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The mechanism study of low-pressure air plasma cleaning on large-aperture optical surface unraveled by experiment and reactive molecular dynamics simulation
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作者 李玉海 白清顺 +9 位作者 关宇珩 刘昊 张鹏 巴特勒·别克 沈荣琦 卢礼华 袁晓东 苗心向 韩伟 姚彩珍 《Plasma Science and Technology》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第6期77-87,共11页
Low-pressure air plasma cleaning is an effective method for removing organic contaminants on large-aperture optical components in situ in the inertial confinement fusion facility.Chemical reactions play a significant ... Low-pressure air plasma cleaning is an effective method for removing organic contaminants on large-aperture optical components in situ in the inertial confinement fusion facility.Chemical reactions play a significant role in plasma cleaning,which is a complex process involving abundant bond cleavage and species generation.In this work,experiments and reactive molecular dynamics simulations were carried out to unravel the reaction mechanism between the benchmark organic contaminants of dibutyl phthalate and air plasma.The optical emission spectroscopy was used to study the overall evolution behaviors of excited molecular species and radical signals from air plasma as a reference to simulations.Detailed reaction pathways were revealed and characterized,and specific intermediate radicals and products were analyzed during experiments and simulation.The reactive species in the air plasma,such as O,HO_(2)and O_(3)radicals,played a crucial role in cleaving organic molecular structures.Together,our findings provide an atomic-level understanding of complex reaction processes of low-pressure air plasma cleaning mechanisms and are essential for its application in industrial plasma cleaning. 展开更多
关键词 organic contaminants large-aperture optical components low-pressure air plasma plasma cleaning reactive species reactive molecular dynamics
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等离子体清洗同步辐射光学元件 被引量:3
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作者 尉伟 王秋平 +2 位作者 王勇 余小江 高兴宇 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第6期704-706,共3页
同步辐射光束线的光学元件的碳污染问题。它导致光学系统的光通量下降,尤其是在碳吸收边情况更加严重。因此在光束线运行一定的时间后,必须对光学元件的碳污染进行清洗以便保证其正常使用。为此我们开发了一套射频等离子体原位光学元件... 同步辐射光束线的光学元件的碳污染问题。它导致光学系统的光通量下降,尤其是在碳吸收边情况更加严重。因此在光束线运行一定的时间后,必须对光学元件的碳污染进行清洗以便保证其正常使用。为此我们开发了一套射频等离子体原位光学元件清洗系统,以干燥的氧气和氩气为介质。在产生的等离子中存在大量的臭氧,与光学元件表面的碳反应,变成CO和CO2气体,从而达到清洗的目的。实验证明等离子体清洗不但可有效清除碳污染,而且有利于光束线真空系统的超高真空环境的恢复,为光束线的维护提供了方便。 展开更多
关键词 光学元件 碳污染 等离子体清洗
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同步辐射光学元件辐照污染及其清洁处理 被引量:8
