空间用SiC反射镜表面改性的性能和可靠性评估

根据空间应用项目需求,采用等离子辅助电子束蒸发方法对RB-SiC基底进行了表面改性,并对表面改性的性能和可靠性进行了相关评估.经测试,改性后RB-SiC基底表面粗糙度(rms)降低到0.632 nm;散射系数降低到2.81%,500～1 000 nm范围的平均反射率提高到97.05%,已经接近于抛光良好的微晶玻璃的水平;改性涂层温度稳定性高,与基底结合牢固;加工后,面形精度达到0.119λ(PV)和0.014λ(rms),λ=632.8 nm.评估结果表明,这种SiC基底表面改性的工艺是可靠的,其光学性能满足空间高质量光学系统的要求,适宜空间环境应用.

基于氧化物的0.8～1.7μm和3.7～4.8μm硬质宽带红外增透膜研制

从实际应用出发，在0°入射的条件下，在ZnS基底上针对0.8～1.7μm和3.7～4.8μm两个红外波段，设计并制备了双波段红外增透膜。论述了材料选择、膜系设计和制备方法，最终使用等离子辅助沉积技术在ZnS窗口上制备出双波段红外增透膜，透过率及环境测试结果表明：在0.8～1.7μm波段双面平均透过率大于95％，在3.7～4.8μm波段双面平均透过率大于96％。膜层结合牢固并有良好的耐摩擦性能。

论预付式消费中信息差异失衡及其法律应对

消费时间要素变革后生成的预付式消费模式使得消费者与经营者之间原本的信息差异进一步拉大。预付式消费具有缓解经营者资金压力、提供稳定消费群体以及为消费者带来优惠等制度优势,系双赢模式,但"先付款、后消费"过程中的信息差异所引发的风险往往给消费者权益保护带来较大威胁。应对预付式消费中的信息差异失衡需要在法律制度设计上深化预付式消费者知情权的内容,强化经营者的信息告知义务,同时还应当增加预付式消费者的合同终止权、变更权与索赔权,最终形成应对预付式消费信息差异失衡的法律制度框架。

应用碳化硅表面改性技术降低全息-离子束刻蚀光栅刻槽的粗糙度

采用具有良好比刚度和热稳定性的碳化硅材料作为基底,使用全息-离子束刻蚀技术制作了光栅。碳化硅材料表面固有缺陷导致制作的光栅刻槽表面粗糙度高,槽底和槽顶粗糙度分别达到了29.6 nm和65.3nm(R q)。通过等离子辅助沉积技术在碳化硅表面镀制一层均匀的硅改性层,经过抛光可以获得无缺陷的超光滑表面。XRD测试表明制备的硅改性层为无定形结构。原子力显微镜的测试结果表明:经过抛光后,表面粗糙度为0.64 nm(R q)。在此表面上制作的光栅刻槽表面粗糙度明显降低,槽底和槽顶粗糙度分别为2.96nm和7.21 nm,相当于改性前的1/10和1/9。

等离子辅助镀膜技术在优质高产的镀膜系统中的应用

大规模生产高质量薄膜产品是今后镀膜设备需要解决的问题。等离子体或离子辅助镀膜现在被广泛应用于高质量膜系生产中并取得了良好的效果,但是主要由于等离子体或离子源的原因,产能不高。介绍了一种新型精密光学镀膜系统和一种新型溅射镀膜系统。新的系统能够优质高效地生产复杂膜系,特别适合大规模生产。

论预付式消费中消费者知情权深化及其制度保障

预付式消费模式是以先付款后消费为特征的涉及长期债务履行的继续性合同关系。这一新型消费模式在为经营者缓解资金压力、提供稳定消费群体的同时也为消费者带来优惠。但预付式消费也存在着潜在风险。预付式消费者保护的法律设计应当在深化预付式消费者知情权内容的情况下强化经营者的信息告知义务,同时还应当增加预付式消费者的合同终止权、变更权与索赔权,最终形成预付式消费者知情权保障的制度框架。

APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺

阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则。