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Heat-Resistant Properties of a SiO<sub>2</sub>-Coated PET Film Prepared by Irradiating a Polysilazane-Coated Film with Excimer Light
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作者 Tomoji Ohishi Kousei Ichikawa Satoki Isono 《Materials Sciences and Applications》 2020年第1期58-69,共12页
Flexible electronics have been recently paid much attention. A flexible substrate (Organic resin film) is indispensable component for flexible devices. Though PET film is low-cost organic film, low heat-resistance of ... Flexible electronics have been recently paid much attention. A flexible substrate (Organic resin film) is indispensable component for flexible devices. Though PET film is low-cost organic film, low heat-resistance of PET film limits its application as a flexible device substrate. We have developed heat-resistant PET which does not deteriorate even at 190&deg;C heat treatment for one hour. An excimer light was irradiated onto a polysi-lazane (PHPS: perhydropolysilane)-coated film to form a dense silicon-dioxide (SiO2) layer on a PET film, and the heat-resistance property of the formed film was examined. Changes of surface state and cross-sectional structure of the formed film due to heat treatment were investigated by scanning electron microscope (SEM) and transmission electron microscope (TEM). Compared to normal PET, which is deteriorated and whitened by heat treatment of about 110&deg;C - 120&deg;C, the SiO2-coated PET film maintains transparency and does not deteriorate after heat treatment at 180&deg;C - 190&deg;C for one hour. This high heat resistance is due to a dense SiO2 film formed on the surface that prevents surface precipitation and crystallization of low-molecular-weight oligomers (which are the cause of thermal degradation of PET). It is expected that enhancing the heat resistance of PET—which has high versatility and low cost—to about 180&deg;C to 190&deg;C will allow SiO2-film-coated PET to be developed as a film substrate for flexible devices. 展开更多
关键词 POLYSILAZANE Dense Silica Thin film photo-Irradiation EXCIMER LIGHT Heat resistance PET film Flexible Electronics
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厚胶光刻中曝光光强对光化学反应速率的影响 被引量:2
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作者 唐雄贵 郭永康 +4 位作者 杜惊雷 温圣林 刘波 罗伯靓 董小春 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期36-40,共5页
针对用于厚层光刻的重氮萘醌类正性光刻胶,利用动力学模型,分析了光化学反应速率的影响因素;给出了光化学反应速率明显受光强变化的影响以致互易律失效的原因。对厚度24μm的光刻胶AZP4620在相同曝光量而光强分别为3.2mW/cm2和0.63mW/cm... 针对用于厚层光刻的重氮萘醌类正性光刻胶,利用动力学模型,分析了光化学反应速率的影响因素;给出了光化学反应速率明显受光强变化的影响以致互易律失效的原因。对厚度24μm的光刻胶AZP4620在相同曝光量而光强分别为3.2mW/cm2和0.63mW/cm2的条件下进行了数值模拟和实验。当曝光光强为3.2mW/cm2时仅需300s,即可显影完全,而当曝光光强为0.63mW/cm2时需要的时间长达2400s,才显影完全,且面形轮廓差异较大。因此,在厚胶光刻中,当曝光光强较大时应适当减小曝光量,反之,应适当增加曝光量。 展开更多
关键词 厚胶光刻 光化学反应 光强 动力学模型
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TiO_2/MPMS-SSO光学保护膜的制备与性能研究 被引量:1
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作者 邓亚锋 崔艳华 刘效疆 《有机硅材料》 CAS 2012年第2期69-74,共6页
