期刊文献+
共找到12篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
后退火温度对溅射沉积Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3铁电薄膜结构和性能的影响 被引量:6
1
作者 赖珍荃 李新曦 +3 位作者 俞进 王根水 郭少令 褚君浩 《南昌大学学报(理科版)》 CAS 北大核心 2003年第1期26-28,44,共4页
在具有Ti缓冲层的Pt(111)底电极上,用射频溅射工艺在较低的衬底温度(370℃)和纯Ar气氛中沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜,沉积过程中基片架作15°摇摆以提高膜厚的均匀性。然后将样品在大气中进行5min快速热退火处理,退火温度550-... 在具有Ti缓冲层的Pt(111)底电极上,用射频溅射工艺在较低的衬底温度(370℃)和纯Ar气氛中沉积Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)薄膜,沉积过程中基片架作15°摇摆以提高膜厚的均匀性。然后将样品在大气中进行5min快速热退火处理,退火温度550-680℃。用XRD、SEM分析薄膜的微结构,RT66A标准铁电测试系统测量样品的铁电和介电性能。结果表明,所沉积的Pt为(111)取向,仅当后退火温度高于580℃,沉积在Pt(111)上的PZT薄膜才能形成钙钛矿结构的铁电相,退火温度在580-600℃时结晶为(110)择优取向,退火温度高于600℃时结晶为(111)择优取向。PZT薄膜的极化强度随退火温度的升高而增加,但退火温度超过650℃时漏电流急剧上升,因此退火处理的温度对PZT薄膜的结构和性能有决定性的影响。 展开更多
关键词 PZT铁电薄膜 薄膜结构 铁电性能 介电性能 后退火温度 射频磁控溅射 pb(zr0.52Ti0.48)O3薄膜
下载PDF
PbO对Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3压电陶瓷性能的影响 被引量:2
2
作者 陈江丽 王斌科 《空军工程大学学报(自然科学版)》 CSCD 北大核心 2008年第4期91-94,共4页
采用固相反应的方法制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)压电陶瓷,研究了过量PbO对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3压电陶瓷性能的影响。通过XRD和SEM研究了PbO过量对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3压电陶瓷的晶相结构及显微形貌的影响,研究结果表明PbO过量不会影响P... 采用固相反应的方法制备了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)压电陶瓷,研究了过量PbO对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3压电陶瓷性能的影响。通过XRD和SEM研究了PbO过量对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3压电陶瓷的晶相结构及显微形貌的影响,研究结果表明PbO过量不会影响Pb(Zr0.52Ti0.48)O3材料的相结构(均为钙钛矿结构),但是PbO过量太多,会出现过烧现象及气孔等,PbO过量为5%mol时结晶最好。测量了样品的密度、电阻率、压电系数以及介电性能,对这些测量结果的研究表明采用850℃预烧、1 250℃终烧的烧结工艺,PbO过量为5%mol的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3压电陶瓷致密性好,密度最大,且具有良好的介电与压电性能,其压电系数最大为322 pC/N。 展开更多
关键词 压电陶瓷 固相反应 pb(zr0.52Ti0.48)O3 压电系数
下载PDF
以TiO_2粉体为钛源水热合成Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3晶粒机理 被引量:1
3
作者 李涛 彭同江 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期1092-1095,共4页
