0.74Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.26PbTiO_3薄膜的光学性能研究

采用磁控溅射法,选用LaNiO3(LNO)作为缓冲层和电极层,在硅基片上成功地制备出了0.74Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.26PbTiO3(PMN-0.26PT)铁电薄膜.X射线衍射(XRD)分析表明薄膜具有沿(110)方向择优取向的钙钛矿结构.利用NKD光谱测试仪测试了薄膜的反射谱,并使用最小二乘法进行拟合分析得到其折射率和消光系数.在沉积温度为500℃时,薄膜具有更为均匀和致密的微观结构.在波长为633 nm时,该薄膜的折射率大小为2.41.薄膜的折射率和消光系数随着光子能量的增加而增加.薄膜的这些光学特性使其有望在低压电光转换器、光波导等器件中应用.

弛豫铁电0.74Pb(Mg_(1/3)Nb_(2/3))O_3-0.26PbTiO_3薄膜的微结构和光学性能(英文)

采用磁控溅射法,选用LaNi O3作为缓冲层,在硅基片上制备出了0.74Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.26PbTiO3弛豫铁电薄膜.研究了沉积温度对薄膜的微结构和光学性能的影响.其中,沉积温度为500oC时制备的薄膜,不仅具有纯的钙钛矿结构,高度(110)择优取向、致密、无裂纹的形貌、而且具有最大的剩余极化,大小为17.2μC/cm2.使用柯西模型进行拟合反射谱,分析得到薄膜的折射率和消光系数.在波长为633 nm时,500oC沉积的薄膜的折射率大小为2.41.另外,薄膜的光学带隙在2.97～3.22 eV范围内.并初步讨论了这些薄膜的光学性能的差异.

掺铁Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.26PbTiO3单晶的生长及性能研究

采用改进的布里奇曼法(坩埚下降法)生长了掺0.3%(摩尔分数)Fe的0.74Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-0.26PbTiO3(PMN-0.26PT)单晶.系统研究了该单晶的生长、结构、介电和热释电性能,并与纯PMN-0.26PT单晶进行了比较.研究发现,掺杂晶体的畴宽度明显大于纯晶体;单晶的矫顽场和剩余极化都明显增大;在居里温度以下,介温谱上出现两个大的异常,温度较纯晶体更接近于室温.实验结果表明,掺杂离子通过缺陷偶极对2Fe′Ti-VO??对畴起钉扎作用,增加了晶体的矫顽场,降低了晶体的介电常数和介电损耗,提高了晶体的探测优值,并保持高的电压响应优值,这对PMN-PT单晶的实际应用非常有利.这种高性能的热释电和压电单晶的掺杂改性研究将会更好地增进对其高性能本质的理解.