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Elastocaloric Effect in PbTiO3 Thin Films with 180°Domain Structure:A Phase Field Study
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作者 王芳 李波 +2 位作者 欧云 刘龙飞 王伟 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第3期89-92,共4页
The elastocalorie effect of PbTiO3 thin films with 180° domain structure is studied using the phase field method. The influence of external stress σ33, misfit strain μm and domain wall energy on the adiabatic t... The elastocalorie effect of PbTiO3 thin films with 180° domain structure is studied using the phase field method. The influence of external stress σ33, misfit strain μm and domain wall energy on the adiabatic temperature change ( △ Tσ) at room temperature are carried out. The calculation results indicate that |△Tσ| increases as |σ33| or |μm| increases. The largest △ Tσ wlue of--7.81( is obtained at σ33 = 2 GPa and Um =-0.02. Furthermore, the domain switching behaviors under different gradient coeffcients are different, and finally affect the elastocaloric effect in PTO thin films. These results could provide a guide to choose the substrate and the preparation process in experiments. 展开更多
关键词 PTO A Phase Field Study Domain Structure Elastocaloric Effect in pbtio3 Thin films with 180
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High Ferroelectricities and High Curie Temperature of BiInO3PbTiO3Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering Method
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作者 孙科学 张淑仪 Kiyotaka Wasa 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2018年第12期19-22,共4页
Properties of ferroelectric xBiInO3-(1-x)PbTiO3(xBI-(1-x)PT) thin films deposited on(101) SrRuO3/(200)Pt/(200) MgO substrates by rf magnetron sputtering method and effects of deposition conditions are inve... Properties of ferroelectric xBiInO3-(1-x)PbTiO3(xBI-(1-x)PT) thin films deposited on(101) SrRuO3/(200)Pt/(200) MgO substrates by rf magnetron sputtering method and effects of deposition conditions are investigated.The structures of the xBI-(1-x)PT films are characterized by x-ray diffraction and scanning electron microscopy.The results indicate that the thin films are grown with mainly(001) orientation. The chemical compositions of the films are analyzed by scanning electron probe and the results indicate that the loss phenomena of Pb and Bi elements depend on the pressure and temperature during the sputtering process.The sputtering parameters including target composition, substrate temperature, and gas pressure are adjusted to obtain optimum sputtering conditions. To decrease leakage currents,2 mol% La2 O3 is doped in the targets. The P-E hysteresis loops show that the optimized xBI-(1-x)PT(x = 0.24) film has high ferroelectricities with remnant polarization2 Pr = 80μC/cm2 and coercive electric field 2 EC = 300 kV/cm. The Curie temperature is about 640℃. The results show that the films have optimum performance and will have wide applications. 展开更多
