HLS储存环压强分布计算

在储存环中束流寿命与残气压强息息相关 ,而储存环真空系统的特殊结构又影响压强计算、测量的精确性 ,因此储存环压强的准确读取一直为人们所关注。本文主要介绍合肥光源 (HLS)储存环真空系统压强分布的计算 ,将计算结果与实际运行数据比较 ,两者基本相符 ,因此该计算程序可用于预测。

一种O形橡胶圈的密封强度计算方法

为避免内部锈蚀,锅炉辅机、化工容器、气化炉、太阳能、氢能等槽罐类容器在运输和贮存过程中均要求进行充氮保护,需要对设备现场焊接的管口进行密封。核电等设备一般均要求须采用机械密封方式。本文将立足于容器设备运输和贮存过程中的充氮防护,介绍一种O形橡胶圈在轴向受压工况下机械密封强度的理论计算和校核方法。

基于压力分布的环摆式双面抛光去除均匀性研究

构建了一种基于速度和压力分布模型的材料去除量分布计算模型。建立了环摆式双面抛光的有限元模型,对5种半径的上抛光盘在不同加工压力下与元件接触面的压力分布进行分析,通过拟合得到压力分布特性模型。根据Preston方程,将压力分布模型与速度分布模型耦合,得到材料去除量分布计算模型。通过模拟加工计算,研究加工压力和上抛光盘尺寸对去除量分布及均匀性的影响,发现去除量分布主要受上抛光盘尺寸和摆动距离的影响,去除均匀性主要受加工压力的影响。通过加工实验,对所得到的材料去除量分布计算模型的准确性进行验证,并研究了加工压力和上盘尺寸对材料去除量分布及均匀性的影响。实验结果表明,上抛光盘的直径越大,则加工压力越小,材料去除的均匀性越好。基于去除量分布预测模型,利用得到的规律指导实际加工,选取初始表面面型峰谷(PV)值为2.09λ(λ=632.8 nm)、均方根(RMS)值为0.464λ的熔石英样件,通过材料去除量预测模型得到工艺参数的最优解。加工后元件表面面型PV值降至0.85λ,RMS值降至0.137λ。所提模型将元件表面PV值降低到λ以下的时间缩短至原来的50%,实现了元件表面面型的快速收敛。