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OMR-85光刻胶的研究与应用
1
作者
章文红
《微电子技术》
2002年第3期51-53,共3页
在半导体制造中 ,光刻胶是重要的原材料之一。本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM 85光刻胶进行了研究 ,得出了用于大生产的一套工艺。解决了接触式曝光方式粘版的问题及提高了产能。
关键词
光刻胶
感光灵敏度
图形变换差
接触式曝光
下载PDF
职称材料
题名
OMR-85光刻胶的研究与应用
1
作者
章文红
机构
无锡华晶微电子股份有限公司
出处
《微电子技术》
2002年第3期51-53,共3页
文摘
在半导体制造中 ,光刻胶是重要的原材料之一。本文从转速与膜厚、感光灵敏度、图形变化差等方面对ORM 85光刻胶进行了研究 ,得出了用于大生产的一套工艺。解决了接触式曝光方式粘版的问题及提高了产能。
关键词
光刻胶
感光灵敏度
图形变换差
接触式曝光
Keywords
phtotresist
Sensitivity
Linearity
Contact exposure
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
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作者
出处
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1
OMR-85光刻胶的研究与应用
章文红
《微电子技术》
2002
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