关键词 In Pb MGO High Ferroelectricities and High Curie Temperature of BiInO3pbtio3Thin films Deposited by RF Magnetron Sputtering Method
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PbTiO3薄膜生长的Monte Carlo模拟Ⅰ:模型与算法 被引量:4
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作者 于光龙 朱建国 +2 位作者 朱基亮 芦苇 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1531-1534,共4页
提出了一种基于Monte Carlo方法的模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法,并以模拟PbTiO3薄膜的生长为例加以说明.模拟中使用的晶格空间基本单元为立方体,单个的ABO3结构晶胞简化为2×2×2个立方体,并采用周期性边界条件;... 提出了一种基于Monte Carlo方法的模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法,并以模拟PbTiO3薄膜的生长为例加以说明.模拟中使用的晶格空间基本单元为立方体,单个的ABO3结构晶胞简化为2×2×2个立方体,并采用周期性边界条件;Monte Carlo事件由沉积事件,扩散事件和脱附事件组成;根据PbTiO3的组成确定沉积原子的种类和比例,即根据Pb∶Ti∶O为1∶1∶3的比例借助一随机数随机选择原子的种类;原子扩散能力与扩散激活能相关,单个原子的扩散步数由沉积速率与实际扩散时间决定;激活能采用库仑势计算,其大小不仅与原子周围的架构相关,而且与架构中原子的种类相关.有关模拟结果将在另文中给出. 展开更多
关键词 MONTE CARLO模拟 薄膜生长 pbtio3薄膜 氧化物
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PbTiO3薄膜生长的Monte Carlo模拟Ⅱ:模拟结果与讨论 被引量:1
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作者 于光龙 朱建国 +2 位作者 朱基亮 芦苇 肖定全 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1535-1537,共3页
根据本文作者提出的基于Monte Carlo方法模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法(详见另文),编制了模拟软件,并以PbTiO3薄膜为例模拟了多元氧化物薄膜生长初期的表面形貌.模拟中选定两个输入参数为沉积速率和沉积温度,并根据相关... 根据本文作者提出的基于Monte Carlo方法模拟多元氧化物薄膜生长的三维模型及模拟算法(详见另文),编制了模拟软件,并以PbTiO3薄膜为例模拟了多元氧化物薄膜生长初期的表面形貌.模拟中选定两个输入参数为沉积速率和沉积温度,并根据相关研究报道的实验条件,分别取沉积速率处于0.1~0.001nm/s之间,沉积温度处于800~1000K之间.模拟结果表明,在薄膜生长的初始阶段,沉积速率和沉积温度对薄膜形貌的影响很大,随着沉积速率的降低和沉积温度的升高,初始凝聚岛的面积增大,总的岛的数目减小;在较低的沉积速率和较高的沉积温度条件下更容易得到薄膜的层状生长. 展开更多
关键词 MONTE CARLO模拟 薄膜生长 pbtio3薄膜 氧化物
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缓冲层对铁电PbTiO3薄膜微结构的影响
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作者 刘嘉琦 冯燕朋 +5 位作者 朱银莲 曹毅 刘楠 石彤彤 唐云龙 马秀良 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期673-679,共7页
缓冲层作为一种调控铁电薄膜畴组态和引入新的微结构的有效手段被广泛采用。本文在大拉应变KTaO3衬底上生长了LaNiO3/PbTiO3多层膜,利用透射电子显微学方法,对该薄膜体系中的缺陷结构及其与铁电畴的交互作用进行了细致地研究。结果表明... 缓冲层作为一种调控铁电薄膜畴组态和引入新的微结构的有效手段被广泛采用。本文在大拉应变KTaO3衬底上生长了LaNiO3/PbTiO3多层膜,利用透射电子显微学方法,对该薄膜体系中的缺陷结构及其与铁电畴的交互作用进行了细致地研究。结果表明,由于巨大的界面失配,LaNiO3层中形成密集的Ruddlesden-Popper型层错,该层错经由LaNiO3/PbTiO3异质界面诱导PbTiO3中形成贯穿型的层状缺陷,这种缺陷的形成对PbTiO3内部畴结构有着一定的影响。利用电子能量损失谱,发现层状缺陷处Ti元素的价态有所降低,可能源于LaNiO3与PbTiO3之间的电荷传递。这一结果揭示了中间缓冲层对PbTiO3薄膜内部微结构产生重要的影响,同时也为铁电畴的调控提供了新的途径。 展开更多
关键词 钛酸铅薄膜 缓冲层 微结构 像差校正透射电子显微学
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Characterization of La-doped xBiInO_3(1-x)PbTiO_3 Piezoelectric Films Deposited by the Radio-Frequency Magnetron Sputtering Method 被引量:1
