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单晶硅各向异性湿法刻蚀的形貌控制 被引量:6
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作者 姚明秋 唐彬 苏伟 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期350-357,共8页
针对摆式微加速度计的制作,对利用两种添加剂共同修饰的TMAH刻蚀液的单晶硅湿法刻蚀技术及其相关刻蚀特性进行了研究。分析了两种添加剂之间的作用机理及对单晶硅湿法刻蚀的影响,选择合适的添加剂刻蚀液配比,实现了稳定的刻蚀形貌控制... 针对摆式微加速度计的制作,对利用两种添加剂共同修饰的TMAH刻蚀液的单晶硅湿法刻蚀技术及其相关刻蚀特性进行了研究。分析了两种添加剂之间的作用机理及对单晶硅湿法刻蚀的影响,选择合适的添加剂刻蚀液配比,实现了稳定的刻蚀形貌控制。通过两种添加剂的共同作用,获得了具有光滑刻蚀表面(粗糙度约为1nm)和良好凸角保护(凸角侧蚀比率小于0.8)的刻蚀形貌。实验结果表明,在三重溶液(TMAH+Triton-X-100+IPA)下的刻蚀形貌具有明显优势。最后,基于添加剂对疏水性单晶硅材料的作用机理及表面张力调节,表面活性剂和酒精类添加剂之间的相互作用分析了刻蚀形貌发生变化的原因。以典型悬臂梁-质量块的制作为例,验证了采用该单晶硅刻蚀形貌控制方法可以获得微加速度计光滑的悬臂梁表面和无需凸角补偿的完整质量块。相比于其它制作工艺,该方法简单、易操作,有利于提高微机电器件的性能。 展开更多
关键词 单晶硅 湿法刻蚀 形貌控制 三重溶液 表面粗糙度 凸角
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MEMS压印模板制作的刻蚀机理及尺寸控制方法 被引量:2
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作者 王权岱 段玉岗 +1 位作者 卢秉恒 杨连发 《纳米技术与精密工程》 EI CAS CSCD 2009年第1期90-94,共5页
为了提高基于湿法刻蚀压印模板制作工艺中刻蚀图形尺寸的控制精度,研究了玻璃湿法刻蚀的反应动力学过程,得到刻蚀剂中(HF)2为决定反应速率的主要活性成分的结论;结合实验建立了合理的刻蚀速率模型.采用不同氢氟酸浓度的刻蚀液进行了实验... 为了提高基于湿法刻蚀压印模板制作工艺中刻蚀图形尺寸的控制精度,研究了玻璃湿法刻蚀的反应动力学过程,得到刻蚀剂中(HF)2为决定反应速率的主要活性成分的结论;结合实验建立了合理的刻蚀速率模型.采用不同氢氟酸浓度的刻蚀液进行了实验,实测刻蚀速率与理论计算数值的对比结果表明模型预测精度达到96%以上.基于该模型刻蚀深度确定刻蚀时间进行了压印模板制作的实验,制作了图形特征尺寸为15μm、刻蚀深度为8μm的压印模板.对模板图形的测量结果表明,通过该模型预测的尺寸误差仅为0.05μm. 展开更多
关键词 压印模板 湿法刻蚀 刻蚀速率模型 尺寸控制
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双极电路欧姆接触问题的工艺分析与解决方案 被引量:2
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作者 阚玲 张扬波 +1 位作者 许生健 朱煜开 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第5期678-681,共4页
为解决一种双极集成电路在生产中欧姆接触电阻过大的问题,针对关键工艺进行了统计分析和专项实验,找到了问题的原因和解决方法,对提高大规模集成电路的工艺制造稳定性具有非常重要的意义。
关键词 双极集成电路 欧姆接触 薄氧化物 湿法腐蚀 工艺控制
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基于LabVIEW可编程电化学脉冲湿法刻蚀系统设计 被引量:1
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作者 苗凤娟 李倩倩 +3 位作者 陶佰睿 赵柯洋 张嘉 高玉峰 《半导体光电》 CAS 北大核心 2015年第1期71-74,共4页
针对电化学湿法刻蚀硅微加工需求,基于LabVIEW软件开发平台,利用上位机、可编程直流稳压电源PSM-6003、低温控制和LED光辐照等设备搭建了一种新型可编程电化学湿法刻蚀装置。其中基于LabVIEW的PSM-6003上位机控制软件,可以通过图形界面... 针对电化学湿法刻蚀硅微加工需求,基于LabVIEW软件开发平台,利用上位机、可编程直流稳压电源PSM-6003、低温控制和LED光辐照等设备搭建了一种新型可编程电化学湿法刻蚀装置。其中基于LabVIEW的PSM-6003上位机控制软件,可以通过图形界面对系统各种参数实时设置,例如刻蚀电压幅值、刻蚀脉冲频率和占空比、刻蚀电流和刻蚀时间以及刻蚀系统的辅助光照和环境温度等,系统各参数监控和动作执行主要利用美国NI公司PCI-6221数据卡实现。该系统成本低、操作简便、可模块化安装,对促进实验室电化学湿法刻蚀微加工设备的研制有重要借鉴意义。 展开更多
