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质子和4He离子激发金和铋产生的LX射线的相对强度
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作者 徐君权 许浔江 《核技术》 CAS CSCD 北大核心 1992年第2期92-97,共6页
利用ECPSSR电离理论和新获得的L次亮层荧光产额等,计算了质子和~4He离子激发Au和Bi所产生的LX射线相对强度。质子能量为0.18—10MeV,~4He离子能量为1.0—4.0MeV。计算结果和报道的实验测量符合得很好。没有发现L次壳层偶合效应。
关键词 pwba理论 电离截面 LX射线 L次壳层
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