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作者 孙科学 张淑仪 +1 位作者 Kiyotaka Wasa 水修基 《Chinese Physics Letters》 SCIE CAS CSCD 2016年第6期49-52,共4页
La-doped and undoped xBiIn03-(1 - x)PbTi03 (BI-PT) thin films are deposited on (101)SrRuO3/(lOO)Pt/(lO0) MgO substrates by the rf-magnetron sputtering method. The structures of the films are characterized by... La-doped and undoped xBiIn03-(1 - x)PbTi03 (BI-PT) thin films are deposited on (101)SrRuO3/(lOO)Pt/(lO0) MgO substrates by the rf-magnetron sputtering method. The structures of the films are characterized by XRD and SEM, and the results indicate that the thin films are grown with mainly (100) oriented and columnar structures. The ferroelectricity and piezoelectricity of the BI-PT films are also measured, and the measured results illustrate that both performances are effectively improved by the La-doping with suitable concentrations. These results will open up wide potential applications of the films in electronic devices. 展开更多
关键词 of BI Characterization of La-doped xBiInO3 x)pbtio3 Piezoelectric films Deposited by the Radio-Frequency Magnetron Sputtering Method in by La PT
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Dielectric properties of BiFeO_3-PbTiO_3 thin films prepared by PLD
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作者 陈蕊 俞圣雯 +2 位作者 张冠军 程晋荣 孟中岩 《中国有色金属学会会刊:英文版》 CSCD 2006年第B01期116-118,共3页
BiFeO3-PbTiO3 (BFO-PT) thin films were prepared on Pt/TiO2/SiO2/Si substrates by pulsed-laser deposition (PLD) technique under different oxygen pressures. The structures of the films were characterized by means of XRD... BiFeO3-PbTiO3 (BFO-PT) thin films were prepared on Pt/TiO2/SiO2/Si substrates by pulsed-laser deposition (PLD) technique under different oxygen pressures. The structures of the films were characterized by means of XRD. The current densities were performed to check the conductivity of the films. The dielectric constant and loss factor (tanδ) of the films were measured. The results show that the BFO-PT layers are mainly perovskite structured; the film deposited under 6.665 Pa exhibits low leakage current, low dielectric loss (0.017-0.041) and saturated hysteresis loop with polarization (Pr) value and coercive field (Ec) of 3 μC/cm2 and 109 kV/cm. 展开更多
关键词 BiFeO3-pbtio3薄膜 脉冲激光沉积法 制备 介电性质 铁电性质
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PLD制备钛酸铅薄膜过程的RHEED分析 被引量:5
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作者 葛芳芳 白黎 +2 位作者 吴卫东 曹林洪 沈军 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期341-345,共5页
