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FMD及血清BigET-1、IgE对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性
1
作者
谢自强
《中国医学创新》
CAS
2022年第10期151-155,共5页
目的:研究血管扩张功能(FMD)及血清血浆大内皮素-1(BigET-1)、免疫球蛋白E(IgE)对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性。方法:选取2020年3月-2021年3月赣州市人民医院收治的72例冠心病患者为观察组,将同期70例健康体检者为...
目的:研究血管扩张功能(FMD)及血清血浆大内皮素-1(BigET-1)、免疫球蛋白E(IgE)对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性。方法:选取2020年3月-2021年3月赣州市人民医院收治的72例冠心病患者为观察组,将同期70例健康体检者为对照组。检测两组血浆大内皮素-1(BigET-1)、免疫球蛋白E(IgE)及血管扩张功能(FMD)水平。采用工作特征曲线(ROC)分析BigET-1、IgE及FMD对CHD患病的诊断价值。按照根据Gensini评分将观察组分为轻度组、中度组和重度组。比较不同病情严重程度患者的BigET-1、IgE及FMD水平。采用Spearman相关性检验分析BigET-1、IgE及FMD与CHD患者病情严重程度的相关性。结果:观察组血清BigET-1、IgE水平均高于对照组,FMD水平低于对照组,差异均有统计学意义(P<0.05)。经ROC曲线分析,血清BigET-1、IgE水平及FMD对CHD均具有较高诊断价值,其AUC分别为0.888、0.998、0.951,敏感度分别是0.871、0.986、0.871,特异度分别是0.792、0.972、0.958。重度组BigET-1、IgE水平均高于轻、中度组,FMD水平均低于轻、中度组,且中度组BigET-1、IgE水平均高于轻度组,FMD水平低于轻度组,差异均有统计学意义(P<0.05)。Spearman相关性分析显示,BigET-1、IgE水平与CHD病情严重程度呈正相关,FMD与病情呈负相关(P<0.05)。结论:CHD患者病情严重程度与FMD及血清BigET-1、IgE水平密切相关,可有效评估CHD病情情况。
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关键词
冠心病
血浆大内皮素-
1
免疫球蛋白E
FMD
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职称材料
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
2
作者
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻...
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
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关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
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职称材料
题名
FMD及血清BigET-1、IgE对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性
1
作者
谢自强
机构
江西省赣州市人民医院
出处
《中国医学创新》
CAS
2022年第10期151-155,共5页
文摘
目的:研究血管扩张功能(FMD)及血清血浆大内皮素-1(BigET-1)、免疫球蛋白E(IgE)对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性。方法:选取2020年3月-2021年3月赣州市人民医院收治的72例冠心病患者为观察组,将同期70例健康体检者为对照组。检测两组血浆大内皮素-1(BigET-1)、免疫球蛋白E(IgE)及血管扩张功能(FMD)水平。采用工作特征曲线(ROC)分析BigET-1、IgE及FMD对CHD患病的诊断价值。按照根据Gensini评分将观察组分为轻度组、中度组和重度组。比较不同病情严重程度患者的BigET-1、IgE及FMD水平。采用Spearman相关性检验分析BigET-1、IgE及FMD与CHD患者病情严重程度的相关性。结果:观察组血清BigET-1、IgE水平均高于对照组,FMD水平低于对照组,差异均有统计学意义(P<0.05)。经ROC曲线分析,血清BigET-1、IgE水平及FMD对CHD均具有较高诊断价值,其AUC分别为0.888、0.998、0.951,敏感度分别是0.871、0.986、0.871,特异度分别是0.792、0.972、0.958。重度组BigET-1、IgE水平均高于轻、中度组,FMD水平均低于轻、中度组,且中度组BigET-1、IgE水平均高于轻度组,FMD水平低于轻度组,差异均有统计学意义(P<0.05)。Spearman相关性分析显示,BigET-1、IgE水平与CHD病情严重程度呈正相关,FMD与病情呈负相关(P<0.05)。结论:CHD患者病情严重程度与FMD及血清BigET-1、IgE水平密切相关,可有效评估CHD病情情况。
关键词
冠心病
血浆大内皮素-
1
免疫球蛋白E
FMD
Keywords
Coronary heart disease
plasma large endothelin-1
Immunoglobulin E
FMD
分类号
R541.4 [医药卫生—心血管疾病]
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职称材料
题名
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
被引量:
5
2
作者
董启明
郭小伟
机构
电子科技大学光电信息学院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012年第5期558-564,共7页
基金
The National Natural Science Foundation of China(No.60906052)
文摘
表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.
