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不同宽长比的柔性LTPS TFT的电应力可靠性
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作者 张之壤 朱慧 +3 位作者 刘行 张轶群 徐朝 郑文轩 《半导体技术》 CAS 北大核心 2024年第6期589-595,共7页
为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱... 为了研究不同宽长比的柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS TFT)的电应力可靠性,测试了器件的I-V特性,以表征器件在强电场直流应力下由于自热效应和热载流子效应带来的电学性能退化。通过瞬态电流法表征了器件在强电场直流应力下的时间常数谱,并对其产生的新陷阱进行定位,分析了产生陷阱的内在机理。结果表明,在相同的强电场直流应力下宽长比为3/2.5的器件,其电学参数变化最大,自热效应以及热载流子效应带来的影响也最大。自热效应导致器件性能退化的主要原因是较大的栅源电压导致Si/SiO2界面处和栅氧化层中的陷阱增多,而热载流子效应导致器件性能退化的主要原因则是由于较大的漏源电压使得漏极晶界陷阱态密度急剧升高。 展开更多
关键词 柔性低温多晶硅薄膜晶体管(LTPS tft) 自热效应 热载流子效应 瞬态电流 强电场直流应力
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多晶硅TFT模型的研究进展
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作者 邓婉玲 郑学仁 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第6期466-469,473,共5页
全面介绍了多晶硅薄膜晶体管(TFT)紧凑模型的现状和应用前景,简单说明了多晶硅TFT特有的电学特性,这是多晶硅TFT建模的基础,重点介绍了基于阈值电压和基于表面势的多晶硅TFT紧凑模型的研究进展,并对这些模型进行了评述,其中RPI模型是基... 全面介绍了多晶硅薄膜晶体管(TFT)紧凑模型的现状和应用前景,简单说明了多晶硅TFT特有的电学特性,这是多晶硅TFT建模的基础,重点介绍了基于阈值电压和基于表面势的多晶硅TFT紧凑模型的研究进展,并对这些模型进行了评述,其中RPI模型是基于阈值电压的TFT模型的典范。虽然TFT模型已经有所发展,但成熟度还远远不够。最后提出了改进多晶硅TFT模型的方向和策略,包括二维器件模拟的应用、基于表面势模型的发展、多晶硅材料特性的应用、统一模型的发展、短沟效应的建模和参数提取等。 展开更多
关键词 多晶硅 薄膜晶体管 紧凑模型
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Poly-Si TFT制备工艺 被引量:4
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作者 刘晓彦 孙卫 +2 位作者 关旭东 翟霞云 韩汝琦 《光电子技术》 CAS 1997年第1期5-8,共4页
在有源矩阵液晶显示中,目前倍受重视的应数多晶硅有源矩阵液晶显示技术。本文较详细地给出了高温多晶硅薄膜晶体管的制备工艺及其特性,并分析讨论了制备条件对多晶硅薄膜晶体管各种参数的影响。
关键词 有源矩阵 液晶显示 多晶硅 薄膜晶体管 AMLCD
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Halo LDDP-Si TFT工艺参数优化 被引量:1
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作者 刘小红 顾晓峰 《电脑知识与技术》 2008年第10期211-212,233,共3页
该文提出了多晶硅薄膜晶体管的一种Halo LDD新结构,Halo LDD结构能够有效地抑制短沟道效应,合理的Halo区掺杂分布会极大地改善小尺寸器件性能。文中采用工艺模拟软件Tsuprem4和器件模拟软件Medici研究模拟了Halo结构的工艺参数对器件... 该文提出了多晶硅薄膜晶体管的一种Halo LDD新结构,Halo LDD结构能够有效地抑制短沟道效应,合理的Halo区掺杂分布会极大地改善小尺寸器件性能。文中采用工艺模拟软件Tsuprem4和器件模拟软件Medici研究模拟了Halo结构的工艺参数对器件性能的影响,并进行优化。分析表明,Halo注入角度、能量和剂量的增大会提高器件的阂值电压和开关比,降低泄漏电流和阀值漂移,有效的抑制热栽流子效应;但也会部分地降低驱动能力,因此,要综合考虑,根据具体的条件,得到Halo结构最佳的工艺参数。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 HALO LDD 模拟
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Halo LDD多晶硅TFT载流子效应研究