关键词 硅微加工平台 电化学湿法刻蚀 可编程脉冲 低温控制 光辐照设备
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基于细胞自动控制算法的硅各向异性湿法刻蚀物理仿真
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作者 林国树 李晓莹 +1 位作者 乔大勇 苑伟政 《航空制造技术》 2006年第8期80-82,86,共4页
应用细胞自动控制算法对硅湿法刻蚀进行物理仿真,按硅原子晶体结构构建细胞单元,以原子共价键连接状态和相邻细胞的状态来判断刻蚀中某个细胞是否去除或者保留,最后获得与理论分析相符的仿真结果。
关键词 各向异性 细胞自动控制 湿法刻蚀 物理仿真
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在线湿法刻蚀设备的控制系统
6
作者 刘运洋 李博 +1 位作者 王晓飞 司禹 《电子工业专用设备》 2015年第8期33-36,共4页
根据在线湿法刻蚀设备的工艺要求及特点,介绍了控制系统的构成,CANopen网络控制方式,以及同步传送、自动补配液、自动清洗等功能,从而保证批量在线生产的工艺效果。
关键词 在线湿法刻蚀 控制系统 CANOPEN
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金属氧化物TFT工艺中铜/钛蚀刻液浓度控制体系研究 被引量:1
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作者 赵辉 《光电子技术》 CAS 2023年第1期48-52,共5页
深入分析了铜钛刻蚀液的刻蚀机理,并对刻蚀液浓度的变化进行实验分析。在此基础上,通过实验完成了铜钛刻蚀液浓度变化模型曲线的研发,并提出了进行浓度控制的方法,实现了铜钛刻蚀液的稳定应用并极大地提高刻蚀液的使用寿命。研究为相关... 深入分析了铜钛刻蚀液的刻蚀机理,并对刻蚀液浓度的变化进行实验分析。在此基础上,通过实验完成了铜钛刻蚀液浓度变化模型曲线的研发,并提出了进行浓度控制的方法,实现了铜钛刻蚀液的稳定应用并极大地提高刻蚀液的使用寿命。研究为相关领域的生产和研发提供了一定的参考。 展开更多
关键词 金属氧化物 湿法刻蚀 铜/钛刻蚀液 浓度控制
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双极IC接触电阻改善研究
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作者 赵铝虎 阚志国 《微处理机》 2015年第2期4-6,共3页
给出了一种解决双极集成电路在生产中欧姆接触偏大的问题,特别是双极集成电路P型接触偏大的问题解决方法。针对双极集成电路在批量生产过程中P型欧姆接触偏大的现象作了分析,并根据所积累的专业经验,在生产工艺过程中安排了过腐蚀、soft... 给出了一种解决双极集成电路在生产中欧姆接触偏大的问题,特别是双极集成电路P型接触偏大的问题解决方法。针对双极集成电路在批量生产过程中P型欧姆接触偏大的现象作了分析,并根据所积累的专业经验,在生产工艺过程中安排了过腐蚀、soft-etch,混酸腐蚀硅等专项实验,找到问题的原因和解决方法。通过长时间以及大批量生产实践的检验,这种方法对改善双极集成电路中P型接触电阻非常有效,因此对提高双极集成电路的工艺控制稳定性具有重要意义。 展开更多
关键词 双极集成电路 欧姆接触 硅刻蚀 湿法腐蚀 工艺控制
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美湿卡烘干过程湿度控制的意义和解决方案
9
作者 段新顺 《国际纺织导报》 2006年第1期36-36,38-40,共4页
论述了染整烘干过程中湿度控制的意义和原理。介绍了美湿卡烘干过程湿度控制方案,包括布面湿度(回潮率)和排气湿度的在线检测和控制。
关键词 烘燥过程 湿度控制 回潮率 排气湿度 在线测控 美湿卡
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烟气清洁排放案例分析
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作者 龚晓国 《砖瓦》 2018年第11期100-102,共3页
高平鑫阳建材有限公司的环保升级改造完成后,经过半年多的运行及在线监控,生产线在正常生产前提下能够实现烟气在线监测达标排放。本次改造通过源头控制加末端治理的方式,实现了清洁排放,对其他制砖企业极具造参考价值。
关键词 环保改造 排放控制 在线监测 湿式静电除尘器
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