期刊文献+
共找到20篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
绝缘层上Si/应变Si_(1-x)Ge_x/Si异质结p-MOSFET电学特性二维数值分析
1
作者 杨洲 王茺 +2 位作者 于杰 胡伟达 杨宇 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2015年第2期172-176,共5页
对绝缘层上Si/应变Si1-xGex/Si异质结p-MOSFET电学特性进行二维数值分析,研究了该器件的阈值电压特性、转移特性、输出特性.模拟结果表明,随着应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分增大,器件的阈值电压向正方向偏移,转移特性增强;当偏置条件一... 对绝缘层上Si/应变Si1-xGex/Si异质结p-MOSFET电学特性进行二维数值分析,研究了该器件的阈值电压特性、转移特性、输出特性.模拟结果表明,随着应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分增大,器件的阈值电压向正方向偏移,转移特性增强;当偏置条件一定时,漏源电流的增长幅度随着Ge组分的增大而减小;器件的输出特性呈现出较为明显的扭结现象. 展开更多
关键词 应变Si1-xGex沟道 p-mosfet 阈值电压 扭结
下载PDF
热载流子应力下p-MOSFETs在低栅电压范围的统一退化模型(英文)
2
作者 胡靖 穆甫臣 +1 位作者 许铭真 谭长华 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第2期124-130,共7页
研究了低栅电压范围的热载流子统一退化模型 .发现对于厚氧化层的 p- MOSFETs主要退化机制随应力电压变化而变化 ,随着栅电压降低 ,退化机制由氧化层俘获向界面态产生转变 ,而薄氧化层没有这种情况 ,始终是界面态产生 ;此外退化因子与... 研究了低栅电压范围的热载流子统一退化模型 .发现对于厚氧化层的 p- MOSFETs主要退化机制随应力电压变化而变化 ,随着栅电压降低 ,退化机制由氧化层俘获向界面态产生转变 ,而薄氧化层没有这种情况 ,始终是界面态产生 ;此外退化因子与应力电压成线性关系 .最后得出了不同厚度的 p- MOSFETs的统一退化模型 ,对于厚氧化层 ,退化由电子流量和栅电流的乘积决定 ,对于薄氧化层 。 展开更多
关键词 热载流子效应 p-mosfet 退化模型 电子流量 低栅电压范围
下载PDF
温度对绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET电学特性的影响 被引量:3
3
作者 于杰 王茺 +2 位作者 杨洲 胡伟达 杨宇 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第5期875-879,885,共6页
本文利用二维数值模拟方法,模拟分析了不同工作温度时绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET的输出特性和亚阈值特性。结果表明:随着器件工作温度的不断提高,漏源饱和电流单调减小;亚阈值电流略有增大;亚阈值摆幅的改变量ΔS与温度基本上成线性... 本文利用二维数值模拟方法,模拟分析了不同工作温度时绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET的输出特性和亚阈值特性。结果表明:随着器件工作温度的不断提高,漏源饱和电流单调减小;亚阈值电流略有增大;亚阈值摆幅的改变量ΔS与温度基本上成线性关系;阈值电压不断地向正方向偏移。通过考虑自热效应的影响,不同Ge组分器件的漏源饱和电流均有不同程度的降低,且随着Ge组分的增加,漏源饱和电流的降低幅度增大。 展开更多
关键词 温度 应变SiGe沟道 p-mosfet 自热效应
下载PDF
绝缘层上应变SiGe沟道p-MOSFET电学特性模拟分析 被引量:1
4
作者 于杰 王茺 +2 位作者 杨洲 陈效双 杨宇 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2013年第4期304-308,共5页
利用数值模拟软件ISE TCAD对绝缘层上应变SiGe (SGOI)和Si (SOI) p-MOSFET的电学特性进行了二维数值模拟.计算结果表明,与传统的SOI p-MOSFET相比,SGOI p-MOSFET的漏源饱和电流几乎要高出两倍;其亚阈值电流要高出1~3个数量级.Ge合金... 利用数值模拟软件ISE TCAD对绝缘层上应变SiGe (SGOI)和Si (SOI) p-MOSFET的电学特性进行了二维数值模拟.计算结果表明,与传统的SOI p-MOSFET相比,SGOI p-MOSFET的漏源饱和电流几乎要高出两倍;其亚阈值电流要高出1~3个数量级.Ge合金组分作为应变SiGe沟道MOSFET的重要参数,就不同Ge合金组分对SGOI p-MOSFET的电学特性的影响也进行了较为深入的研究.随着Ge合金组分的增大,SGOI p-MOSFET的总体电学性能有所提高. 展开更多
关键词 SGOI p-mosfet Ge合金组分
下载PDF
Role of remote Coulomb scattering on the hole mobility at cryogenic temperatures in SOI p-MOSFETs
5
作者 张先乐 常鹏鹰 +1 位作者 杜刚 刘晓彦 《Chinese Physics B》 SCIE EI CAS CSCD 2020年第3期473-479,共7页