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作者 吕志娟 钟传杰 《微计算机信息》 2009年第19期238-239,198,共3页
基于Tsuprem4和Medici模拟软件,研究了HaloLDD多晶硅薄膜晶体管工艺参数对热载流子效应的影响。结果表明,器件的热载流子效应随着Halo区掺杂剂量的增加而变得更加严重;随着掺杂能量的增加,热载流子退化均表现为先增加后减小的变化趋势,... 基于Tsuprem4和Medici模拟软件,研究了HaloLDD多晶硅薄膜晶体管工艺参数对热载流子效应的影响。结果表明,器件的热载流子效应随着Halo区掺杂剂量的增加而变得更加严重;随着掺杂能量的增加,热载流子退化均表现为先增加后减小的变化趋势,在80KeV退化最为严重。 展开更多
关键词 多晶硅tft HALO LDD结构 热载流子退化 MEDICI Tsuprem4
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有源矩阵液晶显示器的薄膜晶体管技术 被引量:1
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作者 史永基 史建军 史红军 《传感器世界》 2003年第2期10-14,共5页
全文描述了应用于有源矩阵液晶显示器领域的各种薄膜晶体管技术,本期主要介绍多晶硅薄膜晶体管技术,给出了其主要类型、工作原理及性能,以及生产制作中的关键性技术。
关键词 有源矩阵 液晶显示器 薄膜晶体管 平板显示 多晶硅 AMLCD
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多晶硅薄膜晶体管RPI模型的直流参数提取
7
作者 邓婉玲 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期194-198,209,共6页
多晶硅薄膜晶体管(TFT)在有源液晶显示器中的应用充分显示了它的性能优点。对多晶硅TFT进行模型分析和参数提取是理解多晶硅TFT工作原理和指导制备的有效途径。归纳并讨论了多晶硅薄膜晶体管RPI模型直流参数的提取策略。此参数提取步骤... 多晶硅薄膜晶体管(TFT)在有源液晶显示器中的应用充分显示了它的性能优点。对多晶硅TFT进行模型分析和参数提取是理解多晶硅TFT工作原理和指导制备的有效途径。归纳并讨论了多晶硅薄膜晶体管RPI模型直流参数的提取策略。此参数提取步骤简单,并能准确地提取所有工作区的基本直流参数,如阈值电压、漏源区串联寄生电阻、有效沟道长度、迁移率等。参数提取的方法将为RPI模型的电路仿真提供有益的参考。最后,提出了改进RPI模型参数提取策略的方向,包括提高泄漏电流参数、迁移率参数的准确度等。 展开更多
关键词 多晶硅 薄膜晶体管 参数提取 RPI模型 迁移率
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AMOLED像素电路的设计与仿真研究 被引量:3
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作者 沈匿 林祖伦 +3 位作者 陈文彬 祁康成 王小菊 杨隆杰 《电子器件》 CAS 2011年第5期550-554,共5页
为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并... 为了解决驱动管阈值电压漂移带来的OLED亮度不均匀的问题,介绍了一种新的AMOLED四管像素电路,利用HSPICE仿真软件详细分析了电路各参数对其输出特性的影响,同时给出了参数设计的方法。最后从延长OLED的使用寿命出发,对电路进行了改进并根据已设计的参数进行了仿真,结果表明改进后的电路功能不变,且在驱动阶段,驱动电流变化为0.01μA,小于一个灰阶对应的电流,满足显示的要求。 展开更多
关键词 AMOLED 四管像素驱动电路 仿真 阈值电压漂移 多晶硅薄膜晶体管
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多晶硅三端有源矩阵的进展
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作者 禹芳 《光电子技术》 CAS 1992年第2期104-113,共10页
非晶硅材料的开关速度及驱动电流小,无法用于液晶显示的驱动集成电路。而多晶硅具有两方面的优势:一是高迁移率(10~100cm^2/V·s),可为象素提供足够大的电流以达到高速驱动;二是行扫描器以及灰度等级驱动器可在显示器的玻片上制成... 非晶硅材料的开关速度及驱动电流小,无法用于液晶显示的驱动集成电路。而多晶硅具有两方面的优势:一是高迁移率(10~100cm^2/V·s),可为象素提供足够大的电流以达到高速驱动;二是行扫描器以及灰度等级驱动器可在显示器的玻片上制成,这将大大地降低学引线的数目、价格和增加可靠性。 展开更多
关键词 多晶硅 有源矩阵 薄膜晶体管
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多晶硅薄膜晶体管泄漏区带间隧穿电流的建模 被引量:1
