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全息聚合材料PQ/PMMA的光学反应分析 被引量:1
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作者 林星宇 邢端松 刘水 《半导体光电》 北大核心 2017年第3期349-354,360,共7页
为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以... 为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以及存在的失真效应。结果表明:在给定参数下,曝光强度的最佳选择范围为60~80mW/cm2,空间频率的相对优化的选择为1 800lines/mm。 展开更多
关键词 pq/pmma 曝光强度 空间频率 失真效应 折射指数
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