用水热法合成了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)超细晶粒。通过对合成粉晶体的物相与晶体形貌的表征和对生成物中TiO2残余量的测定,初步分析了PZT粉晶粒形成的机理。在反应初期,随着温度的升高,TiO2粒子逐渐溶解。进入溶液的钛氧基团与溶液中... 用水热法合成了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)超细晶粒。通过对合成粉晶体的物相与晶体形貌的表征和对生成物中TiO2残余量的测定,初步分析了PZT粉晶粒形成的机理。在反应初期,随着温度的升高,TiO2粒子逐渐溶解。进入溶液的钛氧基团与溶液中的羟基相作用发生羟基化反应,形成钛的氢氧化物。钛与锆的氢氧化物相互作用,形成生长基元,它们与Pb2+离子一起在PZT晶核生长界面上叠合、脱水、结晶,从而使PZT晶粒长大。 展开更多
关键词 无机非金属材料 pb(zr0.52Ti0.48)O3 水热法 二氧化钛 形成机理
下载PDF
溶胶-凝胶法制备纳米Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3 被引量:6
4
作者 郭宏霞 刘雅言 +3 位作者 王岚 曾雄辉 郝先 李莹 《应用化学》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期1166-1169,共4页
以醋酸铅 ,硝酸氧锆 ,钛酸四丁酯为原料用溶胶 -凝胶法制备了纳米 Pb( Zr0 .52 Ti0 .48) O3 ( PZT)。结果表明 ,随溶剂中乙二醇单甲醚与水的比例的增大 ,PZT粉体的晶化温度增高 ,晶粒的粒径尺寸也增大 ,当V( C3 H8O2 ) / V( H2 O) =4 .... 以醋酸铅 ,硝酸氧锆 ,钛酸四丁酯为原料用溶胶 -凝胶法制备了纳米 Pb( Zr0 .52 Ti0 .48) O3 ( PZT)。结果表明 ,随溶剂中乙二醇单甲醚与水的比例的增大 ,PZT粉体的晶化温度增高 ,晶粒的粒径尺寸也增大 ,当V( C3 H8O2 ) / V( H2 O) =4 .4 7时 ,不仅凝胶完成时间短 ,且可得到粒度分布集中、晶化温度低的 PZT粉体。用原子力显微镜测定 PZT的粒径为 6 0~ 70 nm,用 TG-DTA分析确定在 4 43℃即可发生晶化反应 ,在 5 0 0℃下结晶完善。通过对不同温度下热处理的粉体的红外光谱和 X射线衍射的分析 ,对溶胶 -凝胶法制备 PZT粉体形成钙钛矿结构的过程进行了研究。 展开更多
关键词 pb(zr0.52Ti0.48)O3 锆钛酸铅 溶胶-凝胶法 纳米晶 压电陶瓷
下载PDF
二乙醇胺辅助溶胶-水热法低温合成四方形貌Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3粉体 被引量:2
5
作者 余占军 胡艳华 +1 位作者 王玉卓 姚海云 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第5期1325-1329,共5页
以醋酸铅、异丙醇钛、正丙醇锆为主要实验原料,采用改进的溶胶-水热复合法,在较低温度下制备出了四方形貌的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3[简称PZT]纳米级粉体。探讨了二乙醇胺和水热反应温度对粉体结晶过程、粉体形貌、颗粒尺寸的影响。实验结果... 以醋酸铅、异丙醇钛、正丙醇锆为主要实验原料,采用改进的溶胶-水热复合法,在较低温度下制备出了四方形貌的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3[简称PZT]纳米级粉体。探讨了二乙醇胺和水热反应温度对粉体结晶过程、粉体形貌、颗粒尺寸的影响。实验结果表明,二乙醇胺能够显著降低水热合成温度,有助于粉体在低温条件下合成。随着水热反应温度由150℃逐渐升高至200℃,PZT粉体由非晶态逐渐转变成含有少量杂质的四方相,最后形成了纯的四方相结构。粉体颗粒尺寸逐渐变小。当水热反应温度为180℃时,具有单一四方相结构的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3粉体呈现四方形貌,且团聚不明显。 展开更多
关键词 溶胶-水热法 pb(zr0.52Ti0.48)O3 二乙醇胺 四方形貌
下载PDF
GaAs(100)上外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(101)铁电薄膜的制备与性能研究
6
作者 李争刚 朱俊 +1 位作者 刘兴鹏 周云霞 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2018年第8期40-44,共5页
采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性... 采用激光分子束外延技术,在GaAs(100)衬底上,利用SrTiO_3(STO)/TiO_2复合缓冲层生长外延Pb(Zr_(0.52)Ti_(0.48))O_3(PZT)铁电薄膜。TiO_2/STO复合缓冲层的引入用来减小晶格失配和界面互扩散,达到提高外延PZT铁电薄膜的结晶质量和电学性能的目的。TiO_2和STO的生长通过原位反射高能电子衍射仪(RHEED)实时监控。该异质结构的面外外延关系为PZT(101)//STO(110)//TiO_2(110)//GaAs(100)。PZT/STO/TiO_2/GaAs异质结构在电场为-250×10~3V/cm时漏电流密度低于1×10^(-6)A/cm^2,剩余极化强度(2P_r)高达24×10^(-6)C/cm^2。此外,在模拟太阳光(AM1.5G)照明下,这种异质结构通过剩余极化增强的光电转换效率为10.01%。 展开更多
