激光直写系统制作了微光变图像,其结构特征线度为4μm^100μm。该方法无需机械旋转机构,为实现微光变图像提供了一种便捷有效的手段。

正常者瞳孔间距与咬合垂直距离关系的研究

目的:研究正常者瞳孔间距(Interpupillary Distance,IPD)与咬合垂直距离(Occlusal Vertical Dimension,OVD)的关系。方法:对116名福建籍青年正常者测量其OVD与IPD,并进行两者相关回归分析。结果:总样本的OVD均值为65.35mm±4.70mm,IPD均值为63.98mm±3.26mm,男性正常者OVD均值为68.16mm±4.23mm,IPD均值为65.46mm±2.96mm,女性正常者的OVD均值为63.22mm±3.86mm,IPD均值为62.86mm±3.05mm;总样本的IPD与OVD的相关系数r=0.633,男性样本的IPD与OVD的相关系数r=0.563,女性样本的IPD与OVD的相关系数r=0.531。结论:IPD与OVD间存在显著相关性,IPD可以作为需咬合重建患者确定其OVD的参考指标。

九江地区正常[牙合]青年颅面部硬组织线性测量距离与咬合垂直距离相关性研究

目的：分析咬合垂直距离（occlusalverticaldimension，OVD）与颅颌面相关测量线距的相关性。方法：按正常袷标准筛选出57名志愿者进行头影测量分析，采用Winceph8．0测量软件进行描点和测量。结果：ANS—Me的平均值为64．50．4-4．18（95％CI：63．39～65．61）；ANS—Me分别与S-N、N—ANS、ANS—PNS之间均存在显著性线性相关关系（P≤0．05）；偏相关分析结果ANS—Me与N—ANS、ANS—PNS依然存在显著性相关（P≤0．05），而ANS—Me与S-N则无显著性相关（P〉0．05）。结论：九江地区青年正常袷者的N—ANS、ANS—PNS可以作为临床确定咬合垂直距离的参考指标。

咬合垂直距离过低的合垫式义齿修复

目的探讨咬合垂直距离过低的患者牙列缺损的修复治疗。方法对13例因牙列重度磨耗、深覆合（部分伴有颞下颌关节症状）伴牙列缺损的患者采用合垫式可摘局部义齿修复。结果随访1—24个月，13例患者咀嚼功能、颞下颌关节症状、颜面美观及牙齿磨耗及敏感等得到明显改善。结论合垫式可摘局部义齿使咬合垂直距离过低的患者进行义齿修复成为一种可能.