The impacts of remote Coulomb scattering(RCS)on hole mobility in ultra-thin body silicon-on-insulator(UTB SOI)p-MOSFETs at cryogenic temperatures are investigated.The physical models including phonon scattering,surfac... The impacts of remote Coulomb scattering(RCS)on hole mobility in ultra-thin body silicon-on-insulator(UTB SOI)p-MOSFETs at cryogenic temperatures are investigated.The physical models including phonon scattering,surface roughness scattering,and remote Coulomb scatterings are considered,and the results are verified by the experimental results at different temperatures for both bulk(from 300 K to 30 K)and UTB SOI(300 K and 25 K)p-MOSFETs.The impacts of the interfacial trap charges at both front and bottom interfaces on the hole mobility are mainly evaluated for the UTB SOI p-MOSFETs at liquid helium temperature(4.2 K).The results reveal that as the temperature decreases,the RCS due to the interfacial trap charges plays an important role in the hole mobility. 展开更多
关键词 REMOTE COULOMB scattering hole mobility CRYOGENIC TEMPERATURES UTB SOI p-mosfetS
下载PDF
基于P-MOSFET的低压差稳压电源的研究
6
作者 杨超 《信息化研究》 2010年第12期62-64,共3页
低压差稳压电源以低功耗、高效率、低噪声、低干扰、体积小、重量轻等显著特点,深受人们的青睐,本文首先介绍了基于P-MOSFET的低压差稳压电路的工作原理,并通过分析运放的增益曲线说明系统的稳定性。接下来介绍了一种低压差稳压电路的... 低压差稳压电源以低功耗、高效率、低噪声、低干扰、体积小、重量轻等显著特点,深受人们的青睐,本文首先介绍了基于P-MOSFET的低压差稳压电路的工作原理,并通过分析运放的增益曲线说明系统的稳定性。接下来介绍了一种低压差稳压电路的驱动芯片的工作原理以及设计方法。并通过实验验证了稳压电路,设计出来的电路简单可靠。 展开更多
关键词 p-mosfet 低压差 噪声
下载PDF
一种具有变深槽电容的横向功率p-MOSFET
7
作者 程骏骥 武世英 +2 位作者 陈为真 李欢 杨洪强 《微电子学》 CAS 北大核心 2021年第5期712-716,共5页
提出了一种含介质深槽的横向p沟道功率MOSFET(p-MOSFET)。深槽内填充了线性组合的高介电常数(high-k)介质和二氧化硅,以调变寄生的深槽电容(C_(DT)),使C_(DT)充电电荷增大且使该充电电荷沿纵向接近均匀分布。在深槽一侧,通过提高p型漂... 提出了一种含介质深槽的横向p沟道功率MOSFET(p-MOSFET)。深槽内填充了线性组合的高介电常数(high-k)介质和二氧化硅,以调变寄生的深槽电容(C_(DT)),使C_(DT)充电电荷增大且使该充电电荷沿纵向接近均匀分布。在深槽一侧,通过提高p型漂移区剂量来提供负极板充电电荷,在深槽另一侧,通过增设n型区来提供正极板充电电荷。两侧漂移区的电荷补偿效应均得到增强,器件性能获得提高。仿真结果表明,当击穿电压V_(B)为450V时,器件的比导通电阻R_(ON,SP)为9.5mΩ·cm^(2),优值达21.3MW/cm^(2),优值为现有器件的2.7倍。该项研究成果为功率集成电路提供了更优的器件选择。 展开更多
关键词 深槽 p-mosfet high-k介质 电荷补偿
下载PDF
电池供电具有WIFI功能温湿度光照检测设备的设计
8
作者 谢晓钟 夏滨 《机电技术》 2021年第1期5-6,11,共3页
采用电池供电具有WIFI功能温湿度光照检测设备,实现了低功耗WIFI通信功能,节省了农业大棚环控系统环境检测设备的人工成本和材料成本,简化了现场调试和设备维护问题。
关键词 传感器 WIFI通信 低功耗 IO输出口 p-mosfet管
下载PDF
应变Si_(1-x)Ge_xpMOSFET反型沟道空穴低场迁移率模型 被引量:3
9
作者 张雪锋 徐静平 +1 位作者 邹晓 张兰君 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期2000-2004,共5页
在考虑应变对SiGe合金能带结构参数影响的基础上,提出了一个半经验的应变Si1-xGex/Si pMOSFET反型沟道空穴迁移率模型.在该模型中,给出了迁移率随应变的变化,并且考虑了界面陷阱电荷对载流子的库仑散射作用.利用该模型对室温下空穴迁移... 在考虑应变对SiGe合金能带结构参数影响的基础上,提出了一个半经验的应变Si1-xGex/Si pMOSFET反型沟道空穴迁移率模型.在该模型中,给出了迁移率随应变的变化,并且考虑了界面陷阱电荷对载流子的库仑散射作用.利用该模型对室温下空穴迁移率随应变的变化及影响空穴迁移率的因素进行了分析讨论. 展开更多
关键词 p-mosfet 应变Sil Gex 空穴迁移率
下载PDF
一种简易直流电子负载的设计 被引量:3
10
作者 杨永超 谭晓娥 刘晓妤 《湖北民族学院学报(自然科学版)》 CAS 2014年第2期203-205,221,共4页
针对电源设备或化学电池的测试需要,以STM32F103单片机为控制核心,外围采用16位A/D、12位D/A以及功率MOSFT设计了一种简易的高精度直流电子负载.测试结果表明,该系统测试时间短、精度高、运行稳定可靠.
