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等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展 被引量:3
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作者 马胜利 徐可为 《兵器材料科学与工程》 CAS CSCD 北大核心 2000年第3期63-70,共8页
等离子体化学气相沉积 (PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了近年来 PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状。
关键词 pcvd质膜:工艺:结合强度:研究进展
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