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题名温度场和电场调控硅基反铁电厚膜相变电流特性研究
被引量:2
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作者
杨玉华
杜妙璇
关新锋
丑修建
张文栋
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机构
中北大学电子与计算机科学技术学院
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出处
《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第9期1212-1216,共5页
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基金
国家自然科学基金资助项目(51175483)
山西省高等学校优秀青年学术带头人-人才支持计划资助项目(晋教科[2010]4号)
山西省基础研究计划资助项目(20100210023-6)
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文摘
采用溶胶-凝胶技术,在Pt(111)/Ti/SiO2/Si衬底上制备了高(100)取向生长、表面平整且结构致密的(Pb,La)(Zr,Ti)O3反铁电厚膜,研究了温度场和电场对(Pb,La)(Zr,Ti)O3反铁电厚膜电学性能的影响。实验结果表明反铁电厚膜在温度场和电场作用下发生反铁电相、铁电相和顺电相的相互转变,随外加电场增加,反铁电-铁电相变温度逐渐减小,介电常数峰值由2410减小到662,相变电流密度值由2.21×10-7A/cm2增大到8.52×10-7 A/cm2;随外加温度场增加,反铁电-铁电相变电场强度逐渐减小,饱和极化强度由39μC/cm2减小到31μC/cm2,相变电流密度值由2.89×10-5 A/cm2减小到8.8×10-6 A/cm2,温度场和电场可实现对反铁电厚膜相变电流效应的有效调控。
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关键词
plzt反铁电厚膜
相变
电流密度
温度
电场
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Keywords
plzt antiferroelectric thick film
phase transition
current density
temperature
electric field
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分类号
TB34
[一般工业技术—材料科学与工程]
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