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物理气相沉积薄膜的界面与附着力
被引量:
14
1
作者
谢致薇
蒙继龙
王国庆
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期203-209,213,共8页
近十多年来 ,气相沉积技术发展十分迅速 ,无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果 ,尤其在PVD薄膜的附着力方面 ,研究十分活跃。本文根据有限的资料 ,初步归纳出 :在PVD过程中 ,膜 /基附着力与基体表面活性密切相关 ;薄膜与基...
近十多年来 ,气相沉积技术发展十分迅速 ,无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果 ,尤其在PVD薄膜的附着力方面 ,研究十分活跃。本文根据有限的资料 ,初步归纳出 :在PVD过程中 ,膜 /基附着力与基体表面活性密切相关 ;薄膜与基体之间也可以化学吸附形式结合 ,形成界面化合物 ;也可借助离子的轰击作用形成结合良好的扩散过渡层 ;膜 /基界面之间不匹配将使附着力下降 ,可通过设置过渡层 (梯度层 )
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关键词
物理气相沉积
薄膜
附着力
界面
过渡层
制备
基体
表面活性
界面结合形式
下载PDF
职称材料
物理气相沉积薄膜附着性的影响因素
2
作者
张西鹏
范洪远
李伟
《新技术新工艺》
北大核心
2003年第2期42-45,共4页
综述了关于薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要因素 。
关键词
物理气相沉积
薄膜
界面
附着性
PVD
下载PDF
职称材料
题名
物理气相沉积薄膜的界面与附着力
被引量:
14
1
作者
谢致薇
蒙继龙
王国庆
机构
华南理工大学机械电子工程系
广东工业大学材料系
出处
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期203-209,213,共8页
文摘
近十多年来 ,气相沉积技术发展十分迅速 ,无论在理论研究还是应用研究上都取得了丰硕的成果 ,尤其在PVD薄膜的附着力方面 ,研究十分活跃。本文根据有限的资料 ,初步归纳出 :在PVD过程中 ,膜 /基附着力与基体表面活性密切相关 ;薄膜与基体之间也可以化学吸附形式结合 ,形成界面化合物 ;也可借助离子的轰击作用形成结合良好的扩散过渡层 ;膜 /基界面之间不匹配将使附着力下降 ,可通过设置过渡层 (梯度层 )
关键词
物理气相沉积
薄膜
附着力
界面
过渡层
制备
基体
表面活性
界面结合形式
Keywords
physical vapor deposition
,
films
,
adhesion
,
interface
,
median layer
分类号
O484 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
物理气相沉积薄膜附着性的影响因素
2
作者
张西鹏
范洪远
李伟
机构
四川大学制造学院材料成型及控制系
出处
《新技术新工艺》
北大核心
2003年第2期42-45,共4页
文摘
综述了关于薄膜附着性能的研究进展 ,总结了影响附着性的主要因素 。
关键词
物理气相沉积
薄膜
界面
附着性
PVD
Keywords
physical vapor deposition
,thin film,
interface
,
adhesion
分类号
TG174.444 [金属学及工艺—金属表面处理]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
物理气相沉积薄膜的界面与附着力
谢致薇
蒙继龙
王国庆
《真空科学与技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001
14
下载PDF
职称材料
2
物理气相沉积薄膜附着性的影响因素
张西鹏
范洪远
李伟
《新技术新工艺》
北大核心
2003
0
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职称材料
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