PLZT薄膜的溅射沉积和热处理

用磁控射频溅射方法在不加热的硅衬底上沉积生长锆钛酸铅镧（PLZT）薄膜。由混浇法制备了两只氧化物靶材PLZT（5／65／35）和（9／65／35）。初生态薄膜主要是非晶态，所希望的钙钛矿相结构由后处理形成。研究了不同退火条件下焦绿石相和钙钛矿相的转变，实验表明氧气氛下由常规退火（LFA）和快速退火（RTA）可形成钙钛矿相PLZT薄膜。

热处理对LaMnO_3薄膜结构、成分和电阻率的影响

用射频磁控溅射法在Si（100）衬底上沉积了钙钛矿型LaMnO3氧化物薄膜,系统研究了热处理对LaMnO3薄膜材料的相结构、组织成分、表面形貌、电阻率等的影响。结果显示,热处理温度在700℃以下,LaMnO3为非晶态,而高于1 000℃时,LaMnO3组织开始分解,出现杂相;在800~900℃时,随着热处理温度和时间的变化,LaMnO3薄膜各性能也相应变化;而热处理参数为800℃/2h时,钙钛矿型LaMnO3氧化物薄膜各性能显示最佳。