ITO玻璃在线等离子体清洗的研究

通过在线等离子体清洗的玻璃基片表面沉积的ITO (或SiO2 )膜 ,不仅具有优良的光电特性 ,而且提高了膜层在基片上的附着力。与未经在线等离子体清洗的基片沉积的ITO膜相比 ,膜层附着力提高了 3.5倍。此项成果已在ITO膜透明导电玻璃连续生产线上得到应用。

ITO透明导电膜的湿法制备与性能研究

以聚乙烯基吡咯烷酮为分散剂制备了氧化铟锡(ITO)溶胶,通过涂布的方式将其制备成ITO透明导电膜,考察了不同热处理温度及表面粗糙度对ITO薄膜性能的影响。结果表明:ITO溶胶颗粒粒度分布较窄,分散性好;随着热处理温度的升高,ITO薄膜的导电性和透光性均逐渐增强;相同热处理温度下,薄膜表面粗糙度越低越有利于获得低电阻率、高透光率的ITO薄膜。

阵列式高频热流信号薄膜传感器制备工艺与参数研究

阵列式高频热流信号柔性薄膜传感器在流体力学风洞试验中有着十分重要的应用前景。聚酰亚胺具有优良的力学性能、化学稳定性和耐高温特性,是微加工制备薄膜传感器的理想衬底材料之一。但该材料表面有疏水基团,制备的金属镀层极容易被破坏,降低了应用价值。针对阵列式高频热流信号柔性薄膜传感器制备中衬底材料与镀层金属结合力欠佳的情况,使用等离子体表面处理技术改善聚酰亚胺薄膜表面的亲水性,提高了与金属材料的结合力。同时根据光刻胶紫外曝光变性的特点,通过匀胶与光刻工艺相结合的方式,将设计的传感器图案转移到薄膜上。再使用磁控溅射镀膜机对所需金属层进行物理沉积,实现微纳米图案化薄膜传感器的制备,并且对磁控溅射这一关键工艺步骤定性研究确定最佳溅射功率和时间等参数。

表面等离子体无掩膜干涉光刻系统的数值分析(英文)

表面等离子体激元具有近场增强效应,可以代替光子作为曝光源形成纳米级特征尺寸的图像.本文数值分析了棱镜辅助表面等离子体干涉系统的参量空间,并给出了计算原理和方法.结果表明,适当地选择高折射率棱镜、低银层厚度、入射波长和光刻胶折射率,可以获得高曝光度、高对比度的干涉图像.入射波长为431nm时,选择40nm厚的银层,曝光深度可达200nm,条纹周期为110nm.数值分析结果为实验的安排提供了理论支持.

ITO薄膜表面等离子体共振波长的可控调节

采用直流磁控溅射的方式,在浮法玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过改变薄膜沉积时间,制备出不同厚度的ITO薄膜。随着膜厚由16nm逐渐增大到271nm,其结晶程度得到增强,对应的载流子浓度由4.79×1020 cm-3增大到2.41×1021 cm-3,表面等离子体共振(SPR)波长由1802nm逐渐蓝移到1204nm,实现了近红外区域SPR波长较宽范围的可控调节。采用Drude自由电子气模型,对不同厚度ITO薄膜的SPR波长进行了理论计算,进一步证明了SPR波长的有效调节取决于膜厚对载流子浓度的影响作用。