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等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展
被引量:
3
1
作者
马胜利
徐可为
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期63-70,共8页
等离子体化学气相沉积 (PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了近年来 PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状。
关键词
pcvd
硬
质膜
:
工艺
:
结合
强度
:
研究进展
下载PDF
职称材料
题名
等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展
被引量:
3
1
作者
马胜利
徐可为
机构
西安交通大学材料学院
出处
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000年第3期63-70,共8页
基金
国家 8 63计划!( 7150 0 80 0 60 )
西安交通大学博士基金 !( DFXJU1999- 7)
文摘
等离子体化学气相沉积 (PCVD)硬质膜是目前材料表面强化领域的研究热点。介绍了近年来 PCVD硬质膜工艺技术及薄膜性能评价方面的研究现状。
关键词
pcvd
硬
质膜
:
工艺
:
结合
强度
:
研究进展
Keywords
pcvd
thin hard coating,processing,bonding strength,new development
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
等离子体气相沉积硬质膜工艺技术进展
马胜利
徐可为
《兵器材料科学与工程》
CAS
CSCD
北大核心
2000
3
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职称材料
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