多孔结构ZnO及其电致发光性能

利用Sol-gel法制备了含制孔剂P123的ZnO前驱体,通过无皂乳液聚合法和分步乳液聚合法制备了不同粒径的PS小球,采用共沉积法得到P123-PS-ZnO凝胶。高温煅烧去除有机模板剂P123和PS,从而制备出系列孔径可控的多孔ZnO电致发光材料。研究表明,多孔结构可以显著改善ZnO的电致发光性能;ZnO发光强度随PS粒度的改变而改变,当使用100nm PS小球为模板时,多孔ZnO材料的相对发光强度较未使用PS模板提高了4.03倍。

多孔硅制备条件对其电致发光特性的影响

应用蒸镀-阳极氧化法制备结构为ITO/PS/p-S i/A l的多孔硅电致发光器件,在7.5V电压下实现了数小时连续电致发光.实验表明,多孔硅电致发光峰位会随着阳极氧化电流密度的增大、腐蚀时间的延长以及HF酸浓度的降低而蓝移.欲制备工作电压较低、发光时间较长、发光效率较高的电致发光样品,则多孔硅制备时的阳极氧化应使用较低电流密度和较短的腐蚀时间.

多孔硅电致发光器件

目前关于多孔硅(PS)发光特性研究已成为材料科学中的一个新热点,以电致发光器件为主攻方向的有关多孔硅的可能应用在不断报道。本文就此介绍了目前多孔硅电致发光器件的研究现状并对多孔硅发光器件在应用上存在的问题和研究方向作了一些讨论。

光电化学刻蚀n^+-Si的电致发光

ｎ＋－Ｓｉ在ＨＦ水溶液中经光电化学刻蚀形成的微米级多孔硅（ＰＳ）具有较好的电致发光（ＥＬ）性能，其发光光谱的波长范围约在５００～８００ｎｍ之间，阴极ＥＬ的波长和强度均随调制电位可逆变化；在酸性溶液中，发光强度较大，光淬灭过程也较中性溶液为慢．与ｎ－－Ｓｉ的结果类似，ＰＳ的制备电位也决定性地影响着ＥＬ的强度．光淬灭前的伏安行为表明，除Ｓ２Ｏ２－３和Ｈ＋还原外，可能还涉及ＰＳ表面化合物的转化．对能带图进行了讨论．