高度取向的(Pb0.5Sr0.5)TiO3/LaNiO3异质结构铁电薄膜性能

用sol-gel方法在Pt（111）/Ti/SiO2/Si（100）衬底上制备了具有LaN iO3（LNO）缓冲层的（Pb0.5Sr0.5）TiO3（PSrT50）/LNO/Pt异质结构铁电薄膜。X射线分析发现PSrT50薄膜在（100）方向高度取向,同时扫描电镜图像显示薄膜结构致密、表面平整。通过和直接在Pt上制备的、相同厚度的PSrT50薄膜比较,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在室温下具有更大的剩余极化（Pr=4.5μC/cm2）和更高的介电常数（rε=850）。同时,漏电流机理分析表明,PSrT50/LNO/Pt结构薄膜在低电场作用下呈现Pool-Frenkel发射效应,在高电场作用下则表现为空间电荷限制电流。