以正硅酸乙酯、钛酸丁酯、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷(MPMS-SSO)、γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷为原料,通过溶胶-凝胶法制备了Si-Ti杂化涂料、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷(MPMS-SSO)涂料、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷与钛酸丁酯杂化的MPMS-SS... 以正硅酸乙酯、钛酸丁酯、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷(MPMS-SSO)、γ-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷为原料,通过溶胶-凝胶法制备了Si-Ti杂化涂料、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷(MPMS-SSO)涂料、甲基丙烯酰氧基倍半硅氧烷与钛酸丁酯杂化的MPMS-SSO-Ti涂料,并在PMMA上成膜。用FT-IR、UV-VIS、动态摩擦减重测试和TG/DSC等对薄膜的结构、透光率、机械性能和热性能进行表征,并分析了Si-Ti、MPMS-SSO和MPMS-SSO-Ti 3种涂料对PMMA膜的影响。结果表明:Si-Ti、MPMS-SSO、MPMS-SSO-Ti光学保护膜在保持PMMA基片透光率基本不变的同时,有效地提高了耐磨性;MPMS-SSO薄膜的耐磨效果最好,MPMS-SSO膜次之,Si-Ti膜最次。从表面应力、预滑动摩擦力和动摩擦力3个方面分析有机无机杂化膜耐磨性能,能够有效解释涂覆Si-Ti、MPMS-SSO、MPMS-SSO-Ti涂料耐磨性依次提高的事实。Si-Ti、MPMS-SSO、MPMS-SSO-Ti薄膜热稳定性良好,其中MPMS-SSO-Ti薄膜耐热性最好。分析表明,微观上具有规整网络结构的倍半硅氧烷与TiO2杂化对提高薄膜的耐磨性能和热稳定性起着重要作用。 展开更多
关键词 光学保护膜 耐磨性 正硅酸乙酯 钛酸丁酯 甲基丙烯酰氧基 倍半硅氧烷 溶胶-凝胶 涂料
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一种纳米TiO2薄膜负载技术及性能研究
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作者 李协吉 姚亚东 +2 位作者 尹光福 游潘丽 尹兆益 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第F11期120-121,124,共3页
以硅溶胶为成膜粘结剂、高分子聚乙烯醇为成膜助剂,采用粘结成膜法制备纳米TiO2薄膜,考察了所制得薄膜的光催化性能、耐热性、耐腐蚀性等宏观性能以及耐老化性能。实验结果表明,该纳米薄膜对液相和气相甲醛光降解5h,降解率分别达87... 以硅溶胶为成膜粘结剂、高分子聚乙烯醇为成膜助剂,采用粘结成膜法制备纳米TiO2薄膜,考察了所制得薄膜的光催化性能、耐热性、耐腐蚀性等宏观性能以及耐老化性能。实验结果表明,该纳米薄膜对液相和气相甲醛光降解5h,降解率分别达87%和93%以上;其耐热性、耐水性、耐腐蚀性和界面粘结性能优异;耐老化性能优异,对提高基材的抗老化性能有明显的作用。 展开更多
关键词 纳米TIO2薄膜 光催化降解 耐老化 粘结成膜法
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不同衬底材料对光刻胶剖面的影响 被引量:1
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作者 张世权 朱斌 顾霞 《电子与封装》 2013年第8期37-39,共3页
文章研究了在127 mm硅片上分别生长金属铝和二氧化硅氮化硅叠两种IC常用材料作为衬底对光刻胶形貌的影响,其造成光刻胶形貌差的原因是金属底部反射率高导致光刻胶侧面曝光和入射光通过二氧化硅氮化硅叠层厚度的光程差正好为光源波长的... 文章研究了在127 mm硅片上分别生长金属铝和二氧化硅氮化硅叠两种IC常用材料作为衬底对光刻胶形貌的影响,其造成光刻胶形貌差的原因是金属底部反射率高导致光刻胶侧面曝光和入射光通过二氧化硅氮化硅叠层厚度的光程差正好为光源波长的整数倍,从而导致光刻胶底部干涉光同相位。通过增加底部抗反射层和调整最佳膜层厚度解决了在这两种衬底材料下光刻胶形貌差的问题。 展开更多
关键词 光刻胶剖面 抗反射层 薄膜厚度
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MEMS器件刻蚀工艺优化 被引量:1
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作者 孙德玉 马洪江 《微处理机》 2016年第2期8-10,共3页
基于MEMS器件的特殊结构,介绍了硅基电容式传感器MEMS器件刻蚀工艺的实现,工艺包含厚膜光刻、双面对准套刻和深沟槽刻蚀等难点。通过调整掩蔽层光刻胶的厚度,保持较高线宽分辨率的同时实现了硅片深沟槽的刻蚀加工;采用俄罗斯5026A型双... 基于MEMS器件的特殊结构,介绍了硅基电容式传感器MEMS器件刻蚀工艺的实现,工艺包含厚膜光刻、双面对准套刻和深沟槽刻蚀等难点。通过调整掩蔽层光刻胶的厚度,保持较高线宽分辨率的同时实现了硅片深沟槽的刻蚀加工;采用俄罗斯5026A型双面光刻机实现了硅片的对准套刻,成功实现了电容式传感器器件结构的刻蚀工艺,为用户提供了满意的产品,证明了该刻蚀工艺的可行性和实用性。 展开更多
关键词 MEMS器件 光刻胶 厚膜光刻 双面光刻 对准套刻 深沟槽刻蚀
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具有光催化性能的TiO_2-SiO_2/TiO_2两层增透膜的设计与制备 被引量:7
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作者 胡腾 叶龙强 +2 位作者 李文玲 罗健辉 江波 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2014年第8期1778-1782,共5页
采用膜层设计理论设计了以TiO2为内层膜,TiO2-SiO2复合膜为外层膜的两层增透膜,以钛酸丁酯(TBOT)和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备了TiO2溶胶以及SiO2溶胶,将两种溶胶按比例混合得到了TiO2-SiO2复合溶胶,在高硼硅玻璃... 采用膜层设计理论设计了以TiO2为内层膜,TiO2-SiO2复合膜为外层膜的两层增透膜,以钛酸丁酯(TBOT)和正硅酸乙酯(TEOS)作为前驱体,采用溶胶-凝胶法制备了TiO2溶胶以及SiO2溶胶,将两种溶胶按比例混合得到了TiO2-SiO2复合溶胶,在高硼硅玻璃上镀膜测试。透过率测试结果表明,在波长为550 nm处的透过率最高能达到99.4%。在光催化实验中,采用罗丹明B模拟有机污染物,考察了TiO2对光催化反应的影响。结果表明,在TiO2存在的情况下,罗丹明B的降解速度大大提高,光催化效率显著增加。 展开更多
关键词 复合膜 两层增透膜 耐摩擦 光催化
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光刻胶剥离制程中的寄生栅极效应 被引量:2