关键词 直流电子负载 STM32F103 恒流模式 p-mosfet
下载PDF
P-MOSFET的TEM研究
11
作者 刘安生 安生 +3 位作者 邵贝羚 王敬 付军 钱佩信 《电子显微学报》 CAS CSCD 1996年第6期522-522,共1页
P-MOSFET的TEM研究*刘安生安生邵贝羚王敬付军钱佩信(北京有色金属研究总院,100088北京)(清华大学微电子研究所,100084北京)空穴的迁移率远低于电子迁移率,与N-MOSFET相比P-MOSFET的最... P-MOSFET的TEM研究*刘安生安生邵贝羚王敬付军钱佩信(北京有色金属研究总院,100088北京)(清华大学微电子研究所,100084北京)空穴的迁移率远低于电子迁移率,与N-MOSFET相比P-MOSFET的最大缺点就是电流驱动能力弱。为此,人... 展开更多
关键词 p-mosfet TEM 场效应器件
下载PDF
NBTI效应及其对集成电路设计的影响 被引量:1
12
作者 周晓明 夏炎 《电子器件》 CAS 2007年第2期407-410,共4页
可靠性设计是现代集成电路设计需要考虑的一个重要问题.对影响电路可靠性的一个最主要效应——P-MOSFET的NBTI效应进行了系统的介绍.给出了不同电压、温度下器件性能随时间变化趋势的最新研究成果.最后介绍了SPICE考虑器件器件退化的电... 可靠性设计是现代集成电路设计需要考虑的一个重要问题.对影响电路可靠性的一个最主要效应——P-MOSFET的NBTI效应进行了系统的介绍.给出了不同电压、温度下器件性能随时间变化趋势的最新研究成果.最后介绍了SPICE考虑器件器件退化的电路模拟流程.在器件尺寸日益缩小的今天,这些将成为集成电路设计关注的焦点. 展开更多
关键词 NBTI 尺寸缩小 p-mosfet 集成电路设计
下载PDF
关态应力下 P- MOSFETs的退化(英文)
13
作者 杨存宇 王子欧 +1 位作者 谭长华 许铭真 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第1期25-30,共6页
研究了沟长从 0 .5 2 5 μm到 1.0 2 5 μm9nm厚的 P- MOSFETs在关态应力 ( Vgs=0 ,Vds<0 )下的热载流子效应 .讨论了开态和关态应力 .结果发现由于在漏端附近存在电荷注入 ,关态漏电流在较高的应力后会减小 .但是低场应力后关态漏... 研究了沟长从 0 .5 2 5 μm到 1.0 2 5 μm9nm厚的 P- MOSFETs在关态应力 ( Vgs=0 ,Vds<0 )下的热载流子效应 .讨论了开态和关态应力 .结果发现由于在漏端附近存在电荷注入 ,关态漏电流在较高的应力后会减小 .但是低场应力后关态漏电流会增加 ,这是由于新生界面态的作用 .结果还发现开态饱和电流和阈值电压在关态应力后变化很明显 ,这是由于栅漏交叠处的电荷注入和应力产生的界面态的影响 .Idsat的退化可以用函数栅电流 ( Ig)乘以注入的栅氧化层电荷数 ( Qinj)的幂函数表达 .最后给出了基于 展开更多
关键词 关态应力 栅感应漏电 退化 界面陷阱 p-mosfetS 场效应晶体管
下载PDF
基于低频噪声检测的电力MOSFET可靠性分析 被引量:8
14
作者 樊欣欣 杨连营 陈秀国 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2018年第1期75-80,共6页
针对变电所中通信电源的核心器件电力金属氧化物半导体场效应晶体管(power MOSFET,P-MOSFET)在大功率、强电流下易损坏、故障率高,直接影响电力通信业务的安全稳定运行的问题,提出了一种基于低频噪声检测的可靠性分析方法。利用互功... 针对变电所中通信电源的核心器件电力金属氧化物半导体场效应晶体管(power MOSFET,P-MOSFET)在大功率、强电流下易损坏、故障率高,直接影响电力通信业务的安全稳定运行的问题,提出了一种基于低频噪声检测的可靠性分析方法。利用互功率谱测量方法检测PMOSFET内部的本征低频噪声,根据频段阈值法的拐点噪声谱,确定P-MOSFET筛选的上下限阈值大小,建立了P-MOSFET的1/f噪声功率谱密度及其阈值的对应关系式。实验结果表明,与传统的有损检测法相比,该方法能够有效评估P-MOSFET的三种可靠性等级,提高了可靠性筛选的准确率,为其他晶体管的可靠性评估提供了参考。 展开更多