本文采用反射式高能电子衍射(RHEED)监测脉冲激光沉积法制备钛酸铅薄膜过程。根据PbTiO3/MgO(001)薄膜、PbTiO3/Si(100)薄膜生长过程中RHEED强度的时间演变,分析基片对薄膜生长模式的影响。并且观测不同生长时刻的RHEED强度的空间分布,... 本文采用反射式高能电子衍射(RHEED)监测脉冲激光沉积法制备钛酸铅薄膜过程。根据PbTiO3/MgO(001)薄膜、PbTiO3/Si(100)薄膜生长过程中RHEED强度的时间演变,分析基片对薄膜生长模式的影响。并且观测不同生长时刻的RHEED强度的空间分布,讨论生长过程中薄膜表面的台阶尺寸变化。另外,比较在不同氧分压下沉积的钛酸铅薄膜表面的RHEED图案,发现氧气将改变薄膜的微结构,提高薄膜的结晶性。 展开更多
关键词 钛酸铅薄膜 脉冲激光沉积 RHEED 生长模式
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组分和应力不均匀分布对薄膜铁电性的影响 被引量:4
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作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯仕猛 范正修 《压电与声光》 CSCD 北大核心 2000年第4期249-252,共4页
采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在(111)Si基板上制备出了成膜较好的 PbTiO3薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层,薄膜中的Pb、Ti组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长,并... 采用组合靶射频溅射的方法、制备后慢速降温的途径在(111)Si基板上制备出了成膜较好的 PbTiO3薄膜。通过测试分析发现在薄膜中形成了一个缓解应力的过渡层,薄膜中的Pb、Ti组分比沿着薄膜生长的方向成非线性增长,并在薄膜表面形成一个富Pb层,薄膜的C-V特性曲线中存在负方向的位移和畸变。结合实验结果对薄膜的生长机理进行了探讨,并且对薄膜中的应力和不均匀分布的组分对薄膜铁电特性的影响进行了理论上的分析,而且与实验取得了一致的结果。 展开更多
关键词 pbtio3薄膜 应力 组分 铁电
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溶胶-凝胶法制备的PbTiO_3薄膜的光学性质研究 被引量:5
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作者 胡志高 王根水 +1 位作者 黄志明 褚君浩 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期175-179,共5页
采用溶胶 凝胶法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的无定形PbTiO3 薄膜 ,并对其光学性质进行了详细的研究 ,发现其折射率的波形符合经典的Cauchy函数 .由半导体理论计算得到无定形PbTiO3 薄膜的光学禁带宽度为 3.84eV .FTIR透射光谱研... 采用溶胶 凝胶法在石英玻璃衬底上制备出均匀透明的无定形PbTiO3 薄膜 ,并对其光学性质进行了详细的研究 ,发现其折射率的波形符合经典的Cauchy函数 .由半导体理论计算得到无定形PbTiO3 薄膜的光学禁带宽度为 3.84eV .FTIR透射光谱研究表明无定形PbTiO3 薄膜在中红外波段没有吸收峰出现 .对于在 5 5 0℃下快速热退火得到的PbTiO3 薄膜 ,通过远红外反射光谱测量 ,观察到了 展开更多
关键词 溶胶-凝胶法 制备 pbtio3薄膜 光学性质 无定形薄膜 折射率 禁带宽度 钛酸铅薄膜 铁电薄膜
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水热-溶胶凝胶法合成PbTiO_3/NiTi复合膜工艺研究 被引量:2
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作者 刘晓鹏 孟长功 +1 位作者 杨大智 陈騑騢 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期303-304,共2页
进行了水热-溶胶凝胶复合法合成PbTiO3/NiTi的探索研究。结果表明,采用该方法合成 PbTiO3陶瓷膜为四方钙钛矿结构,陶瓷薄膜易于在水热反应后的金属基体表面形核长大,陶瓷薄膜生长均匀,结晶度和纯度也明显高于溶... 进行了水热-溶胶凝胶复合法合成PbTiO3/NiTi的探索研究。结果表明,采用该方法合成 PbTiO3陶瓷膜为四方钙钛矿结构,陶瓷薄膜易于在水热反应后的金属基体表面形核长大,陶瓷薄膜生长均匀,结晶度和纯度也明显高于溶胶凝胶法制备的PbTiO3膜。 展开更多
关键词 水热-溶胶-凝胶复合法 NITI 表面形貌 复合膜 钛酸铅
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射频溅射制备钛酸铅薄膜 被引量:1
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作者 杨成韬 袁鑫 +1 位作者 纪洪 李言荣 《电子元件与材料》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期16-18,共3页
采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究,在适宜的溅射条件和基片温度下,溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀,膜层致密性好,经XRD分析证实,薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄... 采用射频磁控溅射方法制备钙钛矿型钛酸铅铁电薄膜。通过各种不同溅射工艺条件研究,在适宜的溅射条件和基片温度下,溅射获得的PbTiO3薄膜表面晶粒大小均匀,膜层致密性好,经XRD分析证实,薄膜为钙钛矿型结构PbTiO3。外加Pt电极对薄膜进行测试表明,溅射得到的PbTiO3薄膜具有较好的电滞回线特性。 展开更多
关键词 铁电薄膜 射频溅射 电滞回线 钛酸铅薄膜 晶化
