全口义齿上颌后牙区堤位置对Piezography中性区印模影响的初步研究

目的:初步探讨全口义齿上颌后牙区堤颊舌向位置对下颌Piezography中性区印模颊舌向位置的影响。方法:在临床门诊选择无牙颌患者5例,设定2种全口义齿上颌后牙区堤颊侧缘位置:1)与上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线重合(B-0);2)位于上颌基托颊侧缘在咬合平面投影线偏舌侧3mm(B-3)。采用Piezography发音法制取下颌中性区印模,通过数字图像处理,测量印模面磨牙区(M),磨牙与双尖牙交界区(MP),双尖牙区(P)及前牙正中部(AC)的唇颊舌向位置变化,并使用配对T检验进行统计学分析(显著性水平α=0.05)。结果:在B-3条件下,MP和P的颊侧缘及颊舌中点的位置较B-0条件下的更偏向舌侧(P<0.05),且更接近牙槽嵴顶,M和AC各部位的位置虽与B-0条件下的无显著差异,但存在偏向舌侧的倾向。结论:全口义齿上颌后牙区堤偏向舌侧设定可引起下颌Piezography中性区印模颊侧缘同向偏移,有利于下颌人工牙排列更接近于牙槽嵴顶。

两种流动性硅橡胶组合应用于Piezography中性区印模法初探

目的探讨2种流动性硅橡胶印模材组合应用于Piezography中性区印模法并初步分析印模形态稳定性。方法选择牙槽嵴严重吸收的无牙颌患者1例,组合中流动性和高流动性2种硅橡胶印模材,利用Piezography发音法制取下颌中性区印模,测量分析其咬合面不同部位水平位置稳定性。结果制取的下颌中性区印模抛光面形态光滑完整。两侧后牙区咬合面不同位置的间距最大变异系数(C.V)为2.49%,颊侧缘间距C.V较舌侧缘小。双尖牙区各间距C.V较磨牙区小,稳定性高。前牙区正中部唇舌向中点的水平位置稳定性较唇侧和舌侧高。结论将2种流动性硅橡胶印模材组合应用于Piezography中性区印模的方法可提高临床效率,印模抛光面光滑,后牙区颊侧形态和位置稳定。