关键词 激光分子束外延 外延PZT GAAS衬底 SrTiO3(STO)/TiO2缓冲层 铁电性能 光伏性能
下载PDF
x射线衍射研究单晶Si衬底上低温生长的LaNiO3/Pb(Zr0.52Ti0.48)O3/LaNiO3铁电电容器结构
7
作者 陈效军 《巢湖师专学报》 1999年第3期45-46,共2页
通过脉冲激光沉积,于Si(001)单晶衬底上在550℃的衬底温度下生长了LaNiO3/Pb(Zr0.52Ti0.48)O3/LaNiO3/SrtiO3/TiN/Si异质结构。利用四圆x射线分析了该多层膜结构中各层曲轴向外延关系。
关键词 X射线衍射 单晶Si LaNiO3/pb(zr0.52Ti0.48)O3/LaNiO3 铁电电容器 脉冲激光沉积
下载PDF
水热环境下PZT纳米晶的结晶与生长习性 被引量:5
8
作者 李涛 彭同江 杨世源 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2007年第2期196-197,200,共3页
采用TiO2,ZrOCl2.8H2O,Pb(NO3)2为原料,KOH为矿化剂,在200℃,KOH浓度分别为1 mol/L,3 mol/L,5 mol/L,7 mol/L时,水热合成锆钛酸铅纳米晶体。结果表明,KOH浓度严重影响了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)纳米晶的结晶、生长习性与晶体形貌。当KO... 采用TiO2,ZrOCl2.8H2O,Pb(NO3)2为原料,KOH为矿化剂,在200℃,KOH浓度分别为1 mol/L,3 mol/L,5 mol/L,7 mol/L时,水热合成锆钛酸铅纳米晶体。结果表明,KOH浓度严重影响了Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)纳米晶的结晶、生长习性与晶体形貌。当KOH浓度较低时,合成了PZT纳米晶片;当KOH浓度较高时,合成了PZT纳米四方晶柱。合成的纳米晶晶粒度为30 nm,纳米晶粒间通过层叠方式进行生长,成为较大的PZT多晶颗粒。 展开更多
关键词 水热法 pb(zr0.52 Ti0.48)O3(PZT) 纳米晶
下载PDF
不同PZT复合温石棉纤维/水泥基材料压电性能 被引量:1
9
作者 李璐 罗健林 +2 位作者 李秋义 孙胜伟 王旭 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期281-285,共5页
通过研究4种煅烧温度对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)粉体粒径分布及晶体结构、陶瓷片微观形貌及压电性能的影响确定PZT最优合成条件。结合超声分散技术制备PZT/温石棉纤维/水泥材料(PZTCC),并分别测试复合粉体晶体结构及经压制极化后PZTCC... 通过研究4种煅烧温度对Pb(Zr0.52Ti0.48)O3(PZT)粉体粒径分布及晶体结构、陶瓷片微观形貌及压电性能的影响确定PZT最优合成条件。结合超声分散技术制备PZT/温石棉纤维/水泥材料(PZTCC),并分别测试复合粉体晶体结构及经压制极化后PZTCC复合片的压电性能。800℃时PZT钙钛矿特征最明显,晶粒饱满;相应PZT陶瓷片、PZTCC复合片均具有较高压电性能,其压电常数d33分别达119.2pC/N、32.5pC/N。 展开更多
关键词 煅烧温度 pb(zr0.52Ti0.48)O3(PZT)微/纳米粉体 溶胶-凝胶法 温石棉纤维 PZT/水泥基复合材料 压电性能
下载PDF
水热反应温度对锆钛酸铅微晶性质的影响 被引量:1
10
作者 李涛 彭同江 杨世源 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2015年第1期73-75,80,共4页
水热合成锆钛酸铅(PZT)微晶体,研究了锆钛酸铅微晶体的晶体结构、晶粒形态随水热反应温度的变化规律。研究结果表明,当水热反应温度从125℃变化到200℃时,均有效合成四方晶相的钙钛矿结构的PZT晶体;随着水热反应温度的升高,PZT晶体的四... 水热合成锆钛酸铅(PZT)微晶体,研究了锆钛酸铅微晶体的晶体结构、晶粒形态随水热反应温度的变化规律。研究结果表明,当水热反应温度从125℃变化到200℃时,均有效合成四方晶相的钙钛矿结构的PZT晶体;随着水热反应温度的升高,PZT晶体的四方度(晶格参数c/a比)减小,晶粒尺寸减小,颗粒尺寸增大,晶体颗粒由立方体状逐渐变为球状。 展开更多