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在(111)Si基底上直接溅射合成PbTiO_3薄膜以及Pb损失的抑制 被引量:1
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作者 赵强 汤兆胜 +1 位作者 冯士猛 范正修 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第4期412-415,共4页
利用射频磁控溅射系统,采用 Ti、Pb组合靶,以 O2为反应气体,在( 111) Si基板上直接沉积 PbTiO3薄膜,通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构... 利用射频磁控溅射系统,采用 Ti、Pb组合靶,以 O2为反应气体,在( 111) Si基板上直接沉积 PbTiO3薄膜,通过对不同基底温度以及沉积后的薄膜在不同的氧气氛中来用不同的降温速率降温制备。通过对所得的薄膜的结构和组成以及光学和电学特性的测试、分析得出:在535℃时沉积、溅射后直接充入 107Pa的氧气并且以 3℃/min的速率降至室温,制备出了性能较好的具有钙钛矿结构的PbTiO3薄膜。并对薄膜的形成机理进行了探讨。 展开更多
关键词 pbtio3 铁电薄膜 Pb损失 冷却速率
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PbTiO_3铁电薄膜晶化工艺研究 被引量:1
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作者 姜斌 齐增亮 +2 位作者 耿永涛 蒋书文 李言荣 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第3期354-355,358,共3页
对sol-gel法制备的PbTiO3薄膜采用不同晶化工艺进行晶化,研究了晶化温度和基片对薄膜晶化的影响。研究表明,采用快速晶化工艺时,在550-750℃的较宽温度范围内,薄膜能够结晶形成稳定钙铁矿相结构,在LaAlO3基片上能获得结晶良好、具有(001... 对sol-gel法制备的PbTiO3薄膜采用不同晶化工艺进行晶化,研究了晶化温度和基片对薄膜晶化的影响。研究表明,采用快速晶化工艺时,在550-750℃的较宽温度范围内,薄膜能够结晶形成稳定钙铁矿相结构,在LaAlO3基片上能获得结晶良好、具有(001)择优取向的PbTiO3薄膜。与常规晶化相比,快速晶化处理的薄膜结晶质量好,晶粒较小、分布均匀致密。 展开更多
关键词 铁电薄膜 快速晶化 pbtio3
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静电雾化沉积制备PbTiO_3薄膜的研究 被引量:1
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作者 宫华 黄晖 +1 位作者 汪敏强 刘开平 《中国陶瓷工业》 CAS 2005年第5期17-20,12,共5页
采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响。通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜。测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0... 采用静电雾化沉积技术制备了PbTiO3薄膜,探索了沉积温度和沉积时间对所制备薄膜的结构和形貌的影响。通过调节制备工艺,制备了多孔和致密的PbTiO3薄膜。测试了所制备钛酸铅薄膜的介电频率特性,在100kHz的介电常数和介电损耗分别为222和0.0247。 展开更多
关键词 静电雾化沉积 钛酸铅 铁电薄膜
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不同退火方式对0.7BiFeO_3-0.3PbTiO_3薄膜的铁电性能及漏电流的影响
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作者 李海敏 郭红力 +3 位作者 李雪冬 刘果 肖定全 朱建国 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2011年第10期1053-1057,共5页
利用溶胶凝胶法在LaNiO3/SiO2/Si衬底上制备了0.7BiFeO3-0.3PbTiO3(BFPT7030)薄膜,研究了快速退火及常规退火两种不同的后续退火处理方式对薄膜铁电性能及漏电流性能的影响.XRD测试表明,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶完好,呈现出单... 利用溶胶凝胶法在LaNiO3/SiO2/Si衬底上制备了0.7BiFeO3-0.3PbTiO3(BFPT7030)薄膜,研究了快速退火及常规退火两种不同的后续退火处理方式对薄膜铁电性能及漏电流性能的影响.XRD测试表明,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶完好,呈现出单一的钙钛矿相.SEM测试结果显示,经快速退火处理的BFPT7030薄膜结晶充分,但经常规退火处理的BFPT7030薄膜表面致密性较好,且在升温速率为2℃/min时薄膜的晶粒更细小.经快速退火处理的BFPT7030薄膜的铁电性能较为优异,在升温速率为20℃/s时,其剩余极化Pr为22μC/cm2,矫顽场Ec为70 kV/cm,并具有较小的漏电流.XPS测试结果表明,经常规退火处理的BFPT7030薄膜其铁离子的价态波动较小. 展开更多
关键词 溶胶凝胶 BiFeO3-pbtio3 薄膜 快速退火 常规退火
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Li^+-Ca_xPb_(1-x)TiO_3湿敏纳米薄膜的激光拉曼光谱、晶格畸变和激光显微组织——应用“软模理论”解谱 被引量:1
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作者 王智民 李丽 +1 位作者 刘静波 张艳熹 《化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第1期81-85,F009,共6页
