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全息聚合材料PQ/PMMA的光学反应分析
被引量:
1
1
作者
林星宇
邢端松
刘水
《半导体光电》
北大核心
2017年第3期349-354,360,共7页
为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以...
为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以及存在的失真效应。结果表明:在给定参数下,曝光强度的最佳选择范围为60~80mW/cm2,空间频率的相对优化的选择为1 800lines/mm。
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关键词
pq/pmma
曝光强度
空间频率
失真效应
折射指数
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职称材料
题名
全息聚合材料PQ/PMMA的光学反应分析
被引量:
1
1
作者
林星宇
邢端松
刘水
机构
南京理工大学电子工程与光电技术学院
出处
《半导体光电》
北大核心
2017年第3期349-354,360,共7页
基金
国家自然科学基金青年项目(NSFC:61205183)
文摘
为了探究掺杂有菲醌的聚甲基丙烯酸甲酯(PQ/PMMA)光致聚合材料的光学特性,根据该全息聚合材料基本理论以及内部的光化学反应机制与效应,通过数学方法构建内部反应模型进行仿真与拟合,分析了曝光强度、空间频率对产物、折射指数的影响以及存在的失真效应。结果表明:在给定参数下,曝光强度的最佳选择范围为60~80mW/cm2,空间频率的相对优化的选择为1 800lines/mm。
关键词
pq/pmma
曝光强度
空间频率
失真效应
折射指数
Keywords
pq/pmma
exposure intensity
spatial frequency
distortion effect
refractive index
分类号
O438.1 [机械工程—光学工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
全息聚合材料PQ/PMMA的光学反应分析
林星宇
邢端松
刘水
《半导体光电》
北大核心
2017
1
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