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面阵IRCCD摄像芯片用折射微透镜阵列的离子束刻蚀制作 被引量:2
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作者 张新宇 易新建 +1 位作者 何苗 赵兴荣 《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1999年第8期135-136,125,共3页
采用氩离子束刻蚀制作与一种128×128元PtSiIRCCD摄像芯片匹配的单片硅折射微透镜阵列.所制成的微小光学阵列元件的填充系数高于95%,每单元硅折射微透镜为矩底拱面形,其近轴光(3~5μm光谱波段)的焦距约... 采用氩离子束刻蚀制作与一种128×128元PtSiIRCCD摄像芯片匹配的单片硅折射微透镜阵列.所制成的微小光学阵列元件的填充系数高于95%,每单元硅折射微透镜为矩底拱面形,其近轴光(3~5μm光谱波段)的焦距约为80μm。 展开更多
关键词 电荷耦合器件 摄像芯片 折射微透镜阵列
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