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作者 刘丹 黄中浩 +9 位作者 刘毅 吴旭 闵泰烨 管飞 方亮 齐成军 谌伟 赵永强 宁智勇 方皓岚 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2022年第10期1317-1325,共9页
在薄膜晶体管(Thin film transistor,TFT)的公共电极制程中,有部分TFT样品的漏电流(I_(off))异常偏高,该部分样品经历同一个光刻胶剥离设备,导致该设备暂停流片,造成产能损失。明确该剥离设备造成TFT漏电流偏高的原因并予以解决,对产能... 在薄膜晶体管(Thin film transistor,TFT)的公共电极制程中,有部分TFT样品的漏电流(I_(off))异常偏高,该部分样品经历同一个光刻胶剥离设备,导致该设备暂停流片,造成产能损失。明确该剥离设备造成TFT漏电流偏高的原因并予以解决,对产能和品质确保具有积极意义。本文首先收集了异常设备剥离液和正常设备的剥离液并分析成分,发现异常设备的剥离液中Al离子含量高。其次,发现TFT的I_(off)会随着在异常设备流片次数的增加而上升。其原因是Al离子在剥离制程生成Al_(2)O_(3)颗粒,该颗粒附着在TFT器件钝化层上形成寄生栅极效应,最终造成I_(off)增加。最后,结合TRIZ输出解决方案,并优选方案进行改善验证。实验结果表明,剥离液中的Al离子浓度由1×10^(-8)上升到2.189×10^(-6)时,I_(off)由3.56 pA上升到7.56 pA。当剥离液中含有Al离子,经历的剥离次数增加时,I_(off)呈上升趋势。钝化层成膜前的等离子体处理功率增强、钝化层膜厚增加可以抑制I_(off)增加。由此,可以确定剥离设备造成I_(off)偏高的原因是剥离液中的Al离子形成的寄生栅极效应,钝化层成膜前处理强化和膜厚增加均可以抑制该效应。 展开更多
关键词 薄膜晶体管 光刻胶剥离 Al离子 寄生栅极效应 发明问题解决理论
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涂胶膜厚优化试验与控制方法 被引量:5
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作者 洪诗捷 沈奕 《现代显示》 2005年第11期44-46,共3页
针对本公司目前所用RC-550涂胶机,对影响涂胶膜厚的主要参数(胶轮压力、光刻胶粘度和流量以及胶轮转动速度等)进行试验,得出光刻胶涂布的最优化条件,并对如何获得稳定的涂胶膜厚提出合理化建议。
关键词 液晶显示器 光刻胶 膜厚 RC-550涂胶机 胶轮压力 光刻胶粘度
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Patterning Technology of Ferrite and Insulating Material in a Single Layer of the Multilayer Ceramic Device
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作者 Minami Takato Aki Kenmochi +2 位作者 Toshiki Fujino Ken Saito Fumio Uchikoba 《New Journal of Glass and Ceramics》 2012年第3期105-110,共6页
Patterning technology of ferrite and insulating material in multilayer ceramic devices is proposed. In the conventional technology, the different ceramic materials such as the ferrite and the insulating material have ... Patterning technology of ferrite and insulating material in multilayer ceramic devices is proposed. In the conventional technology, the different ceramic materials such as the ferrite and the insulating material have been prepared in the form of the each different green sheet, and then they have been stacked each other. Otherwise the different material has filled cavities that were formed by a mechanical punching in advanced. In our proposing technology, arbitrary patterning of the different ceramic material inside the same green sheet is possible. In this process, the arbitrary shape of the through pattern is formed in the green sheet of the base material by making use of photo resist films as sacrifice patterns, and then the base material is masked by the patterned photo resist film. After filling the slurry of the different material into the through pattern of the base material passing the resist mask, the pattern of the different ceramic material in the green sheet is achieved. In the present paper, the ferrite magnetic material and the alumina-glass composite material are used. The patterned structure inside the green sheet is obtained. The slurry preparation, the thickness of the mask resist film, and the obtained structure of the green sheet are discussed. 展开更多
关键词 LTCC FERRITE PATTERNING Green SHEET photo resist film
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