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题名Pd/V_2O_5薄膜的氢气敏感性质研究
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作者
余海湖
史勇
吴银伟
黄金山
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机构
武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室
武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室
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出处
《武汉理工大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第11期6-8,13,共4页
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基金
国家自然科学基金重点项目(60537050)
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文摘
采用磁控溅射法制备了不同厚度的Pd/V2O5双层复合薄膜,采用紫外-可见光分光光度计研究了薄膜的氢气敏感性质,原位测量了薄膜的激光拉曼光谱并分析了薄膜的氢气敏感机理。结果表明,复合薄膜V2O5(280 nm)/Pd(30nm)对氢气的敏感性质较好,对0.01%H2-N2有响应,在4%H2-N2标气中,在560 nm处透过率的相对变化值达到25%。拉曼光谱分析结果表明,Pd/V2O5薄膜在与氢气作用过程中,Pd膜主要起催化作用,氢原子扩散到V2O5层,V5+转变为V4+,导致Pd/V2O5薄膜的透过率发生变化。
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关键词
pd/v2o5薄膜
磁控溅射
氢敏性质
气致变色机理
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Keywords
pd/v2o5 thin film
magnetron sputtering
hydrogen-sensing properties
gasochromic mechanism
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分类号
O484.4
[理学—固体物理]
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