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作者 李树花 李斌 吴为敬 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2009年第3期64-67,共4页
讨论了带间隧穿(BBT)效应在多晶硅薄膜晶体管所有的泄漏机制中占主导地位的条件因素,说明了在高场或低温情况下,泄漏电流主要来自带间隧穿.考虑了BBT的两个产生区域——栅漏交叠处和靠近漏端的PN结耗尽区,分析了陷阱态密度以及掺杂浓度... 讨论了带间隧穿(BBT)效应在多晶硅薄膜晶体管所有的泄漏机制中占主导地位的条件因素,说明了在高场或低温情况下,泄漏电流主要来自带间隧穿.考虑了BBT的两个产生区域——栅漏交叠处和靠近漏端的PN结耗尽区,分析了陷阱态密度以及掺杂浓度对BBT电流的影响,最后提出了一个适用于多晶硅薄膜晶体管泄漏区的带间隧穿电流模型. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 带间隧穿效应 泄漏区
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AM-OLED四管像素驱动电路特性研究 被引量:7
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作者 郭英英 李荣玉 +2 位作者 梁宝闻 王帅 陈秀锦 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2008年第6期667-670,共4页
为了消除2-TFT像素驱动电路中TFT阈值电压变化对OLED像素电流的影响,设计了基于多晶硅的4-TFT像素驱动电路。使用Hspice仿真软件,验证了在该电路中,流过OLED的电流与TFT管的阈值电压无关。同时,通过选择器件参数,保证在像素选通与非选... 为了消除2-TFT像素驱动电路中TFT阈值电压变化对OLED像素电流的影响,设计了基于多晶硅的4-TFT像素驱动电路。使用Hspice仿真软件,验证了在该电路中,流过OLED的电流与TFT管的阈值电压无关。同时,通过选择器件参数,保证在像素选通与非选通期间,都有近似恒定的电流流过OLED。 展开更多
关键词 AM-OLED 4-tft像素驱动电路 多晶硅 Hspice仿真分析
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多晶硅薄膜晶体管kink效应的建模 被引量:1
12
作者 陈婷 李斌 《微电子学与计算机》 CSCD 北大核心 2008年第6期222-224,228,共4页
从kink效应产生的物理机理出发,介绍了目前国内外研究多晶硅薄膜晶体管kink电流所采用的两种主要方法.一种是基于面电荷的方法,另一种是基于求雪崩倍增因子的方法.kink效应具体表现为器件在饱和区跨导和漏电流的显著增加.在数字电路中,k... 从kink效应产生的物理机理出发,介绍了目前国内外研究多晶硅薄膜晶体管kink电流所采用的两种主要方法.一种是基于面电荷的方法,另一种是基于求雪崩倍增因子的方法.kink效应具体表现为器件在饱和区跨导和漏电流的显著增加.在数字电路中,kink效应会引起功耗的增加和开关特性的退化;而在模拟电路中,kink效应将降低最大增益和共模抑制比.因此,多晶硅薄膜晶体管kink效应的研究对液晶显示的发展具有重大意义. 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK效应 面电荷 倍增因子
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Halo LDD结构多晶硅薄膜晶体管的模拟研究
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作者 刘小红 顾晓峰 于宗光 《电子器件》 CAS 2008年第6期1783-1785,1789,共4页
提出了多晶硅薄膜晶体管的一种Halo LDD新结构,这种结构是在基于LDD结构的基础上,在沟道靠近源、漏端引入高掺杂的Halo区。并利用工艺和器件模拟软件对该Halo LDD P-Si TFT的电学特性进行了分析,并将其与常规结构、LDD结构和Halo结构进... 提出了多晶硅薄膜晶体管的一种Halo LDD新结构,这种结构是在基于LDD结构的基础上,在沟道靠近源、漏端引入高掺杂的Halo区。并利用工艺和器件模拟软件对该Halo LDD P-Si TFT的电学特性进行了分析,并将其与常规结构、LDD结构和Halo结构进行了比较。发现Halo LDD结构的P-Si TFT能有效地降低泄漏电流、抑制阈值电压漂移和Kink效应;减少因尺寸减小后所带来的一系列问题。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 HALO LDD 模拟
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多晶硅薄膜晶体管Kink效应研究与建模
14
作者 陈荣盛 郑学仁 +3 位作者 邓婉玲 姚若河 吴朝晖 吴为敬 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2008年第3期231-234,共4页