关键词 水热合成 温度 pb(zr0.52Ti0.48)O3 晶体结构 机理
下载PDF
射频磁控溅射制备PZT铁电薄膜的工艺研究 被引量:3
11
作者 毕振兴 张之圣 +2 位作者 胡明 樊攀峰 刘志刚 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第4期6-9,共4页
在SiO2/Si基片上采用直流对靶溅射技术制备出Pt/Ti底电极;应用射频磁控溅射方法,利用快速热处理(RTA)工艺,制备出了具有良好铁电性能的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜。将样品进行10min快速热退火处理,退火温度700℃。测试分析表明:薄膜厚... 在SiO2/Si基片上采用直流对靶溅射技术制备出Pt/Ti底电极;应用射频磁控溅射方法,利用快速热处理(RTA)工艺,制备出了具有良好铁电性能的Pb(Zr0.52Ti0.48)O3铁电薄膜。将样品进行10min快速热退火处理,退火温度700℃。测试分析表明:薄膜厚度比较均匀、表面基本平整、没有裂纹和孔洞、致密性好、薄膜样品的矫顽场强(Ec)为28.6kV/cm,剩余极化强度(Pr)为18.7μC/cm2,自发极化强度(Ps)为37.5μC/cm2,是制备铁电薄膜存储器的优选材料。 展开更多
关键词 PZT 直流对靶溅射 射频磁控溅射 锆钛酸铅薄膜 钙钛矿相 电滞回线 射频磁控溅射方法 PZT铁电薄膜 溅射制备 工艺研究
下载PDF
Memory characteristics of Au/PZT/BIT/p-Si ferroelectric diode
12
作者 王华 于军 +4 位作者 董晓敏 周文利 王耘波 郑远开 赵建宏 《Science China(Technological Sciences)》 SCIE EI CAS 2001年第3期274-279,共6页
A ferroelectric memory diode consisting of Au/PZT/BIT/p-Si multilayer configuration has been fabricated by pulsed laser deposition (PLD) technique. The ferroelectric properties and the memory characteristics are inves... A ferroelectric memory diode consisting of Au/PZT/BIT/p-Si multilayer configuration has been fabricated by pulsed laser deposition (PLD) technique. The ferroelectric properties and the memory characteristics are investigated. The P-E curve of the PZT/BIT/p-Si films system had an asymmetry saturated hysteresis loop withP t=15 μC/cm2 andE c=48 kV/cm, and the decay in remanent polarization was only 10% after 109 switching cycles, meanwhile the increase in coercive field was 12%. The C-V hysteresis loop and the I-V curve showed a memory effect derived from the ferroelectric polarization of PZT/BIT films, and the current density was 6.7×10?8 A/cm2 at a voltage of +4V. Our diode had nonvolatile and nondestructive memory readout operation. There was a read current disparity of 0.05 μA for logic “1” and logic “0” at a read voltage of +2V, and the stored logical value (“1” or “0”) could be read out in 30 min. 展开更多
关键词 ferroeletric films memory diode pb(zr0.52Ti0.48)O3 BI4TI3O12
原文传递
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部