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Trikon发布全新Omegai2L干法蚀刻系统
1
作者
付军
《集成电路应用》
2005年第4期59-59,共1页
近日,Trikcm公司宣布,其全新的Omegai2L。干法蚀刻系统在主流硅和功率管理应用中将带来新的市场机遇,其经验证的技术可以帮助降低风险、提高利润的能力.
关键词
Trikon公司
omegai2l
干法蚀刻系统
主流硅
功率管理应用
下载PDF
职称材料
题名
Trikon发布全新Omegai2L干法蚀刻系统
1
作者
付军
出处
《集成电路应用》
2005年第4期59-59,共1页
文摘
近日,Trikcm公司宣布,其全新的Omegai2L。干法蚀刻系统在主流硅和功率管理应用中将带来新的市场机遇,其经验证的技术可以帮助降低风险、提高利润的能力.
关键词
Trikon公司
omegai2l
干法蚀刻系统
主流硅
功率管理应用
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
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作者
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1
Trikon发布全新Omegai2L干法蚀刻系统
付军
《集成电路应用》
2005
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