多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿... 多晶硅薄膜晶体管(P-Si TFTs)技术在SOP(system on panel)显示应用中发挥着越来越重要的作用。随着尺寸的不断缩小,P-Si TFT的Kink效应越来越明显,对有源液晶显示矩阵和驱动电路的性能影响很大。对发生Kink效应的物理机制、二维数值仿真及其一维解析模型进行了分析,讨论了晶粒边界、沟道长度与Kink效应的关系,提出建立适合电路仿真的一维解析模型的关键与展望。 展开更多
关键词 多晶硅薄膜晶体管 KINK 效应 建模
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对低温多晶硅液晶显示器市场的评估
15
作者 曹燕 《现代显示》 1998年第3期46-49,共4页
低成本高性能显示器是一项长期的技术挑战。由于低温多晶硅技术有很多优点,可制造高性能的薄膜晶体管,从而能得到高清晰度高亮度和低功耗的显示器。本文通过对液晶显示器市场的分析,展望低温多晶硅技术的应用前景。同时对低温多晶硅... 低成本高性能显示器是一项长期的技术挑战。由于低温多晶硅技术有很多优点,可制造高性能的薄膜晶体管,从而能得到高清晰度高亮度和低功耗的显示器。本文通过对液晶显示器市场的分析,展望低温多晶硅技术的应用前景。同时对低温多晶硅与非晶硅作了成本对比。 展开更多
关键词 低温多晶硅 液晶显示器 薄膜晶体管
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Fabrication and characteristics of magnetic field sensors based on nano-polysilicon thin-film transistors
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作者 赵晓锋 温殿忠 +2 位作者 庄萃萃 曹靖雅 王志强 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 2013年第3期127-132,共6页
A magnetic field sensor based on nano-polysilicon thin films transistors(TFTs) with Hall probes is proposed.The magnetic field sensors are fabricated on <100> orientation high resistivity(ρ>500Ω·cm) si... A magnetic field sensor based on nano-polysilicon thin films transistors(TFTs) with Hall probes is proposed.The magnetic field sensors are fabricated on <100> orientation high resistivity(ρ>500Ω·cm) silicon substrates by using CMOS technology,which adopt nano-polysilicon thin films with thicknesses of 90 nm and heterojunction interfaces between the nano-polysilicon thin films and the high resistivity silicon substrates as the sensing layers.The experimental results show that when V_(DS) = 5.0 V,the magnetic sensitivities of magnetic field sensors based on nano-polysilicon TFTs with length-width ratios of 160μm/80μm,320μm/80μm and 480μm/80μm are 78 mV/T,55 mV/T and 34 mV/T,respectively.Under the same conditions,the magnetic sensitivity of the obtained magnetic field sensor is significantly improved in comparison with a Hall magnetic field sensor adopting silicon as the sensing layers. 展开更多
关键词 nano-polysilicon tft magnetic field sensor CMOS technology magnetic sensitivity heterojunction interfaces
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