关键词 电力金属氧化物半导体场效应晶体管(p-mosfet) 可靠性分析 阈值筛选 低频噪声检测 功率谱密度
下载PDF
SiGe沟道P—MOSFET器件的研究
15
作者 李开成 刘道广 《世界产品与技术》 1999年第5期46-46,共1页
关键词 锗化硅 p-mosfet 场效应器件
下载PDF
低压USB功率P—MOSFET
16
《电子质量》 2002年第10期169-169,共1页
关键词 USB p-mosfet ST公司 功率开关 ST890
下载PDF
NBT引起的热载流子(HC)效应:p—MOSFET退化中的正反馈机理
17
《电子产品可靠性与环境试验》 2003年第3期78-78,共1页
关键词 NBT 热载流子 HC效应 p-mosfet 退化 正反馈机理 氧化电荷
下载PDF
短沟道n—和p—MOSFET中氧化击穿的位置和硬度
18
《电子产品可靠性与环境试验》 2003年第3期77-77,共1页
关键词 短沟道n- p-mosfet 氧化击穿 位置 硬度 高电压应力
下载PDF
Ge 组分对应变 Si1-x Gex 沟道 P-MOSFET 电学特性影响 被引量:2
19
作者 杨洲 王茺 +2 位作者 王洪涛 胡伟达 杨宇 《物理学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第7期547-552,共6页
利用二维数值模拟方法,研究了不同Ge组分应变Si1-xGex沟道p-MOSFET的电容-电压特性以及阈值电压的变化情况.计算结果表明:提高应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分,器件亚阈值电流明显增大;栅电容在器件进入反型状态时产生显著变化;阈值电压... 利用二维数值模拟方法,研究了不同Ge组分应变Si1-xGex沟道p-MOSFET的电容-电压特性以及阈值电压的变化情况.计算结果表明:提高应变Si1-xGex沟道层中的Ge组分,器件亚阈值电流明显增大;栅电容在器件进入反型状态时产生显著变化;阈值电压的改变量与Ge组分基本成线性关系.通过改变Si1-xGex沟道的长度,并结合相关物理模型,在低电场情况下,沟道中的空穴迁移率与总电阻对沟道长度的微分成反比关系. 展开更多
关键词 应变Si1-x Gex 沟道 p-mosfet 空穴迁移率 栅电容
原文传递
〈100〉沟道方向对高迁移率双轴应变硅p-MOSFET的作用(英文)
20
作者 顾玮莹 梁仁荣 +1 位作者 张侃 许军 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第10期1893-1897,共5页
双轴应变技术被证实是一种能同时提高电子和空穴迁移率的颇有前景的方法;〈100〉沟道方向能有效地提升空穴迁移率.研究了在双轴应变和〈100〉沟道方向的共同作用下的空穴迁移率.双轴应变通过外延生长弛豫SiGe缓冲层来引入,其中,弛豫SiG... 双轴应变技术被证实是一种能同时提高电子和空穴迁移率的颇有前景的方法;〈100〉沟道方向能有效地提升空穴迁移率.研究了在双轴应变和〈100〉沟道方向的共同作用下的空穴迁移率.双轴应变通过外延生长弛豫SiGe缓冲层来引入,其中,弛豫SiGe缓冲层作为外延底板,对淀积在其上的硅帽层形成拉伸应力.沟道方向的改变通过在版图上45°旋转器件来实现,这种旋转使得沟道方向在(001)表面硅片上从〈110〉晶向变成了〈100〉晶向.对比同是〈110〉沟道的应变硅pMOS和体硅pMOS,迁移率增益达到了130%;此外,在相同的应变硅pMOS中,沟道方向从〈110〉到〈100〉的改变使空穴迁移率最大值提升了30%.讨论和分析了这种双轴应变和沟道方向改变的共同作用下迁移率增强的机理. 展开更多
关键词 p-mosfet 应变硅 沟道方向 空穴迁移率增强
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部