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Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm孔光刻工艺的研究
1
作者 周智刚 《电子与封装》 2002年第5期24-26,共3页
本文介绍了 Shipley i7350xp 光刻胶用于0.5 μm 孔光刻工艺的研究,评估 Shipley i7350xp光刻胶用于0.5μm 孔光刻工艺层次的可行性。
关键词 H.B. p.e.b 焦深容宽 孔光刻 通孔光刻
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