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题名大口径光学系统综合像差外场检测的方法
被引量:3
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作者
周文超
彭勇
徐宏来
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机构
中国工程物理研究院应用电子学研究所
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出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2008年第S1期155-157,共3页
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文摘
分析了大口径光学系统的结构特点,介绍了在外场应用中产生综合像差的主要原因和像差特征,对常规测试手段的不足进行了描述,提出了以一定距离处的点源激光作为探测光、以哈特曼探测其波前畸变的测量方法,着重描述了测试过程和数据处理方法,最后通过实验验证了方法的可行性。结果表明该方法简单可行,适合外场检测和评价光学系统综合像差,并可为大口径光学系统现场安装提供技术指导。
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关键词
综合像差
外场检测
点源激光
波前测量
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Keywords
Integrative aberration
In the outfield
Spot source light
Wavefront measurement
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分类号
TH74
[机械工程—光学工程]
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题名光刻镜头象质测试方法
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作者
周明宝
杜春雷
林大键
郭勇
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机构
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室
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出处
《光电工程》
CAS
CSCD
1998年第1期39-44,共6页
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文摘
提出了一种用于测量紫外光或深紫外光光斑位置的新方法,并将这种方法同传统的哈特曼检验法结合起来形成了一种测试光刻镜头象质的新方法。这种方法测量原理简单、测量精度高。在不采取隔振和恒温措施的实验室环境下,横向象差的测量精度为-1.2~+1.1μm,重复测量精度为-1.7μm<3σ<1.7μm。
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关键词
光刻镜头
象差测量
光斑位置
紫外光
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Keywords
photolithographic lenses,aberration measurement,light spots.
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分类号
TN206
[电子电信—物理电子学]
TN740.6
[电子电信—电路与系统]
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