PCB曝光机照明系统的均匀性仿真与研究

近年来,电子信息类产品在不断地追求着高性能化,印刷电路板也随之高密度、微线化。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,而光学曝光作为PCB制作工艺过程中的一个重要环节对光照度的均匀性要求比较严格,现应用非成像光学的设计方法,实现了一种新型的曝光机均匀照明系统,并使用基于蒙特卡罗法的光线追迹软件对该光学系统进行了模拟仿真。实验表明,采用该研究设计的照明系统能够改善PCB曝光机紫外照明光源的配光性能,光强分布均匀稳定、能够满足光学曝光过程对光源的指标要求,具有可操作性。

基于LightTools的PCB曝光机照明系统设计与研究

随着电子行业的迅速发展,对作为电子元器件基本构件的印制板的需求量及其加工精度的要求越来越高。紫外线曝光机是印制板制造工艺中的重要设备,光学曝光过程中对光照均匀性的要求很高。基于照明设计软件LightTools,设计了一种新的曝光机照明系统。通过大量的仿真模拟对系统进行优化。实验表明,优化后的照明系统设计使得光照度的均匀性在原来的基础上提高了8倍,在有效的视场范围内,光强分布均匀稳定,达到了PCB曝光机照明系统的要求。