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RB-SiC高致密、超光滑SiC表面改性涂层的制备
被引量:
1
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作者
苑永涛
刘红
+3 位作者
陈益超
敬畏
宋宁
方敬忠
《航天返回与遥感》
2011年第6期74-77,共4页
为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径80mm的RB-SiC基片上沉积了厚约60μm的SiC致密改性涂层,使用传统机械抛光方法对改性层进行超光滑加工,并测试了改性前后的表面粗糙度。结果表明,抛光后SiC表面改性RB-...
为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径80mm的RB-SiC基片上沉积了厚约60μm的SiC致密改性涂层,使用传统机械抛光方法对改性层进行超光滑加工,并测试了改性前后的表面粗糙度。结果表明,抛光后SiC表面改性RB-SiC反射镜表面粗糙度均方根(rms)值达到了0.316nm,获得了具有较高光学表面质量的超光滑RB-SiC材料。
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关键词
反应烧结碳化硅
射频磁控溅射
表面改性
材料制备
光学反射镜
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职称材料
题名
RB-SiC高致密、超光滑SiC表面改性涂层的制备
被引量:
1
1
作者
苑永涛
刘红
陈益超
敬畏
宋宁
方敬忠
机构
中国科学院光电技术研究所
出处
《航天返回与遥感》
2011年第6期74-77,共4页
基金
领域前沿部署课题(C09K007)
文摘
为了获得高质量光学表面的碳化硅反射镜,利用射频磁控溅射方法,在直径80mm的RB-SiC基片上沉积了厚约60μm的SiC致密改性涂层,使用传统机械抛光方法对改性层进行超光滑加工,并测试了改性前后的表面粗糙度。结果表明,抛光后SiC表面改性RB-SiC反射镜表面粗糙度均方根(rms)值达到了0.316nm,获得了具有较高光学表面质量的超光滑RB-SiC材料。
关键词
反应烧结碳化硅
射频磁控溅射
表面改性
材料制备
光学反射镜
Keywords
rb-sic rf magnetron sputtering surface modification material preparation optical mirror
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
RB-SiC高致密、超光滑SiC表面改性涂层的制备
苑永涛
刘红
陈益超
敬畏
宋宁
方敬忠
《航天返回与遥感》
2011
1
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