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作者 徐向东 周洪军 +3 位作者 洪义麟 霍同林 陶晓明 付绍军 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 2000年第2期114-119,共6页
随着高亮度同步辐射光源的发展 ,作为同步辐射光束线难题之一的光学元件碳污染问题变得愈来愈严重。光学元件表面的碳污染导致光通量的严重损失 ,特别是在碳吸收边处。更换污染的光学元件不仅费时和不经济 ,而且常常是临时和无效的。所... 随着高亮度同步辐射光源的发展 ,作为同步辐射光束线难题之一的光学元件碳污染问题变得愈来愈严重。光学元件表面的碳污染导致光通量的严重损失 ,特别是在碳吸收边处。更换污染的光学元件不仅费时和不经济 ,而且常常是临时和无效的。所以很多实验室对光学元件的清洗给予高度重视。本文综述了同步辐射碳污染的形成机制 ,对各种清洗方法分别给予分析和介绍。 展开更多
关键词 光学元件 辐照污染 同步辐射 等离子体 清洗
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应用去除碳酸盐法研究滇黔地区“白泥塘层”硅质成分的来源 被引量:4
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作者 江冉 付勇 +4 位作者 王富良 裴浩翔 徐志刚 温宏利 周文喜 《岩矿测试》 CAS CSCD 北大核心 2016年第3期236-244,共9页
滇黔地区的“白泥塘层”与锰矿具有密切的成因联系,前人对其地球化学特征研究时关注的主要是硅质灰岩全岩,并非硅质成分本身,而硅质岩全岩能否真实地反映“白泥塘层”中硅质的来源有待研究.本文以滇黔地区“白泥塘层”硅质灰岩为研究对... 滇黔地区的“白泥塘层”与锰矿具有密切的成因联系,前人对其地球化学特征研究时关注的主要是硅质灰岩全岩,并非硅质成分本身,而硅质岩全岩能否真实地反映“白泥塘层”中硅质的来源有待研究.本文以滇黔地区“白泥塘层”硅质灰岩为研究对象,用盐酸去除硅质灰岩中的碳酸盐矿物,获得成分较为单一的硅质组分,采用ICP-MS和ICP-OES测定全岩与去除碳酸盐的硅质组分中的微量元素,通过对比两者的微量元素地球化学特征研究“白泥塘层”中硅质的来源问题.结果表明:去除碳酸盐的硅质组分的Th/U=0.02~0.05,低于全岩的Th/U值(0.08~0.2),Eu/Eu =0.86~1.54(均值1.15),显示为正Eu异常,此特征不同于全岩(全岩的Eu/Eu =0.87~0.93,均值0.90,显示为弱的负Eu异常);硅质组分及全岩的稀土含量均表现为轻稀土较重稀土富集,但硅质组分中的轻稀土所占比重大于全岩.以上特征确切地表明了“白泥塘层”硅质灰岩中的硅质成分来自于热水,对于解释二叠系时期锰矿的形成具有重要的指示意义. 展开更多
关键词 “白泥塘层” 硅质组分 碳酸盐矿物 热水成因 电感耦合等离子体质谱/光谱法
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同步辐射光源光束线光学元件碳污染原位清洗研究 被引量:1
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作者 尉伟 张波 +7 位作者 洪远志 裴香涛 范乐 王勇 潘海滨 闫文盛 王峰 王秋平 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期552-555,共4页
通过采用射频等离子体对由于表面碳污染减少光通量的同步辐射光学元件进行原位清洗实验,利用质谱仪、X射线电子能谱对清洗过程以及表面变化进行监测,并对清洗过程截止点进行研究。结果表明射频等离子体清洗方法可有效去除严重影响光束... 通过采用射频等离子体对由于表面碳污染减少光通量的同步辐射光学元件进行原位清洗实验,利用质谱仪、X射线电子能谱对清洗过程以及表面变化进行监测,并对清洗过程截止点进行研究。结果表明射频等离子体清洗方法可有效去除严重影响光束线使用效率的碳污染,提高光束线使用效率;通过监测气体成分变化能为截止点判断提供有效依据。 展开更多
关键词 同步辐射光束线 光学元件 碳污染 原位清洗
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激光装置污染物诱导光学元件表面损伤实验研究 被引量:8
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作者 苗心向 袁晓东 +3 位作者 吕海兵 程晓锋 郑万国 周国瑞 《中国激光》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第6期1-7,共7页
通过分析高功率激光装置内主要污染物成分及来源,研究其对大口径光学表面抗损伤能力的影响规律,得到装置光学表面洁净控制要求。利用扫描电镜对高功率激光装置内部的主要颗粒污染物进行取样分析;采用自然沉降的方法在光学元件表面制备... 通过分析高功率激光装置内主要污染物成分及来源,研究其对大口径光学表面抗损伤能力的影响规律,得到装置光学表面洁净控制要求。利用扫描电镜对高功率激光装置内部的主要颗粒污染物进行取样分析;采用自然沉降的方法在光学元件表面制备污染物,并利用Nd∶YAG(SAGA-S)激光器研究其损伤阈值和损伤规律。研究结果表明,高功率激光装置内颗粒污染物的主要成分为金属、有机物和矿物质,占据比例分别为20%、40%和40%。激光辐照污染后的光学表面存在激光清洗和激光诱导损伤两种效应,当激光器能量密度超过10.9 J/cm2时,光学表面存在清洗作用。当激光能量密度超过14.6 J/cm2时,光学表面污染物引起损伤,且损伤随着污染物尺寸呈线性下降趋势。 展开更多
关键词 激光光学 高功率激光 洁净控制 光学元件损伤 气溶胶 污染
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