关键词
干涉光刻
表面等离子体激元
克莱舒曼结构
Keywords
Interference lithography
Surface plasmon plortiton
Kretschmann structureCLCN: TN305.7 Document Code:A Article ID:
1
004-42
1
3(20
1
2)05-0558-70 IntroductionThere is a growing interest in exploring new nanolithography techniques with high efficiency,low cost and
large
-area fabrication to fabricate nanoscale devices for nanotechnology applications.Conventional photolithography has remained a useful microfabrication technology because of its ease of repetition and suitability for
large
-area fabrication[
1
].The diffraction limit,however,restricts the fabrication scale of photolithography[2].Potential solutions that have actually been pursued require increasingly shorter illumination wavelengths for replicating smaller structures.It is becoming more difficult and complicated to use the short optical wavelengths to reach the desired feature sizes.Other methods such as electron beam lithography[3],ion beam lithography[4],scanning probe lithography[5],nanoimprint lithography(NIL)[6],and evanescent near-field optical lithography(ENFOL)[7] have been developed in order to achieve nanometer-scale features.As we know,the former three techniques need scanning and accordingly are highly inefficient.In NIL,the leveling of the imprint template and the substrate during the printing process,which determines the uniformity of the imprint result,is a challenging issue of this method.ENFOL have the potential to produce subwavelength structures with high efficiency,but it encounters the fact that the evanescent field decays rapidly through the aperture,thus attenuating the transmission intensity at the exit plane and limiting the exposure distance to the scale of a few tens of nanometers from the mask.In recent years,the use of surface-plasmon polaritons(SPPs) instead of photons as an exposure source was rapidly developed to fabricate nanoscale structures.SPPs are characterized by its near field enhancement so that SPP-based lithography can greatly extend exposure depth and improve pattern contrast.Grating-assisted SPP interference,such as SPP resonant interference nanolithography[8] and SPP-assisted interference nanolithography[9],achieved a sub-
1
00nm interference pattern.The techniques,however,are necessary to fabricate a metal grating with a very fine period and only suitable for small-area interference.To avoid the fabrication of the metal grating,a prism-based SPP maskless interference lithography was proposed in 2006,which promises good lithography performance.The approach offers potential to achieve sub-65nm and even sub-32nm feature sizes.However,the structure parameters are always not ideal in a real system.One wants to know how much influence the parameter variations have on the pattern resolution and what variations of the parameters are allowed to obtain an effective interference.Thus,it is necessary to explore the parameter spaces.
1
SPP maskless interference lithography systemThe SPP maskless interference lithography system is shown in Fig.
1
.A p-polarized laser is divided into two beams by a grating splitter,and then goes into the prism-based multilayer system.Under a given condition,the metal film can exhibit collective electron oscillations known as SPPs which are charge density waves that are characterized by intense electromagnetic fields confined to the metallic surface.If the metal layer Fig.
1
Schematic for SPP maskless interference lithography systemis sufficiently thin,
plasma
waves at both metal interfaces are coupled,resulting in symmetric and antisymmetric SPPs.When the thickness h of metal film,dielectric constant ε
1
,ε2,ε3 of medium above,inside,below the metal film are specified,the coupling equation is shown as followstanh(S2h)(ε
1
ε3S22+ε22S
1
S3)+(ε
1
ε2S2S3+ε2ε3S
1
S2)=0
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
FMD及血清BigET-1、IgE对冠心病患者的诊断价值及其与病情严重程度的相关性
谢自强
《中国医学创新》
CAS
2022
0
下载PDF
职称材料
2
表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)
董启明
郭小伟
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2012
5
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职称材料
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