测定了标题物 Li+-CaxPb1-xTiO3 (缩写为 Li-CPT, 其中 x=0.35, Li/Ti=1.0%, mol/mol, 850 ℃/h)的激光拉曼光谱(LRS)和激光显微组织, 并与湿敏性能极差的纯钛酸铅 PbTiO3 (缩写为 PT)以及不同钙掺杂量的钛酸铅CaxPb1- TiO3 ... 测定了标题物 Li+-CaxPb1-xTiO3 (缩写为 Li-CPT, 其中 x=0.35, Li/Ti=1.0%, mol/mol, 850 ℃/h)的激光拉曼光谱(LRS)和激光显微组织, 并与湿敏性能极差的纯钛酸铅 PbTiO3 (缩写为 PT)以及不同钙掺杂量的钛酸铅CaxPb1- TiO3 x(缩写为 CPT, x=0.08, 0.16, 0.24, 0.32, 0.40)的 LRS 进行比较, Li-CPT 以及 CPT 的 LRS 与 PT 的 LRS 相比有很大差别,仅在75, 125, 190, 273和585 cm-1出现五个谱峰. 应用“软模理论”将其分别归属于PT四方晶相的五个特征单模E(1TO),A1(1TO), E(2TO), B1+E 和 A1(3TO)的红移及宽化, PT 的其它五个特征单模在 Li-CPT 及 CPT 的谱图中完全消失或被淹没. 对于这种拉曼活性的降低, 可以根据“软模理论”与晶格畸变作用的关联加以解释. Pauling 离子半径较小的 Ca2+的掺杂, 等价取代了半径较大的 Pb2+的晶格位置, 降低了四方晶相畸变度δ=c/a 和不对称性导致的各向异性, 不单消除了薄膜冷却时位移型相变可能引起的破裂, 而且改变了晶格中氧八面体“TiO6”及十二面体“PbO12”的几何结构和电荷分布, 改变了晶格c轴上M—O (M=Ti, Pb)键的化学环境, 直接阻尼了M—O键的伸缩振动软模, 减小了电偶矩及其自发极化, 使 Li-CPT 展开更多
关键词 软模 LI^+ 拉曼 晶格畸变 振动模 等价 pbtio3 CPT 改变 LRS
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c轴取向PbTiO_3外延生长的研究
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作者 陈先同 罗维根 +3 位作者 丁爱丽 仇萍荪 李晖 平井敏雄 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1995年第2期225-230,共6页
本文研究了MOCVD法淀积过程中工艺条件对PbTiO3膜c轴取向度的影响,探讨了PbTiO3膜的生长过程,通过调节氧气流量首次在MgO(100)单晶衬底上淀积出c轴取向的PbTiO3外延膜.PbTiO3外延膜的介电常... 本文研究了MOCVD法淀积过程中工艺条件对PbTiO3膜c轴取向度的影响,探讨了PbTiO3膜的生长过程,通过调节氧气流量首次在MgO(100)单晶衬底上淀积出c轴取向的PbTiO3外延膜.PbTiO3外延膜的介电常数为90;折射率为2.64;均和单晶性能一致. 展开更多
关键词 外延生长 薄膜 MOCVD 钛酸铅 C轴取向
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取向PT薄膜的溶胶-凝胶法制备及其对PST薄膜的取向诱导
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作者 陈敬峰 杜丕一 +2 位作者 覃莹 韩高荣 翁文剑 《稀有金属材料与工程》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2008年第A02期120-123,共4页
采用溶胶-凝胶工艺,以TbCl3作为掺杂剂,在无规取向的ITO透明导电玻璃基板上成功地制备了高度择优取向的PbTiO3(PT)铁电薄膜。通过对不同前驱溶液浓度、热处理工艺、热处理时间和温度制备的PT薄膜样品的XRD图谱进行分析,得出了较为优化... 采用溶胶-凝胶工艺,以TbCl3作为掺杂剂,在无规取向的ITO透明导电玻璃基板上成功地制备了高度择优取向的PbTiO3(PT)铁电薄膜。通过对不同前驱溶液浓度、热处理工艺、热处理时间和温度制备的PT薄膜样品的XRD图谱进行分析,得出了较为优化的制备工艺,并在此基础上溅射沉积出具有明显择优取向特征的PST薄膜。很明显,以取向PT作为诱导层,可以得到择优取向的PST薄膜材料。 展开更多
关键词 钛酸铅 薄膜 取向生长 诱导层
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铁电全闭合畴结构的稳定性研究 被引量:1
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作者 陈雨亭 朱银莲 +3 位作者 宫风辉 邹敏杰 唐云龙 马秀良 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期635-641,共7页
铁电薄膜中的全闭合畴结构由于在高密度存储器中的潜在应用而受到广泛关注。本文在GdScO3、DyScO3两种衬底上生长了不同中间层的PbTiO3多层膜,利用透射电子显微镜对同一衬底不同中间层、同一中间层不同衬底的PbTiO3多层膜畴组态进行了... 铁电薄膜中的全闭合畴结构由于在高密度存储器中的潜在应用而受到广泛关注。本文在GdScO3、DyScO3两种衬底上生长了不同中间层的PbTiO3多层膜,利用透射电子显微镜对同一衬底不同中间层、同一中间层不同衬底的PbTiO3多层膜畴组态进行了系统的研究。结果表明,在GdScO3衬底上生长的PbTiO3多层膜,当中间层由SrTiO3更换为GdScO3或DyScO3时,PbTiO3中由“V”型全闭合畴结构变为a1/a2畴。在DyScO3衬底上生长的PbTiO3多层膜,当中间层选用DyScO3时为“H”型全闭合畴、c畴、“V”型全闭合畴共存的状态。本研究完善了对全闭合畴结构稳定条件的认识,有利于其在铁电存储器等方面应用的进一步发展。 展开更多
关键词 铁电薄膜 全闭合畴结构 透射电子显微镜 pbtio3
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